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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
用电子枪蒸镀TiO_2~SiO_2,用补偿挡板修正膜层厚度分布,在真空室直径为450mm的镀膜机中镀制了口径为300mm和350mm深椭球面型的35mm电影放映座机用的反光镜上的冷反光膜。膜层牢固、防潮、耐高温、化学性能稳定、光、色、温效果良好。  相似文献   

2.
唐仁介 《云光技术》2007,39(2):15-27
三、俯仰扫描用的立方棱镜 所谓立方棱镜,就是由两块直角棱镜按弦面胶合在一起构成的一个立方形复合棱镜。当在这种棱镜的胶合面上镀析光膜时,就是析光棱镜。它经常被用在自准直仪中起分光作用。而在这种棱镜的胶合面上镀反射膜时,则构成图3.1所示的立方棱镜(FLI-O)。这种棱镜经常被用在光学系统中起倒像或补偿像倾斜的作用。  相似文献   

3.
介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍铬铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术所镀制的镍铬铁合金膜进行了性能测试。结果表明:选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层成分与脉冲多弧离子源阴极靶材成分含量误差小于±3% ,符合实际应用要求  相似文献   

4.
一种光纤表面化学镀膜方法的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究采用化学镀膜的方法在光纤端面镀反射膜。分别采用化学镀镍和化学镀银的方法在多种光纤端面镀膜,通过稳定化热处理,提高了镀层的机械性能,并使镀层光反射率的热稳定性显著提高。对光纤端面镀层光反射率的测量表明,化学镀银层的光反射率较高。  相似文献   

5.
介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍络铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术氙镀制的镍络铁合金膜进行了性能测试。结果表明:选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层尬发与脉冲多弧离子源阴析靶材成分含量误差小±3%,符合实际应用要求。  相似文献   

6.
本设计在膜层镀制过程中膜厚控制简单方便,基本上可用传统的光电极值法进行膜厚控制。第一层ZrO_2的厚度约为λ/8,是非λ/4层;第二层MgF_2,稍微超过λ/4极值点;第三层ZrO_2和第四层MgF_2都是在极值点停止蒸发。采用双光路带微分装置的光电膜厚仪。  相似文献   

7.
节能膜是近年来蓬勃发展的功能性薄膜的一种。本文全面分析了节能膜的性能要求,讨论了节能膜的设计,根据设计计算结果给出了几种合适的膜系。对这几种膜系进行了试镀,并讨论了镀制工艺。此外,文章中还讨论了节能膜的牢固度,稳定性,保温、降温效果试验。试验结果表明已镀制出的膜系基本上能达到节能的目的。  相似文献   

8.
针对不能直接在红外光学材料ZnS基底上沉积类金钢石薄膜(下述简称DLC膜)的问题,介绍了在红外光学材料ZnS基底上沉积DLC膜的方法,指出了采用在ZnS基底表面镀制DLC膜的方法,来解决在ZnS基底表面上镀制高效增透膜后,其膜层耐磨强度不足以抵抗恶劣环境的缺点;同时,通过膜系优化设计,利用镀制组合膜层的方法来降低其单面反射率,可改善光学系统的成像质量。  相似文献   

9.
最近,日本防卫大学开发了一种用半绝缘性Pb_2CrO_5薄膜的光传感器阵列。该膜是用电子束蒸镀工艺,在玻璃基片上形成的。  相似文献   

10.
据民主德国《精密仪器技术》1986年10月号报道,英国CVC科学产品公司最近采用了一种新镀膜工艺来镀制光学元件。该公司采用这种新工艺可在金属或非金属基底上镀制一层具有金刚石一样硬的碳素薄膜。这种在真空中喷镀的膜层不仅极硬,而且在红外区还可透光,它特别适用于改善那些曝露于侵蚀性工作条件下(例如,在含砂的空气中、水下以及有金属喷溅危险的工作条件下)的光学系  相似文献   

11.
本文介绍一种透红外冷反射镜反光杯(碗)的光学设计、光学薄膜膜系设计和镀制工艺,特别介绍镀制工艺中膜层的均匀性、冷光膜的重复性、牢固性等的影响因素和解决办法。  相似文献   

12.
为了实现数字影视系统中反光镜较高的光谱要求和良好的膜层特性,深入分析了深椭球反光镜的膜层厚度分布关系,讨论并实践了膜系设计及镀制工艺。使用自行研发设计的高性能冷反光镜专用镀膜机,镀制了光谱特性趋于一致的数字电影反光镜产品,并成功应用于数字电影放映系统。  相似文献   

13.
为了解决膜层层数在一百多层以上的膜系在镀制过程中所必然存在的膜厚均匀性问题,定义了一个与镀膜机的结构参数、工艺参数以及基片几何参数均有关系的均匀性函数。以APS1104镀膜机为实验对象,针对多腔窄带滤光片膜系,根据此函数分析了镀膜机镀制较多层数薄膜时,其膜层厚度沿基片径向的变化规律,确定了影响膜厚均匀性的多种因素,解释了镀制多腔窄带滤光片薄膜成品率低的原因。实验结果证实了分析的正确性。  相似文献   

14.
研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。  相似文献   

15.
张麟  张素英 《光学仪器》2004,26(2):191-193
采用目前PbTe与ZnSe材料镀制的长波红外低温滤光片时,存在低温中心波长漂移、透过率降低,膜层附着度差等缺点。介绍了一种掺锗的PbGeTe材料在长波红外低温滤光片镀制中的应用[1]。该材料能弥补PbTe材料在低温下的缺点,但常温时消光系数大。根据PbGeTe材料的特点,设计时仅把PbGeTe材料作为膜系中心间隔层,使该材料性能在滤光片中充分发挥作用。镀制出的10.8μm长波红外低温滤光片,与用单纯用PbTe材料作为膜系中心间隔层相比,在低温下,具有更好的光学性能及更强膜层附着力[2]。  相似文献   

16.
《光学仪器》2001,23(2):6
北京仪器厂开发的 ZZI- 80 0型真空晶体镀膜机不久前成功面市。该设备用于在真空条件下 ,采用电阻式蒸发源的形式 ,对石英晶片蒸镀一层导电膜 ,通常为铬和银 ,使其形成电极 ,以便被作成各种频率的石英晶体振荡器 ,可适用于表晶晶振器和高频振器的厂家。其特点为 :(1 )整个镀膜过程是在真空、恒温、自动控制中进行的 ,保证了膜层的均匀性、一致性及膜层的牢固度。 (2 )在连续高温烘烤的环境中 ,1 8个工位的夹具连续 60°~ 1 2 0°翻转 ,夹具定位准确 ,无噪音、无卡滞现象 ,确保一次蒸镀的 60 4 8个晶片上每个被镀表面蒸镀上均匀、牢固的膜…  相似文献   

17.
采用表面活性剂将蛇纹石、纳米二氧化铈以及他们的混合物稳定分散于PAO4基础油中,利用摩擦磨损试验机分别考察蛇纹石、纳米二氧化铈以及蛇纹石与二氧化铈混合物作为润滑油添加剂的摩擦学性能,借助金相显微镜观察磨损表面形貌并测量磨斑直径,并采用能量色散谱仪(EDS)分析磨损表面的元素组成。结果表明:蛇纹石、纳米CeO_2和蛇纹石/CeO_2复合颗粒都可以显著改善润滑油的减摩抗磨性能,而添加蛇纹石/CeO_2复合添加剂的润滑油的摩擦学性能更佳,其中添加质量分数0.25%纳米二氧化铈与0.25%蛇纹石混合物的润滑油的摩擦学性能最佳。蛇纹石/CeO_2复合颗粒优异的摩擦学性能归因于其在磨损表面形成了吸附膜和Fe_2O_3、SiO_2化学反应膜,其中Ce元素可能起到了催化剂的作用。  相似文献   

18.
在平面型光学元件的表面真空蒸镀光学薄膜时,一般地是将待镀元件置于高真空室的载物盘上进行的。如果有特殊要求时(如蒸镀楔形膜),则将待镀元件倾斜地夹持在真空室内进行蒸镀。而对圆柱形光学零件或其他圆柱形物体表面蒸镀光学薄膜时,用上述方法就难以实现了。例如,欲在一个圆柱形物体外圆柱面蒸镀薄膜时,若采取使之与镀膜机工作台台面平行放置的方式,要进行三次蒸镀,尚不能保证膜层的均匀性,因为只有每次使它沿轴线翻转120°位置才能使整个外圆柱面都能蒸镀上光学薄膜。假如倾斜地将它夹持在真空室内时,则至少应蒸镀六次才能使膜层较均匀,因为要消除高、低差造成的不均匀结果,必须将圆柱体二端交换位置蒸镀。这样显然是复杂的,而且不  相似文献   

19.
DLD 系列多弧离子镀膜设备该镀膜机包括 DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料  相似文献   

20.
北京仪器厂生产的DM-450A型真空镀膜机,在1994年,被机械部评为优等品。该产品是在真空中蒸发金属或其它物质,使零件表面获得所需要的膜层的设备。该设备主要用来蒸镀光学镜片的反射膜、透射膜及各种滤光膜,也可用来镀制无线电半导体所需的各种电学膜和轻  相似文献   

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