当前最先进的镀膜技术溅射和离子镀

溅射沉积和离子镀是当前最先进的镀膜枝术。一离子镀1963年,D.M.Mattox开发了离子镀技术,它是在蒸镀的基础上发展起来的。蒸镀是在10~(-5)～10~(-6)托的真空容器中用加热的方法使镀膜材料蒸发出原子或分子,飞向工件表面而凝聚成一片薄膜(图1)。如果让蒸发粒子通过由氩气或其它气体辉光放电所形成的等离子气体区域,或由炽热的钨丝放射并经电场加速的电子云区域,则部分蒸发粒子变成离子。用高压直流电场把离子加速。高速离子与中性蒸发粒子相碰     

获得TiC等涂层的新工艺——反应性离子沉积法

在工模具表面沉积氮化钛、碳化钛等涂层可以提高其硬度和耐磨性,从而可显著提高其寿命。获得TiC等化合物涂层的方法过去多采用固体法、液体法和化学气相沉积法。这些方法多存在一定的问题:涂覆工艺多必须在较高温度下(1000℃左右)进行;沉积速率低;有公害等。近几年在国外出现了获得TiC等化合物层的新工艺——反应性离子沉积法。这是一项新技术,化合物涂层是在气体放电等离子区内反应生成的。这是继离子氮化、离子     

TiN涂层在模具上的应用

一、引言 离子镀TiN技术是近年来发展很快的PVD表面强化处理技术的一种,离子镀TiN是把金属蒸发源作为阴极与作为阳极的真空室产生弧光放电,使阴极金属靶材钛蒸发并离子化,再与室内的离子化氮结合成TiN,沉积在加有负偏压的工作表面。离子镀沉积温度较低,因此离子镀成为PVD中发展最快、最有前途的技术之一。TiN涂层首先成功     

多弧离子镀多元多层膜在旋铆头中的应用

采用多弧离子镀法在旋铆头沉积Ti/TiN/(Ti-Zr)N/ZrN多层膜处理,并对旋铆头的失效形式、膜层的组织形貌、显微硬度、耐磨性能进行了分析和讨论。结果表明镀膜旋铆头使用寿命比未镀膜旋铆头可提高一倍多。     

沉积温度对磁控溅射Ti/TiN多层膜光学和电学性能的影响

采用直流反应磁控溅射法于不同温度下在Si(111)基底上制备了Ti/TiN多层膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对膜的物相和表面形貌进行了分析,研究了沉积温度对膜结构及其光学、电学性能的影响。结果表明:不同沉积温度下制备的Ti/TiN多层膜均由钛和TiN相组成,多层膜与单层TiN膜一样,其表面粗糙度随沉积温度的升高而减小,电阻率随沉积温度的升高显著降低;其表面形貌则比单层膜更加致密和均匀;多层膜红外反射率与其电阻率有关,当电阻率减小时,红外反射率增大。     

化学气相沉积TiN涂层在钢制模具上的应用

本文简要地介绍了化学气相沉积法的原理及影响沉积的因素,并介绍CVD法沉积TiN涂层在模具上的应用,以满足模具的机械性能的要求。化学气相沉积TiN涂层承担磨损和腐蚀保护作用,从而使基体和涂层的优良性能结合起来,提高工模具的使用寿命。     

Ti-N系涂层多元多层强化研究进展

TiN系涂层具有高的硬度、耐磨性 ,低的摩擦系数和良好的化学稳定性 ,在工模具上获得广泛的应用。多元多层合金化是强化TiN膜的有效途径之一 ,也是目前研究的热点。本文介绍了几种多元多层TiN薄膜的沉积技术及性能特点 ,并指出了国内TiN涂层的发展趋势。     

电火花强化机的应用

电火花强化工艺是利用脉冲电路的充放电原理,用硬质合金等导电材料作为工具电极,在空气或特殊的气体中使之与被强化的金属件之间产生火花放电,直接利用火花放电的能量,使电极材料转移到工件表层,构成了强化层,从而改善工件表面的物理化学性能,提高表面硬度、耐磨性和耐蚀性,延长工件的使用寿命。我们使用常德市电力电容器厂生产的D74-3型电火花强化机(图1)强化工模具,以期提高使用寿命和修复尺寸超差的工件。     

α—Al_2O_3气相沉积工艺及镀层刀片性能研究

一、概述六十年代末期开始发展的在常用硬质合金刀片表面采用化学气相沉积镀上一层TiC(或TiN)而制成的镀层刀片,由于具有明显的优越性,因此在工业生产中得到广泛应     

CVD法TiC表面强化工艺在建筑行业的应用

化学气相沉积碳化钛(简称CVD 法TiC 工艺)是一种表面强化热处理新工艺。TiC 沉积层具有高硬度、高耐磨性和低摩擦系数的特点,适用于强化工夹模具和需要耐磨的机械零件,用此法可以得到比传统工艺更好的表面质量,使工模具的寿命提高3～10倍,而且这种工艺可以得到多种沉积层,是一般表面处理无法相比的。我国七十年代开始研究这种新工艺。我所对CVD 法工艺和设备的研究已有十年,研究成果已通过鉴定,并转让给工厂,投产已三年多了。用此工艺和设备处理了8000多件     

蒸镀薄膜技术在机械制造中的应用

大多数机械零件往往是由于磨损、腐蚀、疲劳等与表面有关的原因而导致失效。为了提高零件的使用寿命,除了正确地选择材料,合理地确定冷热加工工艺之外,改进零件表面性能,已成为重要的研究课题之一。用蒸镀方法在零件表面上,沉积一层与基体材料的物理化学性能不同的薄膜称之为,蒸镀薄膜技术。蒸镀薄膜的工艺,主要有化学气相沉积(CVD),溅射(Sputting)和各种离子镀(如离子镀Mattox法、射频离子镀RF.I.P、空心阴极型离子镀HCD.I.P、感应加热离子镀(I.Gum.I.P)、低压等离子     

TX系列多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备

该设备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿膜、装饰膜、合金膜或多层膜,可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、医疗器械、仪器仪表等领域。该设备在真空条件下采用物理气相沉积技术,在基片上镀制氮化钛及其他薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控溅射离子镀技术有机结合在一起,     

电火花放电表面硬化

电火花放电硬化是一种既简单又灵活的金属表面硬化处理方法。它是利用RC电路充放电原理(图1),通过电火花放电的作用,将一种导电材料(硬质合金、石墨、不锈钢、耐热合金等)熔合在工件表面,形成硬化层,获得高硬度的表面层,这对提高工件(特别是工模具)寿命是一个有效方法。采用电火花放电硬化法,除硬化表面外,还可使工件获得较理想的耐热性、耐蚀性及红硬性,并保持基体的硬度、强度与韧性。     

涂覆刀具的工艺、组织与性能

一、引言自十三年前西德与瑞典涂覆TiC的硬质合金刀具进入市场以来,涂覆刀具有了很大的发展。最初为TiC、TiN的单体涂层,后来发展为Ti(CN)、TiN-TiC、TiC-Al_2O_3等复合涂层。涂层的制备工艺,从化学气相沉积(CVD)发展到离子镀(IP)。活化反应蒸发(ARE)及低压等离子体沉积(LPPD)等物理气相沉积(PVD)法。目前国外汽车制造工业中,涂覆刀具约占30%以上,在国际刀具市场上出售的不重磨刀头,大部分是用TiC、TiN及Al_2O_3涂覆的。     

用直流等离子CVD法制备钛化合物涂层

<正> 1、绪言所谓直流等离子CVD法,就是把反应气体TiCl_4、CH_4和N_2引入到由气体辉光放电产生的非平衡等离子体内,以提高反应离子的势能,大幅度降低CVD法的沉积温度,制取TiC、TiN和TiCxN_y等超硬化合物涂层。这样,不但能克服CVD法沉积温度高、容易使基体产生变形的缺点,也可以克服PVD法存在的涂层和基体结合强度差的缺点。因此,直流等离子CVD法,必将得到迅速发展,广泛应用。     

电弧离子镀沉积TiN/AlN-TiAlN复合膜的耐磨性

采用高纯铝、钛靶材,通过电弧离子镀工艺在TC4基材上沉积制备了TiN/AlN-TiAlN复合多层膜,用HV-1000型显微硬度计测试了膜层的硬度,用球盘磨损试验对比研究了膜层和基材的耐磨性。结果表明:膜层硬度为2856HV,耐磨性相比基材提高6倍以上。     

化学气相沉积TiN技术在模具表面强化中的应用研究

介绍了在模具表面上化学气相沉积TiN涂层常用的几种方法，分析了各种工艺的特点，关键技术参数及其应用对象，指出了模具表面气相沉积TiN技术的发展方向。     

高速钢涂层刀具及应用

长期以来,随着刀具材料的不断改进,刀具的切削性能已有较大的提高,但是刀具材料韧性与硬度之间的矛盾一直未能够很好的解决。近年来,金属切削刀具表面气相沉积技术的发展为刀具材料解决了这一矛盾。特别是物理气相沉积法(简称PVD法)用于高速钢刀具,使高速钢刀具涂覆TiN或TiC等超     

离子镀钛-离子注氮复合法制备太阳光选择性吸收膜

利用离子镀钛膜后在60 kV 50 kV 40 kV 30 kV 20 kV 10 kV六级氮离子注入的复合方法在铝表面制备出了渐变型太阳光选择性吸收膜层;对制备的膜进行了反射率测量,并由此计算了太阳光谱吸收率;同时测量了膜的热发射率;用扫描电镜观察了膜表面形貌,用XPS光电子能谱仪对膜层进行了表层分析,并用俄歇能谱仪分析了元素纵向分布.结果表明:氮离子六级注入后膜的太阳光吸收率高达99.66%,其热发射率为0.31,膜层中钛、氮和铝的相互扩散造成膜的热发射率偏大,而膜层表面生成的TiO2、TiN和碳单质等有利于减少热能的损耗;氮元素在膜层中呈梯度分布,这有利于对太阳光的吸收.     

碳化钛涂覆钢材的耐磨损性能

1、前言这项研究所要探讨的问题是钢材施行碳化钛涂覆(TiC coating,碳化物涂复盖法的一种)后的耐磨损性。为了使碳化钛层析出,可以使用化学气相沉积和物理气相沉积两种方法,本实验采用的处理方法是前者,碳化层的析出是使用化学方法的结果。使用化学的方法(CVD),沉积TiC、TiN、CrC、FeB等各种碳化物的涂覆层,它们都被看作是有效果的,处理的温度通常要达到930～1070℃的高温。适用于切削用的硬质合金工具(WC粉末冶金)。由于反应是在1000℃左右故实际上是应用了氢还原或热分解