不锈钢的同步辐射光致脱附

电子储存环真空室壁及相连光束线的同步辐射光致脱附 (PSD)严重影响着束流质量和寿命。不锈钢是加速器真空室最常用的材料 ,合肥光源的真空系统即为不锈钢结构。合肥光源在B6a光出口建立了PSD光束线 ,选用长 12 1cm ,内径8 6cm的 30 4L不锈钢真空室作为首件样品 ,用于测试不锈钢不同表面状态的脱附情况 ,结果表明经辉光放电处理的表面脱附系数最低。     

合肥光源XAFS光束线和实验站真空控制系统

国家同步辐射实验室（ＮＳＲＬ）现已装备一台６Ｔｅｓｌａ单周期超导扭摆磁铁（Ｗｉｇｇｌｅｒ），把合肥同步辐射光源的可用范围延伸到Ｘ－射线，以满足部分Ｘ－射线用户的要求。由Ｗｉｇｇｌｅｒ光源引出的３条光束线，分别用于Ｘ－射线吸收精细结构（ＸＡＦＳ），生物大分子晶体多波长反常衍射（ＭＡＤ），Ｘ－射线深度光刻（ＬＩＧＡ）和高分辨Ｘ－射线衍射（ＨＲＸＤ）的研究。本文主要介绍首建的ＸＡＦＳ光束线及其实验站的真空联锁保护与控制系统，概述了光束线前端区的真空保护，解析了光束线真空联锁保护的关键部件—快阀及其控制器，给出了该光束线真空联锁保护与控制的要点以及逻辑控制。     

用于超导扭摆磁铁同步辐射光热负载的吸收器

６Ｔ超导扭摆磁铁的同步辐射光是合肥光源储存环超高真空系统中的强热源。在超高真空室内设置铜吸收器，避免了Ｗｉｇｇｌｅｒ同步辐射光直接照射不锈钢真空室壁。本文描述了热源的功率分布，吸收器上的热负载通量以及吸收器表面的温度分布。     

四极质谱仪在电子诱导脱附实验中的应用

光电解吸气载是同步辐射光束线特有的解吸气载。经研究,光电解吸气载是光束线真空系统动态情况下的主要气载。在整个光电解吸过程中,光电子及二次电子对真空材料表面吸附气体的激发起主要作用。电子诱导脱附实验(ESD)是研究光电解吸过程的重要手段。本课题针对不同材料的样品及不同样品处理工艺情况下,使用MPH 200M四极质谱仪测量样品室中残余气体分压,得到了真空室材料受电子激发后的残余气体成分,并利用上述气体分压计算出主要残气气体成分的电子激发解吸系数同入射电子累积剂量的关系。为光束线真空系统维护提供了实验数据。     

物体表面色的双光束平行检测

介绍了一种用于物体表面色检测的双光束多通道系统,采用脉冲光源模拟标准Ｄ６５有,由ＳＰＤ对颜色进行光谱的平探测,经过精密的光谱定标和光度定标,并结合软件功能,实现了物体色的快速精测量。     

FI—IR研究PP／EPDM共混物表面与本体的结晶形态

用ＦＴ－ＩＲ方法研究了ＰＰ／ＥＰＤＭ共混物表面与本体的结晶形态,结果表明,随着ＥＰＤＭ含的增加,９９７ｃｍ＾－１吸收峰的位置不变,但峰宽变小,测算ＰＰ的结晶度的Ａ９９８／Ａ９７２比值随着变化,从表面与本体比较来看,一是表面ＰＰ结晶状态吸收峰是在９９７．０ｃｍ＾－１,而本体系在９９７．８ｃｍ＾－１即向低波数方向移动;二是表面非结晶状态吸收峰９７２ｃｍ＾－１增加较多,这都都共混物表面与本体ＰＰ结晶度及     

上海光源储存环不锈钢真空室

铝合金和不锈钢都适合制造上海光源储存环的真空室,但各有特色,从而导致不同的加工和成本问题.实质上,不锈钢真空室可以看作是铝合金真空室的一个"内核".上海光源最终采用了不锈钢真空室,其主要理由是加工铝合金真空室时要用数控床切削掉约一半的材料,而加工壁薄不锈钢真空室几乎没有材料的损失.因此,经费大量节省和加工周期大大缩短.但结构复杂的薄壁不锈钢真空室的尺寸精度要做到和机加工铝合金真空室相当,难度极大.在研制了多个样机后,终于解决了成形片尺寸公差和焊接变形等难题,定型了工艺和工装,真空室的尺寸公差得到了控制.长度约3m的每段真空室的平面度和直线度的公差都小于1mm.真空室经900℃真空退火后,焊缝处的导磁率从2.5下降到1.02.真空预调试后真空室内达到5×10 -9Pa的极限真空.400m真空室现场安装后的位置公差都小于2mm.     

紫外线辐照HDPE／PA6共混物界面相互作用的研究

采用ＥＳＣＡ、Ｍｏｌａｕ实验、ＳＥＭ、ＤＳＣ、ＤＭＡ、抽滤分析、ＦＴ－ＩＲ和拉抻应力－应弯曲线，研究了紫外线辐照ＨＤＰＥ／ＰＡ６共混物的界面相互作用机理。结果表明，紫外线辐照下，ＨＤＰＥ分子链上引入Ｃ＝Ｏ、ＣＯＯＨ、－ＯＨ、－ＯＯＨ、－Ｃ－Ｏ－等极性基因；在与ＰＡ６熔融共混过程中， 的Ｃ＝Ｏ、ＣＯＯＨ等基团与ＰＡ６分子我寂的酰胺基或端胺基发生化学反应，生成ＨＤＰＥ－ＰＡ６共聚物。共聚物的形成增强了     

衣康酸接枝PP对PA6／PP共混物增容作用机理的研究

以马来酸酐接枝作对照，用ＥＳＣＡ，ＳＡＸＳ，ＷＡＸＤ，ＳＥＭ、力学性能测试等手段，研究了衣康到接枝对ＰＡ６／ＰＰ共混物和增容作用机理，证实共混物中有ＰＡ－ｃｏ－ｇＰＰ共聚物生成，讨论了ｇＰＰ，ＰＡ－ｃｏ－ｇＰＰ的结构与后者生成量和增容效率之间的关系，提出了ＰＡ－ｃｏ－ＭＰＰ和ＰＡ－ｃｏ－ＩＰＰ的增容作用模型。     

提高Si3N4抗氧化性能的陶瓷涂层

采用Ｓｏｌ－Ｇｅｌ法在热压Ｓｉ３Ｎ４表面涂上一层ＳｉＯ２涂层，用Ｘ光电子能谱（ＸＰＳ）检测了涂覆ＳｉＯ２后Ｓｉ３Ｎ４表面的组成，结果表明，在Ｓｉ３Ｎ４表面有ＳｉＯ２涂层存在，经涂覆 热压Ｓｉ３Ｎ４在１３０℃氧化１００ｈ后，氧化增重从未涂覆的０．４２ｍｇ／ｃｍ＾２降到０．２８ｍｇ／ｃｍ＾２。     

Ti(IV)在介孔氧化硅MCM-41中的液相移植

以钛酸丁酯为原料,通过液相移植反应,在介孔氧化硅ＭＣＭ－４１中成功地组装了Ｔｉ（ＩＶ）,利用ＸＲＤ、ＴＥＭ、ＥＤＳ、ＦＴ－ＩＲ、Ｎ_２吸附－脱附、^２９Ｓｉ ＭＡＳ ＮＭＲ等多种实验方法对材料进行了表征,并讨论了液相移植反应的机理．实验表明,通过与介孔材料骨架表面Ｑ^３硅原子中的硅醇键（Ｓｉ－ＯＨ）的反应而形成钛－氧－硅（Ｔｉ－Ｏ－Ｓｉ）键,Ｔｉ（ＩＶ）被成功地固定到介孔材料的骨架上面; ９５０～９６０ｃｍ^－１红外共振吸收的加强是Ｓｉ－Ｏ－Ｔｉ键形成的标志．     

电子延期雷管光面爆破试验

我们使用电子雷管（ＥＤＳ）与长延时的烟火剂雷管（ＰＤＳ）相互比较，来研究高延时精度的雷管对过限爆破、余岩破坏和表面平整度的影响。试验是在一座深矿井中进行的。试验点周围都是硬花网闪岩，其中地震波的传播速度约６．０千米／秒，单轴抗压强度，单轴抗拉强度和杨氏模量分别是３００ＭＰ，ａ，１２ＭＰａ和７３ＧＰａ。设计的爆破试验是挖掘一横断面为８ｍ＾２的试验巷道，每次爆破用一个掏槽大炮孔，周边炮孔间距０．４ｍ，     

可编程控制器在光束线真空控制系统中的应用

光束线真空联锁保护与控制系统是保障同步辐射加速器与光束线、实验站安全、可靠运行的至关重要的必要设备。采用标准化、高质量的可编程控制器（PLC）为核心的光束线真空控制系统可以提高系统的可靠性、稳定性、抗干扰性和电磁兼容性。本文介绍了合肥同步辐射光源真空联锁保护与控制系统以及PLC在该控制系统中的应用。     

有机硅耐磨涂层的制备及性能研究

制备厚度在０．８～１．７μｍ的有机硅耐磨涂层可以显著地提高光学塑料表面的耐擦伤强度，而对其透光率等性能没有不良影响，对ＰＣ和ＰＳ等光学树脂还有增透作用。涂于ＪＤ树脂上的涂层铅笔硬度可达５～６Ｈ，涂层与各种基材的粘接性能优良，表面均一平整。     

PECVD法淀积氮化硼薄膜场发射特性研究

用 Ｂ２Ｈ６和 ＳｉＨ４作反应气体,通过射频等离子体增强化学气相淀积（ＲＦ－ＰＥＣＶＤ）方法,在 Ｓｉ（１００）面上沉积生长ＢＮ薄膜,用Ｓ－５２０扫描电子显微镜对所得薄膜进行观测,并用红外透射光谱测试分析了膜的成分。在室温、压力为 ８ × １０－４ Ｐａ条件下,对 ＢＮ薄膜的电流一电压特性进行测量,并得到了 Ｆｏｗｌｅｒ－Ｎｏｒｄｈｅｉｍ特性曲线,ＢＮ膜的场发射开启电场为９ Ｖ／μｍ,在电场３７．５ Ｖ／μｍ时,电流密度达到２４．８ ｍＡ／ｃｍ２。     

国外文献速递

薄膜技术９９０６００１用复合ＰＶＤ工艺制备装饰性膜——ＳｈｉｍｐｉＫＣ．Ｓｕｒ－ｆａｃｅ＆ＣｏａｔｉｎｇｓＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ,１９９７,９０（１～２）∶１１５（英文）研究了用反应弧蒸镀和磁控溅射复合工艺在不锈钢基体上制备逐渐过渡的氮化物和金合金薄膜...     

聚醚砜中空纤维超滤膜的研制

考察了ＰＥＳ／ＮＭＰ／ＰＶＰ制膜体系和ＰＥＳ／ＰＥＧ／ＤＭＡｃ制膜体系纺制中空纤维超滤膜的成膜条件,并以ＰＥＧ为添加剂,在ＲＨ为８０％以下,ＰＥＳ质量分数为２２％,ＤＭＡｃ为溶剂时,纺制了对牛血清蛋白的截留率９８％,透水率为４８０Ｌ／（ｍ＾２．ｈ）（０．１ＭＰａ）的内压中空纤维超滤膜;该大７０％的乙醇溶液中运行发生纤维弯曲有,说明该膜处理７０％的乙醇溶液时膜的结构与性能也发生了变化;同时,提出了根     

聚苯醚磺酸盐高分子固体电解质的研究

探讨了磺化聚苯醚及其碱金属盐的导电性规律，发现其锂盐具有较好的单离子传导性，并且室温电导率可达１０＾－６Ｓ／ｃｍ。运用ＤＳＣ、Ｘ射线衍射，电镜对其凝聚态结构进行了分析。     

聚氨酯改性环氧树脂／聚苯乙烯室温同步固化IPNs的结？…

用ＩＲ、ＤＳＣ及ＴＥＭ等手段,表征了聚醚型聚氨酯改性双酚－Ａ型环氧树脂（ＰＵＤＧＥＢＡ）／聚苯乙烯（ＰＳｔ）室温同步固化ＩＰＮ的结构。研究结果表明,所形成的固化产物,在３４２７ｃｍ＾－１处有强而宽的吸收,说明形成强的分子间氢键和较弱的分子内氢键。     

SrTiO3双功能陶瓷的表面效应

通过压制、烧成不同厚度的瓷片,发现在一定的配方和工艺条件下,ＳｒＴｉＯ３双功能陶瓷的压敏电压Ｕ１０ｍＡ与瓷片厚度无关。对瓷片进行单向磨薄后测量表观电阻率,发现ＳｒＴｉＯ３双功能陶瓷表面效应。对本文试样,表面存在存度小于２０μｍ、电阻率大于１０＾６Ω·ｃｍ的高阻层,内部是电阻率小于１０Ω·ｃｍ的低电阻体。表面效应是导致ＳｒＴｉＯ３双功能陶瓷与ＺｎＯ压敏陶瓷导电行为不同的根本原因之一,它是由于热处理时