镀铑工艺研究

为了适应现代电子光学及装饰等领域的需要,根据侯氏槽法和正交试验法研究了镀铑新技术及工艺,探讨了镀液中成分及工艺条件对镀液和镀层的影响,并对其镀液和镀层的性能进行了测试.此外,概述了镀铑液的配制和维护,并介绍了镀铑过程中的注意事项.利用本工艺电镀能得到性能优良的铑镀层,如外观白亮、反光率高、接触电阻小、硬度高、耐磨耐蚀等.     

铑电镀液中铑含量不同测定方法的比较

铑作为一种贵金属,准确测定其在镀液中的含量非常重要.通过对铑的标准浓度溶液进行重量法、等离子体发射光谱法(ICP)、火焰原子吸收光谱法(FAAS)和改进后的FAAS(引入一个校正因子, 对FAAS测定方法进行了优化、校正)等不同方法的测定,比较了不同测定方法的适用范围和精确度.结果表明:对于杂质少的铑电镀液,宜采用重量法测定,其测定偏差在4%以内,硼氢化钠作为还原剂的重量法的测定偏差可控制在0.2%以内;对于杂质多的铑电镀液,用ICP,改进后的FAAS均能获得满意结果,相对偏差都小于1% .     

铑电镀工艺的研究现状与展望

对铑电镀工艺的铑盐制备、基材选择、镀液成分、镀覆条件、镀液维护及贵金属铑的回收、镀层性能等方面的研究现状进行了综述,并展望了其今后的发展趋势.     

三价铬电镀液中金属杂质离子浓度对镀层质量的影响及其处理效果

三价铬电镀液中金属杂质离子累积到一定的程度,便会影响镀层质量.通过Hull Cell试验,探讨了TCR-3000三价络电镀液对金属杂质离子的容忍度及其对镀层外观的影响.采用选择性阳离子处理树脂对镀液中的金属杂质离子进行了处理.结果表明:镀液对杂质Cu2+,Ni2+,Zn2+的容忍度分别为10,50,60mg/L;以选择...     

高硫镍镀液中苯亚磺酸钠的测定

准确测定电镀液中添加剂的含量,对排除电镀故障及提高镀液质量有指导作用.采用紫外分光光度法研究了pH值、无机盐等对高硫镍镀液中苯亚磺酸钠吸光度的影响,建立了测定镀液中苯亚磺酸钠浓度的分析方法.结果表明,该方法快速、准确,可用于工业电镀高硫镍电解液中苯亚磺酸钠浓度的现场分析.     

氯化物三价铬电镀液中六价铬离子的去除方法及效果

三价铬电镀过程中六价铬离子对镀层质量的影响很大,因此研究电镀过程中六价铬的积累及消除对三价铬电镀液的维护和产品质量保证具有重要意义.研究了氯化物体系三价铬镀液中六价铬的积累规律和相应的改进措施,分别比较了添加剂A(含c=c双键的有机醛类化物)和溴化铵对六价铬生成速度的影响.结果表明,5 g/L稳定剂A或溴化铵均能降低六价铬的生成速度.同时采用添加4 g/L稳定剂A或溴化铵、过氧化氢还原和1 A/dm2小电流电解的方法对六价铬进行去除,经测试效果良好.     

温度和搅拌对甲基磺酸亚锡电镀亚光锡的影响

为提高甲基磺酸盐体系镀锡的质量,在甲基磺酸亚锡镀液中加入自主研发的亚光添加剂进行电镀亚光锡,采用电化学试验、Hull槽试验、扫描电镜等考察了温度和搅拌对甲基磺酸盐体系电镀亚光锡的阴极极化行为、镀层形貌、电流密度范围、沉积效率、沉积速度及镀液成分的影响。结果表明:亚光添加剂能够显著提高电镀亚光锡的阴极过电位、改善镀层质量;搅拌镀液可使浓差极化减小,增大了电镀亚光锡的电流密度范围;镀液温度升高,锡沉积电位正移,晶粒变粗,电流密度范围、电流效率和锡沉积速度均有所提高;温度过高(40～50℃)时,随着电镀时间的延长,镀液中Sn2+浓度升高,甲基磺酸浓度下降,镀液成分变化较大,不利于镀液维护及连续生产。     

电位滴定法电镀液在线检测系统

该文介绍电镀液在线检测系统的组成、各部分功能及其系统应用实例。电镀液在线检测系统采用电位滴定法,主要包括自清洗稳流稳压溶液过滤、PLC系统时序控制、系统漏液和状态异常等报警显示和控制、检测准确度控制和检测数据处理等方法和装置。通过某钢厂电镀机组的应用实例,证明电镀液在线检测系统的可靠性、检测精度和使用效果。电位滴定法电镀液在线检测系统能解决X射线类在线检测系统无法检测无特征谱线物质问题;满足钢铁厂冷轧产线恶劣环境的电镀液在线实时检测要求;与机组生产工艺控制系统构成闭环控制回路,实现对电镀产品生产过程中质量稳定的有效控制。     

非晶态Fe-Cr合金电镀中的阳极材料

在非晶态Fe-Cr合金电镀中,电解池结构和阳极材料至关重要。本文采用单、双室电解池(两室用Nafion离子膜连通)和纯Fe、Pt、石墨为阳极材料进行了电沉积实验,根据镀液组成变化、镀层结构和质量,确定了最佳电极材料和电解槽形式。     

合金镀液主盐离子浓度的快速测量

在电镀过程中，镀液主盐离子浓度的变化对镀层的影响极大，对合金电镀更是如此。本文研究把现代的计算机技术同经典的极谱法有机地结合起来，能够在短时间内实现数据的自动采集和数据处理，并给出结果。实现了主盐离子的快速测量，达到了指导生产的目的。     

铝及其合金阳极氧化液中CI~-离子浓度的快速测定

根据Cl~-离子在铂电极上的电化学氧化特性,用DZ-1B型电镀添加剂测定仪测定铝及其合金阳极氧化液中Cl~-离子的浓度。方法操作简便、快速,适用于表面处理车间的电解液分析。     

锶在粘土中吸附的影响因素研究

文章对锶在以伊利石含量为主粘土中吸附的影响因素:固液接触时间、液固比(ml/g)、锶离子的初始浓度等进行了研究.吸附实验用批实验方法进行,锶离子的初始浓度范围为10.1～10.6mol/L.实验中还对钙离子和钡离子对锶的咐附影响进行了研究,发现它们对锶吸附的影响与溶液中碱土金属的离子半径有关.最后运用Freundlich吸附等温曲线对实验数据进行了拟合,进而求出方程的相关参数.     

三价铬镀液中配体的作用

三价铬镀铬液中的配体对镀液的稳定性和沉积速度影响极大,从三价铬镀液的化学和电化学特性分析入手,介绍了镀液中所加配体(如羧酸、羟基羧酸、氨基羧酸及其盐)的作用:(1)与三价铬离子形成活性配位离子加快电沉积速度;(2)抑制Cr3 的羟桥化反应;(3)可以掩蔽杂质金属离子,减少杂质金属离子对镀层质量的干扰,使电镀能持续进行;(4)可以稳定镀液.特别指出,只有选用能形成活性配位离子的配体,使电镀能持续进行,才能获得性能良好的厚铬镀层.     

NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响

基于轻稀土元素-Nd与过渡金属元素-Co之间的铁磁耦合作用提高电镀CoNiMnP永磁薄膜阵列的磁性能,在电镀时引入稀土Nd元素进入CoNiMnP永磁薄膜阵列中,通过改变镀液中NdCl3的浓度而改变CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量.对镀液中NdCl3浓度与薄膜磁性能的关系进行了分析与测试,结果表明室温下,在电流密度为5mA/cm2时,具有垂直各向异性的CoNdNiMnP永磁薄膜阵列被成功地电镀得到.随着NdCl3浓度的增加,薄膜的磁性能提高,当NdCl3浓度增加到0.25×103g/cm3时,薄膜的磁性能达到最大值,继续增加镀液中NdCl3浓度,薄膜阵列的磁性能不再增加.     

一种新型的装饰性镀铑工艺

通过耐蚀性人工汗试验、镀层结合力测试、镀层厚度测试以及电镀成本的核算等方法,研究和比较了以钯为基材的镀铑新工艺和以镍为基材的常规镀铑工艺.结果表明:基材和铑镀层的厚度增加时,镀铑产品的耐蚀性会增强,而铑镀层的厚度增加时,耐蚀性增强尤为明显;以钯为基材的镀铑产品外观色泽好、结合力强,较常规工艺有较强的耐蚀性和低廉的镀铑成本,耐蚀时间最高提高了87.5%,在耐蚀性相当的情况下,可节约成本达24%以上.     

用于微机械器件的电镀Fe—Ni合金薄膜的研究

本文考察了非常规Ｆｅ－Ｎｉ合金电镀中,溶液浓度、电流密度、ＰＨ值和温度等因素对电镀的影响。实验结果表明,Ｆｅ－Ｎｉ合金电镀的异常性是由于Ｆｅ（ＯＨ）２对铁离子和镍离子的还原反应有着不同的阻碍作用和程度。用Ｘ射线平移法对Ｆｅ－Ｎｉ合金镀层的残余应力与电镀参数之间的关系进行了研究,并讨论了薄膜微结构与应力的关系。     

光亮镀镍液中吡啶羟丙基硫代甜菜碱的测定

采用紫外分光光度分析法研究了pH值、无机盐、丁炔二醇等对光亮镀镍体系中添加剂吡啶羟丙基硫代甜菜碱 (PPSOH)吸光度的影响 ,建立了电镀液中测定PPSOH浓度的分析方法 ,并应用于电镀实验中。     

电镀宽范围Re含量Ni-Re合金工艺研究

控制镀层中Re含量,获得较宽Re含量范围的Ni-Re合金镀层,可为单晶合金的高温防护提供技术支持。研究了Ni-Re合金电镀体系中镀液组分及电镀工艺条件对镀层外观、Re含量及电流效率的影响,得到最佳电镀工艺条件为电流密度Jc4~5 A/dm^2,温度60~70℃,pH=5;在该工艺条件下,保持镀液中柠檬酸与镍离子摩尔比为1.0,调整镀液中镍离子浓度(30~450 mmol/L),得到Re含量在16%~98%(质量分数)的Ni-Re合金镀层,并研究了镍离子对Re沉积的催化作用及Re含量对合金镀层微观结构的影响。结果表明:镍离子浓度为240mmol/L时对Re沉积催化效果最好,此时Re的析出电位正移40 m V,Re沉积电流效率达到66. 9%,JRe=30. 06m A/cm^2,Ni-Re合金镀层中Re含量≤43%时,镀层微观表面平整细致,其XRD谱衍射峰角度与纯镍相近,形成了以Re为溶质、Ni为溶剂的置换固溶体的晶体结构,随着合金镀层中Re含量的进一步增加,合金镀层向非晶态转变,在Re含量≥52%时,Ni-Re合金转化为非晶态镀层。     

铜基碳纳米管复合薄膜电沉积制备工艺

为获得碳纳米管分布均匀且导电性良好的铜基碳纳米管复合材料,用超声辅助搅拌复合电沉积方法制备了Cu/MWCNT复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻率仪等研究了电沉积过程中复合电镀液中碳纳米管浓度、电镀液p H值、脉冲电流密度等各项电沉积工艺参数以及不同退火温度对复合薄膜的组织形貌和电阻率的影响规律.结果表明:改变镀液中碳纳米管含量和电镀液的p H值可以改变镀层中碳纳米管的含量及分布,MWCNTs质量浓度升高到2 g/L时,复合薄膜中MWCNTs的质量分数达2.17%;改变电流密度可以细化镀层组织并改善碳纳米管在镀层中的分布,从而提高镀膜的致密度并降低镀层的电阻率;合适的热处理温度可以改善薄膜结晶度和致密度,并提高导电性.镀液中MWCNTs质量浓度为2 g/L,电镀液p H为2,电流密度为20 A/dm2,电镀时温度在25℃且加入超声辅助搅拌时,所得到的复合镀膜经400℃退火后电阻率最低.     

稀土在几种电镀工艺中的特异性能

通过对稀土在电镀铬、电镀镍、氯化钾电镀锌、镀锌层钝化处理的试验检测和实际应用的研究,发现稀土在电镀工艺中有3种较为突出的优异性能:(1)能提高电镀液中离子的移动速度和运动能量;(2)电沉积过程中具有较强的化学吸附能力;(3)能提高镀锌层钝化膜的耐腐蚀性.同时还提出了使用稀土的4点注意事项,对稀土在电镀工艺中的应用和研究具有一定的参考价值.