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采用直流电沉积方法在镀液中加入复合有机添加剂制备了镍铁纳米合金镀层。利用扫描电镜分析镀层形貌及晶粒尺寸,研究了硫酸亚铁铵浓度、电流密度、pH值对镀层中铁含量的影响,测定了镀层的耐腐蚀性能及结合力。结果表明,该纳米镀层表面致密、平整,且结合强度、耐腐蚀性能优良。 相似文献
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Ni-W纳米晶合金电沉积工艺条件的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
纳米晶材料与常规晶体材料相比有许多优良的性能 ,已受到广泛关注。本文采用电沉积方法获得了Ni W纳米晶合金镀层。研究了镀液中钨酸钠含量、温度、pH值及电流密度对沉积速度的影响。测定了镀层的显微硬度 ,并用X -射线衍射仪对其微观结构进行了观察。结果表明 ,影响沉积速度最大的因素为pH值 ,其次是电流密度 ;镀层显微硬度最高可达 6 70 .3HV。通过正交试验得出适宜工艺条件范围为 :Na2 WO4·2H2 O 1 0~ 30g/L ,电流密度 1 0~1 5A/dm2 ,温度 6 0~ 70℃ ,pH值 6~ 7。 相似文献
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电沉积银纳米膜的光学性质研究 总被引:2,自引:1,他引:1
电沉积制备的银纳米膜的X 射线光电子能谱测试表明,纳米膜中的银显示出银元素的特征峰;采用四探针测试仪测量银纳米膜的电导率,发现银纳米膜的电导率比纯银要下降两个数量级;X射线衍射分析发现,银纳米膜的衍射峰相对于纯银发生了宽化,计算得出平均颗粒大小为50nm;紫外-可见分光光度计测量了纳米膜的吸光度,其吸收峰发生"蓝移";银纳米膜的熔点也会变低;用椭圆偏振仪测试不同波长下的复折射率和复介电常数及纳米膜的厚度;用Z 扫描装置测量出银纳米膜具有非线性折射性质,并计算了非线性折射系数n2达2 34×10-11esu。 相似文献
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使用电沉积技术制备了磁性能较好的Co-Pt-W薄膜,并研究了pH值对薄膜的成分、结构、表面形貌和磁性能的影响。研究发现:Co-Pt-W薄膜是一种具有fct四方结构的晶态颗粒膜。随着pH值的升高,Co-Pt-W薄膜中Co和W的质量分数下降,而Pt的质量分数增大。pH值过低,析氢作用明显,Co-Pt-W薄膜表面颗粒较大,并且孔隙率高。增大pH值,有利于细化Co-Pt-W薄膜表面颗粒并降低孔隙率,从而提高矫顽力。 相似文献
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金属NdFeB磁粉和聚合物混合后采用一定工艺制成的器件,既有金属粉磁的特性,又有塑料的性能,是一种新的功能性器件,本试验对该类器的制作 工艺,组织结构和磁性能关系进行进行了研究,制成的塑料磁体已成功竽各种功能性执行元件,仪器仪表,微型马达,使用效果良好。 相似文献
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采用磁场辅助射流电沉积方法在45#钢表面制备了Ni-SiC纳米复合镀层,并研究了镀层的表面形貌、耐蚀性及物相组成。结果表明:当电流密度为4 A/dm2时,镀层的腐蚀失重最小为3.2 mg/cm2;当磁场强度超过0.8 T后,镀层的腐蚀失重基本保持不变;当喷射速率达到3 m/s时,镀层的腐蚀失重最小为3.5 mg/cm2。经SEM分析可知,当磁场强度达到0.8 T时,腐蚀产物最少,晶间腐蚀较轻。由极化曲线及电化学阻抗谱分析可知,当磁场强度达到0.8 T时,镀层的耐蚀性最好。由XRD分析证实了Ni、SiC两相的存在,并且随着磁场强度的增加,衍射峰变矮、变宽,说明镀层晶粒细化,改善了镀层的耐蚀性。 相似文献
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钕铁硼磁性塑料及其注射成型的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
通过对快淬钕铁硼(NdFeB)磁粉进行包覆,并用硅烷偶联剂KH550进行表面处理,以PA12做粘结剂,添加复配润滑剂及抗氧剂,在保证磁性能即高磁粉含量(91%)的条件下,很好地解决了NdFeB塑料粘结磁体流动性差及磁体在湿热环境下易氧化生锈的问题。并研究了注射成型NdFeB塑料粘结磁体的制备工艺、磁粉表面处理、磁粉含量、添加剂等因素对磁性能、加工性能、力学性能的影响。 相似文献
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钕铁硼为第三代永磁材料,应用广泛。阐述了传统的钕铁硼永磁体的制造工艺方法,提出制备钕铁硼材料的新技术。重点讨论了采用速凝厚片工艺、氢爆工艺、并结合添加抗氧化剂、润滑剂、Ho元素和Dy元素等工艺方法,制备高性能的烧结钕铁硼永磁材料,分析制备工艺对永磁体显微组织结构和磁性能的影响。 相似文献