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介绍了用于薄膜测厚的全自动往复式X射线测厚仪的研制,详述了该测厚仪的硬件组成和测厚的工作原理.该装置已成功运行在双向拉伸聚丙烯(BOPP)薄膜生产线上. 相似文献
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磁盘存贮器是电子计算机的主要外部设备,高密度大容量磁盘存贮器的研制和生产是发展计算机事业的重要组成部分。磁盘磁介质层的厚度,直接影响磁盘的信息记录密度和输出信号的幅度,是检验磁盘的一个重要参数。随着记录密度的不断提高,要求磁盘的磁层越来越薄。一般,涂敷于基底上的Fe_2O_3仅有零点几到2μm左右,采用传统的测厚技术难于测量。我们利用X荧光法并配用微机研制成磁盘磁层测厚仪,解决了这一测量问题。 相似文献
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X光机测厚仪是钢厂轧钢生产线上对钢板厚度进行控制的关键设备,其测量精度要求很高,且射线的散射是影响其测量精度的重要因素。本工作根据对散射数据的测定和分析,用数学拟合的方法归纳射线散射的影响规律,根据这一规律进行散射校正,有效地消除了散射带来的偏差。 相似文献
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介绍了一种X射线冷轧测厚仪控制系统的硬件设计和软件设计。控制系统经过实际的使用检验,各项性能指标均达到了设计要求,工作稳定、可靠。 相似文献
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UO2燃料颗粒涂层工艺 总被引:1,自引:1,他引:0
本文简述了UO_2燃料的涂层工艺和涂层原理,评价了某些涂层设备,讨论了涂层工艺参数(涂层温度、进料参数、涂层时间等)对涂层过程及结果的影响,简单介绍了涂层产品质量的检验方法。 相似文献
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由于使用低Z涂层材料可使传统的结构材料和技术保持不变并能降低等离子体杂质,因而为设计提供了灵活性。低Z涂层可由元素Be,B,C,Al,Ti,V及其化合物中选择。文中介绍了涂层工艺和评价方法。添加约10wt%SiC的热解碳几乎能完全抑制化学溅射。60块C+SiC涂层石墨砖在DoubletⅢ托卡马克的整个照射期间性能令人满意。 相似文献
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本文介绍一种X射线荧光测厚仪,用以测量钢基及钨基上的碳化钛或氮化钛涂层厚度。仪器测量范围为0.1—20μm,测量孔径为4mm。 相似文献
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KD—418微机核子计量系统 总被引:4,自引:3,他引:1
本文简述了核子计量系统的概况和原理,介绍了KD-418微机核子计量系统的设计思想,系统的组成和框图以及Mcs-51单片机为CPU的STD总线工控机,还介绍了系统的硬件和软件以及软硬件上采用的几种特殊处理技术。 相似文献
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用X射线荧光分析法测量铁板镀锌厚度 总被引:1,自引:0,他引:1
安福林 《核电子学与探测技术》1995,15(4):224-227
本文介绍了镀锌测厚仪以^238Pu作激发光源,用正比计数器作为探测器,具有体积小,精度高,价格便宜的特点,最适合于0~100g/m^2电镀锌的测量。 相似文献
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人发样品中微量元素的XRF分析 总被引:1,自引:0,他引:1
通过化学加入法校正吸收效应,采用X射线荧光分析法(XRF)分析人发样品,确定人发中微量元素的含量。以实际人发样品为基础,求得经基体吸收后的相对效率,拟合出相对效率与基体中重要成分Ca含量的关系式,然后用标定的系数进行人发样品中的Ca、Cu、Fe、Zn含量分析。采用此方法分析了一组人发标准物质,并与国标推荐值进行比较,结果表明测定值与推荐值符合情况良好,与国标相比偏差为Ca0.28%,Fe0.99%,Cu2.6%,Zn0;相对测量误差Ca2.2%,Fe1.7%,Cu2.2%,Zn1.1%,其灵敏度≤2.2%。表明采用XRF分析人发中微量元素含量是可行的。 相似文献
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用XRF分析稀土元素时同位素激发源的选择 总被引:1,自引:1,他引:0
根据X射线荧光产生和探测的机理,用一些基本的物理参数(光电质量吸收系数、荧光产额、吸收边阶跃比、被分析的X荧光线相对于同线系的强度比等)分析计算了在同位素激发X射线荧光分析技术(XRF)中最常见的两种激发源和^238Pu源分析稀土元素含量时,在不同的测量系统和分析条件下,每个元素的相对激发探测效率以及它们的优缺点,从而确定了对不同的稀土元素,选择何种激发源、测量何种特征X线系(KX或LX),可使整 相似文献