电致变色NiOx薄膜及研究现状

介绍了阳极电致变色氧化镍膜的研究现状，制备条件对薄膜形貌，昌粒结构和化学计量比的影响，以及微观结构与薄膜的动态致色范围、致色效率、响应时间的关系，分析了离子注入问题以及电致变色机理     

用氮化锡薄膜的新型电致变色系统

用射频反应离子镀膜法制备氮化锡(SnN_x)薄膜,发现这种膜显示电致变色特性,并呈现非晶态结构。氮化锡薄膜电极在水性溶液和非水性溶液中,其亮度和颜色随外加电压的变化而变化。这种膜的原色是褐色。可以看到淀积在玻璃基板上的氮化锡膜的褐色或黄色(?)深褐色或灰色的可逆显色变化。光透射率变化基本上在400nm 以上的范围之内。这种电致变色特性具有存储效应。本文研究了对氮化锡薄膜的电化学性质,并对以氮化锡薄膜为基础制作的电致变色单元以及该单元的基本特性进行了研究。     

电致变色NiO_x薄膜及其研究现状

介绍了阳极电致变色氧化镍薄膜的研究现状，制备条件对薄膜形貌、晶粒结构和化学计量比的影响，以及微观结构与薄膜的动态致色范围、致色效率、响应时间的关系，分析了离子注入问题以及电致变色机理。     

磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构对电致变色性能的影响北大核心CSCD

利用磁控溅射法,在不同工作压强下制备了氧化钨(WO_3)薄膜,研究了工作压强对WO_3膜层微观结构的调控作用,并研究了WO_3膜层微观结构对其电致变色性能的影响。研究结果表明,制备的WO_3薄膜属于非晶相,表面呈峰状结构;随着工作压强的增大,WO_3薄膜膜层微观结构变疏松,电致变色响应时间和循环寿命均减短;在最佳膜层微观结构下,WO_3薄膜光学密度可达0.64,循环寿命达1500周。     

电化学沉积非晶NiOxHy膜的电致 变色特性及其机理

研究了用电化学方法在SnO2基底上沉积的NiO2Hy膜电致变色特性,该膜是一种富氧结构,具有优良的变色特性,其透射式光密度△OD在可见光区可达1以上,NiOxHy膜在KOH电解液中的电致变色行为是由质子的注入或萃取所决定。H^ 注入并占据Ni空位,会使一部分Ni^3 转化为Ni^2 ,Ni^3 的减少将导致光透性增强,这是因为Ni的d电子能级在NiO6八面体晶场中被分裂为t2g和eg能级。H^ 的注入使Ni^3 的t2a能级被电子填满,变为Ni^2 ,导致光学透明,反之,H^ 的萃取使t2g能级出现空穴,即形成Ni^3 ,导致光吸收。     

工艺参数对氧化镍薄膜结晶结构的影响

用直流反应磁控溅射法制备了氧化镍电致变色薄膜。采用ＸＲＤ和ＴＥＭ对所制的薄膜结构进行了研究。详细讨论了制膜工艺参数对氧化镍薄膜晶态结构的影响。     

Li+掺杂MoO3薄膜的制备与电致-光致变色特性研究

采用过氧溶胶－凝胶法在室温下制备了具有电致变色和光致变色特性的10mol%Li掺杂MoO3薄膜。对薄膜循环安特性和光学特性的测试结果表明，经120℃处理的Li^ 掺杂MoO3薄膜具有良好的电化学性能及电致变色性能。采用Raman光谱对Li^ 掺杂MoO3薄膜光变色前后结构的分析表明，薄膜经紫外光照后结构进行了重组，有序性增强，且吸收光谱研究表明薄膜具有较好的光致变色特性。     

氧化镍膜电致变色机理的研究

本文根据两种不同导电层上蒸发氧化镍膜的电化学和电致变色特性的实验结果,及对不同方法制备的氧化镍膜电致变色特性的比较和吸收特征的分析,提出了一种与氧化钨膜相类似的氧化镍膜电致变色机理.     

基于电致变色膜的复合激光隐身技术研究

文中介绍了一种电致变色膜的制备方法,研究了所制备薄膜在近红外波段的光学反射 特性,并对其可能具备的激光隐身性能进行了数值分析。结果表明,该电致变色膜对在此波段的激光具有相当好的隐身效果,这为利用该技术实现可见光、热红外和激光的复合隐身提供了可选途径。     

光学性能可变换薄膜的研制状况（1）

评述了电致变色薄膜,热致变色显示薄膜,受压变色显示薄膜及光致变色显示薄膜在可见光和近红外波段表现出的显著的变换效应及性质。     

sol-gel法制备WO_3电致变色薄膜的工艺研究

采用sol-gel法制备了WO3电致变色薄膜,通过工艺参数的优化,对WO3薄膜的电致变色性能、表面结构和物相进行比较研究。结果表明:陈化3d的前驱体溶液,以5cm/min的提拉速度在ITO导电玻璃基体上镀膜,经250℃保温60min热处理的薄膜在着色态、褪色态下的透射率之差达到50%以上,电致变色可逆性能较好。     

射频磁控溅射制备非晶WO3薄膜的结构及其光电性质研究

采用射频磁控溅射技术,以WO3陶瓷靶为原料,在透明导电氧化铟锡（ITO）玻璃上沉积了非晶相WO3薄膜,研究了溅射功率对薄膜结构及光学性质的影响,并研究了WO3薄膜的电致变色特性。利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射技术（XRD）表征了薄膜的表面形貌和内部结构;利用UV-Vis分光光度计表征了薄膜在变色前后的光学透过性质,利用电化学测试工作站研究了WO3薄膜的电致变色性质,并从原理上分析了WO3薄膜的变色机理。研究结果表明,不同功率下获得的WO3薄膜均为非晶结构,在可见光范围内有较高的透过率。透明的WO3薄膜在负向电压下逐渐转变成深蓝色,且在撤去电压后其颜色不变,当施加正向电压时,薄膜又转换为透明态,表现出良好的电致变色特性。所制备WO3薄膜在550nm处褪色态的透过率为83%,着色态的透过率为29%,使得该薄膜在智能窗方面具有广阔的应用前景。     

New Roll‐to‐Roll Processable PEDOT‐Based Polymer with Colorless Bleached State for Flexible Electrochromic Devices

Conjugated electrochromic (EC) polymers for flexible EC devices (ECDs) generally lack a fully colorless bleached state. A strategy to overcome this drawback is the implementation of a new sidechain‐modified poly(3,4‐ethylene dioxythiophene) derivative that can be deposited in thin‐film form in a customized high‐throughput and large‐area roll‐to‐roll polymerization process. The sidechain modification provides enhanced EC properties in terms of visible light transmittance change, Δτ_v = 59% (ΔL* = 54.1), contrast ratio (CR = 15.8), coloration efficiency (η = 530 cm² C^?1), and color neutrality (L* = 83.8, a* = ?4.3, b* = ?4.1) in the bleached state. The intense blue‐colored polymer thin films exhibit high cycle stability (10 000 cycles) and fast response times. The design, synthesis, and polymerization of the modified 3,4‐ethylene dioxythiophene derivative are discussed along with a detailed optical, electrochemical, and spectroelectrochemical characterization of the resulting EC thin films. Finally, a flexible see‐through ECD with a visible light transmittance change of Δτ_v = 47% (ΔL* = 51.9) and a neutral‐colored bleached state is developed.     

透过率实时可调的PDP屏滤光膜

利用NiOx薄膜具有优良的电致变色性能,制备了透过率可实时调整的PDP屏滤光膜以提高PDP屏的出光效率,在不同环境照度下获得更好的图像质量。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计研究了采用磁控溅射法制备的NiOx薄膜中镍的含量对薄膜光电特性的影响。分析测试结果表明:溅射时随着氧分压的提高,氧化镍薄膜的镍含量明显降低;NiOx薄膜中镍原子含量为45%左右时,NiOx薄膜对可见光透过率的调节能力最强,其最高透过率与最低透过率差值达70%。     

退火处理对离子束溅射WO3-x薄膜结构和特性的影响

利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_3-x(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_3-x薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在湿氧气氛下,退火温度越高、退火时间越长,WO_3-x薄膜的结晶度越好,除WO3主晶相显著增强以外,还会陆续出现O29W10、O49W18和WO₂等缺氧相;在干氧条件下,更高的退火温度和更长的退火时间都有助于降低WO_3-x薄膜的电阻值,也都有助于WO_3-x薄膜可见光透过率的提升;WO_3-x薄膜电致变色器件在632.8 nm波长处的光学调制值达到了70%左右,表现出良好的电致变色特性。     

以高氯酸锂-丙二醇碳酸酯为电解质的大面积电致变色玻璃

报道有效面积分别为14 cm×14 cm和20 cm×20 cm的电致变色玻璃,其VIS积分光调制范围在45%以上,峰值光调制范围达60%以上(波长为800 nm处),电致变色响应时间分别为180秒(从漂白态至染色态)和60秒(从染色态至漂白态).采用大型光学镀膜设备,结合工艺的进一步优化,可以预期在不久的将来将出现有效电致变色面积大于1 m2的实用电致变色玻璃.     

掺杂硫酸浓度对聚苯胺膜性能的影响

采用循环伏安法在镍基底上制得聚苯胺(PAn)膜,研究了硫酸掺杂剂的浓度对PAn膜聚合过程、电致变色性能、微观形貌及结构的影响。结果表明,在参比电压为–0.2~+1.4 V范围内,该膜的颜色可以在黄绿–绿–深蓝间可逆变化;在0.4 mol/L的掺杂H2SO4浓度下聚合反应平稳进行,所得PAn为晶态纳米纤维网结构。过低或过高的酸度下,PAn几何尺寸增大,为非晶态纳米颗粒,其电致变色性能变差。     

脉冲电泳沉积制备电致变色WO3薄膜

采用正交设计法优化了脉冲电泳沉积制备WO3薄膜的工艺参数,并通过分析薄膜的微观结构、透射光谱和循环伏安曲线等研究了最佳工艺条件下制备的WO3薄膜的电致变色性能.结果表明,脉冲电泳沉积制备WO3薄膜的最佳工艺参数为平均电流密度0.2×10-3A/cm2,沉积时间6 min,占空比75%,脉冲周期10 ms.最佳工艺条件下...     

An all-solid-state inorganic electrochromic display of WO3 and NiO films with LiNbO3 ion conductor

An all solid inorganic thin film electrochromic display with the complementary structure of /ITO/WO₃/LiNbO₃/NiO/ITO/ was fabricated. The layers of the display were all prepared by reactive magnetron sputtering. Electrochromic property measurements were performed on each active layer as well as on the assembled display. The display has been found to exhibit excellent display characteristics