Optistep系列分步重复投影系统

美国加利福尼亚洲的Optimetrix公司最近研制成功Optistep系列分步重复投影曝光系统。该系统包括三台设备,即8010型10:1直接在片子上曝光系统和,8007型7:1直接在片子上曝光系统和8001型1:1投影曝光系统。 8010型10:1曝光系统是一台能直接同GCA公司的Mann4800DSW系统相竞争的设备,它采     

关于提高接触式光刻机套刻精度的几个问题

随着半导体技术突飞猛进的发展,对于制造半导体器件的重要工艺——光刻工艺的要求也越来越高。这些要求中“关于如何提高接触式光刻机套刻精度问题”已成为当前设计新的接触式光刻机的焦点。本文仅就这个问题谈一些粗浅看法。一、目前光刻机发展概况从目前光刻机发展趋向来看,曝光光波越来越短。因为光刻图形分辨率与所用曝光光波的长度的平方根成正比,所以总的趋向是改变曝光的光源。由于它的改变又引起曝     

6000系列DSW

<正> 据美国GCA公司集成电路系统分公司报道,他们生产的6000系列DSW片子步进系统能把中间版的电路图形缩小五或十倍后,以多阵列的形式直接复印在片子上。6000系列中,6100型DSW系统生产效率较高,能加工2μm或2μm以上线条的片子。用该系统每小时能曝光直径125mm的片子60枚;100mm的片子96枚。6200型DSW系统能刻作常精细的几何线条     

准分子激光器能有效地对有机玻璃作深紫外线光刻

已证明大功率脉冲紫外光可对聚甲基丙烯酸甲脂（PMMA)进行光刻。用KrF准分子激光器作大功率紫外光源。深紫外光辐照所得到的蚀刻深度不但与能量有关还与功率有关。相同的曝光能量密度下，加大曝光功率密度蚀刻深度将急剧增加。这些试验结果表明大功率准分子激光器是对有机玻璃作紫外线光刻的有效光源。     

迅速发展的光纤激光源

本文介绍了以稀土离子掺杂光纤为基础的大功率光纤激光器和基于固有非线性及光纤色散锁模的高峰值功率（高脉冲能量）的光纤系统以及基于频率变换技术、光纤光源倍频技术的红外或可见光大功率光纤光源系统的最新进展。     

双面对准曝光中关键技术研究

对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究 ,并通过多年工作实践经验 ,对对准工作台的精度分析作了论述。     

大功率白光LED路灯照明系统模拟设计

以大功率白光发光二极管(LED)为光源,利用光学软件Trace Pro模拟设计出满足特定功率和照度要求的路灯照明系统,并通过实验验证其可行性.该模拟系统对实际开发具有指导意义.     

ZEMAX软件在曝光光源设计中的应用

以光学设计软件ZEMAX为依托,结合曝光光源设计思路,并以实例展示设计方法和描述它的实用性,利用ZEMAX计算机辅助设计分析了曝光光源的鬼点。     

基于单片机的LED自适应调光系统

随着社会的发展人们对照明的要求越来越高,照明越来越普遍化、多样化、耗能化,能源缺乏问题也随之成为社会关注的焦点,LED作为一种新型光源,具有高效节能、绿色环保、使用寿命长等优点,代表着未来照明技术的发展方向。本设计是一种基于单片机STC12C5A60S2的LED自适应调光系统,通过光敏传感器感知外界光强,单片机系统依据此信号以PWM控制方式联合大功率LED驱动芯片ULN2003实现LED灯亮度调节的设计,从而实现光线强度的自动调节,以达到节能的目的。     

国外集成电路光学曝光设备的发展与未来

本文以DSW系统为重点,介绍了国外几种集成电路光学曝光设备的近期发展情况;预测了它们的未来。并根据较新资料对过去几年和未来几年的光刻市场情况作了归纳和预测。     

我国超大规模集成电路工艺设备上的一项重大新成果 直接分步投影曝光机在四十五所研制成功

<正> 电子工业部第四十五研究所的科技人员、工人和干部满怀振兴我国电子工业的雄心壮志,刻苦攻关,在非常艰苦的条件下,经过多年的试制研究,终于研究成功可实用的直接分步曝光新设备。这一科研成果是我国超大规模集成电路工艺设备研究制造工作上的一个重大突破。利用光学曝光技术把中间掩模缩小投影,直接在经过处理的硅片上进行曝光,是七十年代后期首先在美国研制成功的。初期、代表样机是GOA公司的Mann4800DSW系统。这一新技术的出现,加速了VLSI的爱     

LED路灯的光学系统研究与设计

随着大功率LED光源和照明技术的发展,LED已经广泛的应用于照明领域,这也给灯具的配光设计带来了新的挑战.本文从LED光源应用于道路照明的实际要求出发,对LED路灯的光学系统和灯具的配光要求进行了研究,设计出了一种混合型反射罩光学结构,同时调整每列光源的偏转角度,并通过光学仿真软件进行了仿真,从而达到路灯照叫所要求的均匀矩形配光.     

论光刻机的曝光控制系统

<正> 概述 光刻机是生产半导体器件的重要工艺设备之一,它可分为工作台对准系统和光学曝光系统两大部分。对于一台性能优良的光刻机光学曝光系统起着不容忽视的作用。近代发展起来的光刻机在曝光系统上采用了一系列新技术,例如在光学设计上采用复眼透镜组来减少光学衍射效应,提高光的均匀性;在幅照光源上采用恒光强控制(如Rarlsu-ss,uv系列光刻机);对曝光时间采用积分曝光(如Canon PLF-500系列光刻机)等。本文仅从电学角度来论述光刻机的曝光控制系统,并对某些专题进行较详细地分析,以便读者可有一深入和系统了解。     

基于照度自动采集的道路光学测试系统设计

随着大功率LED光源的光效不断提高,LED驱动技术不断成熟,大功率LED路灯的运用越来越多,特别是09年如火如荼开展的＂十城万盏项目＂,更为LED道路照明的运用起到了巨大的推动作用。大功率LED路灯的运用对其路面照度、照度均匀度及一系列指标测试提出了更高的要求,本文就基于照度自动采集的道路光学测试系统在大功率LED路灯测试领域的运用提出了不同的测试方案。     

大功率集成LED光转换光源的研制

介绍了一种应用远程激发技术的大功率集成LED光转换光源,通过使用固晶区无绝缘层的镜面铝基板进行集成封装蓝光LED光源,即COB光源。所制蓝光光源与远程激发荧光粉模块结合制成LED光转换光源。利用镜面铝基板的高导热系数,解决多种LED封装形式下芯片点亮温度过高、光源衰减快的问题。采用LED荧光高分子模块与蓝光芯片分离结合的远程激发技术制成白光光源,解决荧光粉分布不均、热老化、色偏移问题。通过与传统粉胶封装方式制得的大功率集成LED器件比较测试,该种光源具有防眩光、光色均匀度高、长寿命、节能和环保的优点,从而具有更广泛的用途。     

光学玻璃型电流互感器光源温度控制器设计

介绍了光学玻璃ECT光源温度控制器的工作原理。针对光学玻璃ECT对光源光强输出及其中心波长稳定性的特殊要求,提出了基于大功率调压控温,叠加脉冲细微调节光源温度的控温思想。介绍了支撑该思想的硬件电路。测试结果表明,在-40~+70 ℃的工作环境范围内,光学玻璃ECT光源温度能够控制在+25±0.1 ℃,也证明了该控温设计的正确性。     

LED阵列型紫外光固化光源系统

提出了一种适用于紫外光固化的新型光源系统.该系统以大功率紫外光LED和光学系统组成阵列结构来实现固化光源的高辐照度,大功率LED阵列由多路可控恒流源系统控制,根据固化材料的特点外部设定驱动电流,控制光源发光强度.与常用的高压汞灯相比,该系统无需高压驱动和冷却设备,具有操作简单、固化效率高和绿色无污染等优点.实验结果表明,该系统能够发出均匀稳定的高强度紫外光.     

激光光阀大屏幕显示机

激光光阀大屏幕显示是七十年代发展起来的一项新的显示技术。由于它采用激光器做记录光源,所以记录片上的分辨率可以做得很高;同时它采用外光源照明和光阀式投影,因此屏幕上的亮度和对比度也非常高,显示屏幕可做得很大。它采用高精度的扫描器——振镜,使随机扫描的精度满足了实际使用的要求。激光光阀大屏幕显示是一种先进的显示技术,它不但可用于军事指挥系统,也可用于民用;把投影系统去掉后,也可用于电子     

实用化光纤通信系统中的光源

本文在实验基础上,对光源稳定性问题进行了分析研究。从光纤通信角度,对光源实用化提出要求和建议。希望实用化光通信光源,具有长寿命、大功率和高稳定性等主要特点,并且在光源结构方面,能为使用者提供合理的参考光源和可靠的光纤接口。     

基于LED照明灯具的散热片设计与分析

新一代大功率白光LED光源具有很多优点,如节能、环保、寿命长等,但大功率LED的散热也是一个至关重要的问题。如果LED散热问题解决不好,LED灯具工作一段时间后就会输出光功率减小,芯片加速老化,工作寿命缩短。文章从LED散热问题着手,详细介绍了目前广泛商用的大功率LED器件结构及导热途径、所用散热基片的特点,以及LED所用的散热片设计和计算方法。另外介绍了一种大功率LED在散热片上不同位置温度变化的测试结果,并推导出用于计算LED器件散热的有效公式。