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EDA技术是用于电子产品设计中比较先进的技术,可以代替设计者完成电子系统设计中的大部分工作,而且可以直接从程序中修改错误及系统功能而不需要硬件电路的支持,既缩短了研发周期,又大大节约了成本,受到了电子工程师的青睐。在设计中采用EDA技术,通过广泛应用的VHDL硬件电路描述语言,实现交通灯系统控制器的设计,利用MAXPLUSⅡ集成开发环境进行综合、仿真,并下载到CPLD可编程逻辑器件中,完成系统的控制任务。 相似文献
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本文回顾了复杂可编程逻辑器件、现场可编程门阵列(CPLD/FPGA)器件的发展及特点,指出,CPLD/FPGA的应用和技术推广将是我国未来电子设计技术发腥的主流。 相似文献
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编码调制方式是室内无线红外通信的研究热点之一。本文在比较分析OOK和PPM两种调制技术的基础上,利用MAX+PLUSⅡ软件平台,设计了PPM调制编解码电路,并进行了波形仿真和硬件下载测试。测试选用Altera公司的EPM7128SLC84-15芯片。测试结果达到了预期的设计要求。 相似文献
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介绍了利用复杂强编程逻辑阵列(CPLD)料现数字通信中的关键技术-位同步,群同步,描述了CPLD技术在工程应用中的优势,给出了同步实用电路和在VHF无线数字通信系统中的应用。 相似文献
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随着可编程逻辑器件门数的增加,用大规模的CPLD/FPGA器件取代小规模的可编程逻辑器件已成为可能,不仅可以节省PCB板宝贵的空间,而且还可以极大的提升整个模板的可靠性。本文介绍了以EDA技术为基础,以VHDL,硬件描述语言为方法,用ALTERA公司的CPLD器件来实现DSP处理模板中的VME总线接口芯片组与SHARC-ADSP21062处理器之间的控制电路。 相似文献
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用VHDL和CPLD的电路简化方法的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
目的 使用VHDL降低目标电路的资源占用率和优化电路结构,方法。分析用VHDL和CPLD设计容易引起电路复杂化的原因,并提出了相应的解决方法,结果与结论 得到简化电路的一些有效的技巧与方法。 相似文献
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在分析测时误差的基础上,利用CPLD器件的高速时延特性和灵活的逻辑编程的特点,提出了新的高精度测时方法.应用该方法测时精度可达3ns,而且电路设计简单,稳定性相当好. 相似文献
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现代测控技术大量使用GPIB接口,本文探讨了用CPLD实现的GPIB接口的原理和途径。设计使用了Mtera公司的Qnartusll EDA工具进行逻辑验证和功能仿真,大大提高了设计效率,同时模块化的设计思想便于扩充或删减接口功能,方便移植。CPID芯片使用Altera的EPM7128S,经过仿真和实测完全达到了预期效果。传统测试仪器通过增加这种GPIB接口和少量其他元器件便可升级为程控仪器。实际使用表明其性能完全满足IEEF488协议要求,可以替代价格昂贵的GPIB专用接口芯片。 相似文献
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The most important design parameters for roller presses can be referred to flow and compression characteristics of bulk materials. Usually the flow properties are measured in the low stress range 1-50 kPa at the shear rate of about 1 mm/min. But this does not fit the stress regimes in the roller press. Therefore, the compression and flow behavior of the powder have to be investigated at higher pressures, shear rates, and shear displacements. These properties of bulk materials in the so-called medium pressure range 50-1000 kPa can be analyzed using a press shear cell. Tests were implemented with limestone, bentonite, and microcrystalline cellulose at average 23°C powder bed temperature using shear rates from 0.00042 to 0.042 m/s and a more realistic preshear displacement from 0.1 to 2 m for practical applications in powder compaction. Physical observation based compression functions were developed for the low and medium pressure range, which include simple equations for the compression rate and specific compression work. 相似文献
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The most important design parameters for roller presses can be referred to flow and compression characteristics of bulk materials. Usually the flow properties are measured in the low stress range 1–50 kPa at the shear rate of about 1 mm/min. But this does not fit the stress regimes in the roller press. Therefore, the compression and flow behavior of the powder have to be investigated at higher pressures, shear rates, and shear displacements. These properties of bulk materials in the so-called medium pressure range 50–1000 kPa can be analyzed using a press shear cell. Tests were implemented with limestone, bentonite, and microcrystalline cellulose at average 23°C powder bed temperature using shear rates from 0.00042 to 0.042 m/s and a more realistic preshear displacement from 0.1 to 2 m for practical applications in powder compaction. Physical observation based compression functions were developed for the low and medium pressure range, which include simple equations for the compression rate and specific compression work. 相似文献
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目的 为了通过喷墨打印技术很好地实现量子点薄膜图案化,需要调节量子点薄膜制备工艺的各项参数以获得表面均匀、厚度适宜和无咖啡环结构的量子点薄膜。方法 基板和退火是影响量子点薄膜成膜性能的2个重要参数,分别研究基板的清洗、材料和温度以及退火的温度和时间对喷墨打印量子点薄膜成膜性能的影响。结果 选择3种不同类型的溶剂依次清洗可提高基板表面能,有利于墨水的铺展;PVK基板的量子点面薄膜形貌相较于Pedot:Pss更均匀;当基板温度为50 ℃、退火温度为80 ℃或90 ℃、退火时间为15 min时,咖啡环效应最弱,可获得表面均匀、厚度适宜和无咖啡环结构的量子点薄膜。结论 基板的清洗、自身材料以及温度都会影响墨水的铺展性能,从而影响量子点薄膜的成膜性能;控制退火温度与退火时间,以使马兰戈尼流起作用,咖啡环效应被明显抑制,可以获得表面均匀的量子点薄膜。 相似文献
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用步进激励,步进采样的方法测试集成运算放大器的参数 总被引:1,自引:0,他引:1
集成运算放大器是一种通用性很好的功能部件,它在自动控制系统,测量仪表及其徊得到越来越广泛的应用。因此,就要对集成运算放大器的参数进行快速,准确的测试。本文用步激励,步进采样和最小二乘法的统计原理对集成运算放大器参数进行估测,在硬件设计的基础上,进行系统的软件调试。 相似文献
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介绍了丝网印版张力控制的重要性,及印版张力与网距之间的关系.随后具体论述了因印版张力不足所导致的各种印刷质量问题.最后总结了如何从印前准备到印刷等各个阶段调控印版张力,使之得到最好的印品. 相似文献
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Jeroen M. Elzerman Silvano De Franceschi David Goldhaber-Gordon Wilfred G. van der Wiel Leo P. Kouwenhoven 《Journal of Low Temperature Physics》2000,118(5-6):375-389
We have studied the influence of microwave radiation on thetransport properties of a semiconductor quantum dot in theKondo regime. In the entire frequency range tested (10–50 GHz), the Kondo resonance vanishes by increasing themicrowave power. This suppression of the Kondo resonance showsan unexpected scaling behavior. No evidence for photon-sideband formation is found. The comparison with temperature-dependence measurements indicates that radiation-induced spindephasing plays an important role in the suppression of theKondo effect. 相似文献