偶联剂对NdFeB磁粉性能的影响

用热氧化法、差示扫描量热法和热重分析法研究了偶联剂种类和用量对NdFeB磁粉抗氧化性能和磁性能的影响.实验结果表明在偶联剂用量相同的情况下,钛酸酯偶联剂对NdFeB磁粉抗氧化性能的影响更大;NdFeB磁粉的抗氧化性能与偶联剂的用量有关,其最佳用量为磁粉质量的1.0%.     

喷射电沉积纳米晶镍的研究

用喷射电沉积法制备纳米晶镍,研究了电解液喷射速度、电流密度、沉积速度等工艺参数之间的关系,分析了沉积层的组织结构。结果表明：电解液喷射速度为２～５．５ｍ／ｓ,电流密度在８０～１６０Ａ／ｄｍ＾２之间时,最大沉积速度为１４～３２μｍ／ｍｉｎ,沉积层外观光亮。ｘ－射线衍射谱观察和透射电镜的分析表明：沉积层平均晶粒尺寸为２０～３０ｎｍ,且存在（２２０）结构。     

电沉积纳米复合镀层的研究现状

纳米复合电沉积是一种新兴的复合表面技术。阐述了纳米颗粒与金属共沉积的机理、工艺条件对纳米复合电沉积的影响。以及纳米复合共沉积的应用。纳米与金属共沉积可明显提高镀层的硬度、耐磨、耐蚀、光催化和电接触性能。指出了纳米复合电沉积现存的问题，并为今后的研究提出了建议。     

电沉积纳米晶体材料的研究现状与发展

综述了电沉积纳米金属、纳米合金以及纳米复合材料的制备方法、结构特点、优异性质以及它在材料科学中的应用与发展前景。     

电沉积Ni-Fe纳米合金工艺研究

采用直流电沉积方法在镀液中加入复合有机添加剂制备了镍铁纳米合金镀层。利用扫描电镜分析镀层形貌及晶粒尺寸,研究了硫酸亚铁铵浓度、电流密度、pH值对镀层中铁含量的影响,测定了镀层的耐腐蚀性能及结合力。结果表明,该纳米镀层表面致密、平整,且结合强度、耐腐蚀性能优良。     

Ni-W纳米晶合金电沉积工艺条件的研究

纳米晶材料与常规晶体材料相比有许多优良的性能 ,已受到广泛关注。本文采用电沉积方法获得了Ni W纳米晶合金镀层。研究了镀液中钨酸钠含量、温度、pH值及电流密度对沉积速度的影响。测定了镀层的显微硬度 ,并用X -射线衍射仪对其微观结构进行了观察。结果表明 ,影响沉积速度最大的因素为pH值 ,其次是电流密度 ;镀层显微硬度最高可达 6 70 .3HV。通过正交试验得出适宜工艺条件范围为 :Na2 WO4·2H2 O 1 0～ 30g/L ,电流密度 1 0～1 5A/dm2 ,温度 6 0～ 70℃ ,pH值 6～ 7。     

电沉积纳米晶材料制备方法及机理

介绍了用电沉积技术制备纳米晶材料的方法和机理,如直流电沉积、脉冲电沉积、复合电沉积、喷射电沉积、超声波电沉积和刷镀,展望了电沉积纳米晶材料的应用前景.     

电沉积银纳米膜的光学性质研究

电沉积制备的银纳米膜的X 射线光电子能谱测试表明,纳米膜中的银显示出银元素的特征峰;采用四探针测试仪测量银纳米膜的电导率,发现银纳米膜的电导率比纯银要下降两个数量级;X射线衍射分析发现,银纳米膜的衍射峰相对于纯银发生了宽化,计算得出平均颗粒大小为50nm;紫外-可见分光光度计测量了纳米膜的吸光度,其吸收峰发生"蓝移";银纳米膜的熔点也会变低;用椭圆偏振仪测试不同波长下的复折射率和复介电常数及纳米膜的厚度;用Z 扫描装置测量出银纳米膜具有非线性折射性质,并计算了非线性折射系数n2达2 34×10-11esu。     

电沉积制备Ni-W-Al2O3纳米复合镀层的初步研究

初步研究了电沉积Ni-W-Al2O3纳米复合镀层的制备工艺。考察了纳米粒子的分散方式、纳米粒子在镀液中的浓度以及镀液温度对沉积速度、复合量及镀层形貌的影响。结果表明:纳米粒子加入镀液前超声分散1h、施镀时对镀液采用超声搅拌效果最佳;纳米粒子在镀液中的含量为15g/L时沉积速率最大,为2.88g/(dm2·h);镀液温度为75~80°C时沉积速率较大且较稳定,且当施镀温度为75°C时镀层表面均匀有光泽,呈银白色。     

磁场下电沉积制备Co-Pt-P磁性薄膜

在磁场下电沉积制备Co-Pt-P磁性薄膜。研究了电流、温度、磁场强度对薄膜性能的影响。结果表明:磁场对镀层的成分、微观结构及磁性能有一定程度的影响。     

电沉积Co-Pt-W磁性薄膜及其性能的研究

使用电沉积技术制备了磁性能较好的Co-Pt-W薄膜,并研究了pH值对薄膜的成分、结构、表面形貌和磁性能的影响。研究发现:Co-Pt-W薄膜是一种具有fct四方结构的晶态颗粒膜。随着pH值的升高,Co-Pt-W薄膜中Co和W的质量分数下降,而Pt的质量分数增大。pH值过低,析氢作用明显,Co-Pt-W薄膜表面颗粒较大,并且孔隙率高。增大pH值,有利于细化Co-Pt-W薄膜表面颗粒并降低孔隙率,从而提高矫顽力。     

磁场下电沉积制备Co-W合金镀层

在磁场下电沉积制备Co-W合金镀层,研究了磁场强度对镀层沉积速率、微观形貌、成分以及磁性能等的影响。结果表明:沉积速率随着磁场强度的增大而显著提高;洛伦兹力可以降低电极表面的浓差极化,避免氢气的析出,使镀层均匀、致密;随着磁场强度的增大,镀层的比饱和磁化强度逐渐增大,而矫顽力呈先增大后减小的趋势,当磁场强度为0.5T时,矫顽力最大。     

塑料磁体NdFeB树脂复合材料的研制

金属ＮｄＦｅＢ磁粉和聚合物混合后采用一定工艺制成的器件，既有金属粉磁的特性，又有塑料的性能，是一种新的功能性器件，本试验对该类器的制作 工艺，组织结构和磁性能关系进行进行了研究，制成的塑料磁体已成功竽各种功能性执行元件，仪器仪表，微型马达，使用效果良好。     

离子液体中电沉积钴-银软磁薄膜

使用离子液体(EMIC)和乙二醇的混合液作为电解液,电沉积制备钴-银软磁薄膜。研究发现,乙二醇能够有效地解离离子液体,从而增加电解液中氯离子和钴配合物的浓度。增大电解液中乙二醇的体积,有利于加快钴的沉积速率,提高钴-银薄膜中钴的质量分数,从而提高钴-银薄膜的比饱和磁化强度。随着乙二醇的体积的增大,钴-银薄膜从颗粒状逐渐转变为枝晶状,矫顽力逐渐增大。     

电沉积三元铁基非晶磁性合金薄膜的研究进展

叙述了电沉积三元铁基非晶磁性合金薄膜的工艺条件,包括Fe-Ni-S、Fe-Ni-Cr、Fe-Ni-W、Fe-Co-Ni及Fe-P-B等五种典型合金薄膜。介绍了铁基非晶磁性合金薄膜的耐蚀性、耐磨性、热稳定性以及磁学等功能性能,指出了未来铁基非晶磁性合金薄膜的研究方向。     

磁场辅助射流电沉积Ni-SiC纳米复合镀层耐蚀性的研究

采用磁场辅助射流电沉积方法在45^#钢表面制备了Ni-SiC纳米复合镀层,并研究了镀层的表面形貌、耐蚀性及物相组成。结果表明:当电流密度为4 A/dm²时,镀层的腐蚀失重最小为3.2 mg/cm²;当磁场强度超过0.8 T后,镀层的腐蚀失重基本保持不变;当喷射速率达到3 m/s时,镀层的腐蚀失重最小为3.5 mg/cm²。经SEM分析可知,当磁场强度达到0.8 T时,腐蚀产物最少,晶间腐蚀较轻。由极化曲线及电化学阻抗谱分析可知,当磁场强度达到0.8 T时,镀层的耐蚀性最好。由XRD分析证实了Ni、SiC两相的存在,并且随着磁场强度的增加,衍射峰变矮、变宽,说明镀层晶粒细化,改善了镀层的耐蚀性。     

钕铁硼磁性塑料及其注射成型的研究

通过对快淬钕铁硼(NdFeB)磁粉进行包覆，并用硅烷偶联剂KH550进行表面处理，以PA12做粘结剂，添加复配润滑剂及抗氧剂，在保证磁性能即高磁粉含量(91％)的条件下，很好地解决了NdFeB塑料粘结磁体流动性差及磁体在湿热环境下易氧化生锈的问题。并研究了注射成型NdFeB塑料粘结磁体的制备工艺、磁粉表面处理、磁粉含量、添加剂等因素对磁性能、加工性能、力学性能的影响。     

以多孔氧化铝为模板电沉积制备磁性纳米线阵列膜

近年来,以多孔阳极氧化铝为模板制备磁性纳米线材料颇受人们的关注。综述以多孔阳极氧化铝为模板,采用电化学沉积制备各种有序磁性纳米线阵列膜的最新研究进展,同时展望磁性纳米线的应用前景。     

烧结高性能钕铁硼永磁材料制备工艺的研究

钕铁硼为第三代永磁材料,应用广泛。阐述了传统的钕铁硼永磁体的制造工艺方法,提出制备钕铁硼材料的新技术。重点讨论了采用速凝厚片工艺、氢爆工艺、并结合添加抗氧化剂、润滑剂、Ho元素和Dy元素等工艺方法,制备高性能的烧结钕铁硼永磁材料,分析制备工艺对永磁体显微组织结构和磁性能的影响。