电镀规范对Fe—Ni—P合金硬度和耐磨性的影响

研究了不同电镀规范的Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ合金层显微硬度和摩擦学性能。镀液中Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｎｉ）浓度比增大或电流密度增加，镀层的硬度上，耐磨提高；槽液的ＰＨ值或温度增大，镀层的显微硬度下降，耐磨性降低。镀液ＮａＨ２ＰＯ２．Ｈ２Ｏ浓度为５ｇ／Ｌ时，镀层硬度和磨性最高。宜选用的工艺参数为ＰＨ值１．０－１．２，温度６０－７０℃，电流密度１０－２０Ａ／ｄｍ＾２。Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ非晶合金的耐磨性比Ｎｉ－Ｐ非昌合金高２     

电镀规范对Fe－Ni－P合金硬度和耐磨性的影响

研究了不同电镀规范的Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ合金层显微硬度和摩擦学性能。镀液中Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｎｉ）浓度比增大或电流密度增加，镀层的硬度上升，耐磨性提高；粮液的ｐＨ值或温度增大，镀层的显微硬度下降，耐磨性降低。镀液ＮａＨ２ＰＯ２·Ｈ２Ｏ浓度为５ｇ／Ｌ时，镀层硬度和耐磨性最高。宜选用的工艺参数为ｐＰＨ值１．０～１．２，温度６０～７０℃，电流密度１０～２０Ａ／ｄｍ２。Ｆｅ－Ｎｉ－Ｐ非晶合金的耐磨性比Ｎｉ－Ｐ非晶合金高２倍，摩擦系数低２０％。     

多元线性超结构关系模型参数估计的大样本性质

讨论了如下线性超结构关系模型βｘｋ＋α＝０，ζｋ＝ｘｋ＋εｋｋ＝１，２，．．．ｎ，（εｋ，ｋ＝１，２，．．．ｎ）ｉ，ｉ，ｄ，Ｅ（ε１）＝０，Ｖａｒ（ε１）＝σ＾Ｉｍ其中（ｘｋ，ｋ＝１，２，．．．．，ｎ）为相互独立的ｍ维ｒ．ｖ．列，且和随机误差（ε，ｋ＝１，２，．．．．，ｎ）相互独立，在一定条件下，证明了ＬＳ估计量β，α，σ＾２的强相合性，唯一性，并给出了估计量的一类ａ．ｓ．收敛速度０（ｎ＾－１／２     

铁砂中Si的含量对永磁铁氧体结晶形貌和磁性能的影响

用不同ＴＦｅ和ＳｉＯ２含量的精铁砂代替Ｆｅ２Ｏ３，制备永磁铁氧体，通过扫描电镜形貌观察和宏观磁性的测量分析，表明：当铁砂中的ＴＦｅ含≥７１．５％，ＳｉＯ２含量≤０．２４％，酸不溶物含量≤０．６％时，可用于生产高性能永磁铁氧体，其性能达Ｂｒ＝０．４２４Ｔ，Ｈｃ＝１９２ｋＡ／ｍ，（ＢＨ）ｍａｘ＝３１．２ｋＪ／ｍ＾３。     

MAGNETIC PROPERTIES AND APPLICATIONS OF NEWLY-DEVELOPED NANOCRYSTALLINE Fe_(73.5)Cu_1Nb_2V_1Si_(13.5)B_9 ALLOY

报道了新开发的纳米晶Ｆｅ７３．５Ｃｕ１Ｎｂ２Ｖ１Ｓｉ１３．５Ｂ９合金的综合软磁性能。新合金的高频铁损水平为：Ｐ３／１００ｋ＝５１０ｋＷ·ｍ－３，Ｐ２／２００ｋ＝７４８ｋＷ·ｍ－３，Ｐ２／５００ｋ＝３６７１ｋＷ·ｍ－３和Ｐ０．５／１０００ｋ＝８７１ｋＷ·ｍ－３。新合金的铁损比早期开发的纳米晶Ｆｅ－Ｃｕ－Ｎｂ－Ｓｉ－Ｂ合金的低且明显低于优良的功率Ｍｎ－Ｚｎ铁氧体Ｈ７ｃ４的铁损。对铁损与频率和幅值磁通密度的关系进行了分析。也报道了新合金在若干方面的实际应用。     

立方A^4＋M^5＋2O7型化合物与新型负热膨胀材料

概述了立方Ａ＾４＋Ｍ＾５＋２Ｏ７型化合物的结构特点，讨论了ＡＶ２－ｘＰｘＯ７型（Ａ＝Ｚｒ或Ｈｆ；ｘ＝０．１～１．２）及其部分取代的Ａ＾４＋１－ｙＢ＾４＋ｙＶ２－ｘＰｘＯ７型（Ｂ＝Ｔｉ，Ｃｅ，Ｔｈ，Ｕ，Ｍｏ，Ｐｔ，Ｐｂ，Ｓｎ，Ｇｅ或Ｓｉ；ｙ＝０．１～０．４）和Ａ＾４＋１－ｙＣ＾１＋ｙＤ＾３＋ｙＶ２－ｘＰｘＯ７型（Ｃ为碱金属元素，Ｄ为稀土金属元素）材料的负热膨胀性能。     

FeCuNbVSiB纳米晶软磁合金及其在电力电子技术领域中的应用

报道了新开发的Ｆｅ７３．２Ｃｕ０．８Ｎｂ２Ｖ１．５Ｓｉ１．５Ｂ１１纳米晶合金的主要磁性能：μ０≥８×１０＾４,ＢＳ＝１．４０Ｔ,Ｐ０．５／２０ｋ≤１９Ｗ／ｋｇ,Ｐ０．５／５０ｋ≤９０Ｗ／ｋｇ。以μ（ｋ）ｔ Ｐ０．５／２０ｋ为参数,研究了合金的温度稳定性。研究表明,与２５℃时全金性能相比,在－５０℃和＋５０℃时合金性能的相对变化率不超过５％。介绍了合金在中、高频功率变压器、传感器、电感器等电力电子技     

掺SrLi1／4Nb3／4O3的SrTiO3缺陷化学研究

利用Ｈ２／Ｈ２Ｏ体系获得不同的氧分压,上电极法 掺杂ＳｒＬｉ１／４Ｎｂ３／４Ｏ３的ＳｒＴｉＯ３瓷体在８００－１２００℃,Ｐｏ２＝１０＾１７－１０＾５Ｐａ的电导率。通过ｌｏｇＰｏ２－ｌｏｇσ图,计算出半导化活化焓约为２８７．７ｋＪ／ｍｏｌ,讨论了ＳｒＬｉ１／４Ｎｂ３／４Ｏ３掺杂的ＳｒＴｉＯ３在不同氧分压区域的主ｎ型半导体化向ｐ型半导化转变的特点。     

CuI—SeVI离子谱线和振子强度的理论计算

通过对３ｄ＾１０４１（１－ｓ，ｐ，ｄ，ｆ）和３ｄ＾９ ４ｓ４ｐ组态部分能级的ＨＸＲ理论计算值与实验值之差△Ｅ随Ｚｃ（Ｚｃ＝Ｚ－Ｎ＋１）变化的分析研究，找出了△Ｅ和Ｚｃ之间的一种新的拟合公式，用该拟合公式和相应的ＦＯＲＴＲＡＮ程序对上述能级的ＨＸＲ方法理论计算进行了拟合计算，给出了至今还没有实验值的部分能级。     

单柱离子色谱法分离测定复合镀铬液中的F^—和SO4^2—

采用单柱离子色谱系统，在样品中存在大量铬酸根的情况下，以３．０ｍｍｏｌ／Ｌ邻苯二甲酸氢钾作为淋洗液，简单快速地分离测定了镀铬液中的Ｆ＾－和ＳＯ４＾２－，并在此条件下作出了Ｋ２ＳｉＦ６的离解曲线。Ｆ＾－，ＳＯ４＾２－的线性范围分别为１．０￣１５０．０ｍｇ／Ｌ，１．４￣１５０．０ｍｇ／Ｌ，最低检出浓度分别为０．０２ｍｇ／Ｌ，０．０７ｍｇ／Ｌ（信噪比为２）。     

Ti系高效催化剂乙烯—1—相烯气相共聚反应及共聚物结构…

研究了Ｔｉ－Ｍｇ催化剂（ＭＧ型）的乙烯－１－丁烯气相共聚合。常压下聚合动力学曲线为衰减型。催化效率为１０．２－１１．０ｋｇ ＰＥ／ｇＴｉ，产物密度ｄ＝０．９０５－０．９２２ｇ／ｃｍ＾３。Φ－１００流化床共聚合（１．２ＰＭａ）催化效率为１３７－１７３ｋｇＰＥ／ｇＴｉ。产物特性粘度「η」ＭＩ２．１６、ＭＦＲ１０．０／２．１６分别为１．０９－２．２２、１．０－６．９、７．８－１０．４。共聚物熔点、结晶度     

氰化镀锌和无氰碱性锌酸盐镀锌通用光亮剂的研究

介绍了一种新的碱性镀锌通用型光亮剂，可用于氰化物镀锌以及无氰碱性锌液中，使用时，镀液的基本成分和条件是：ＺｎＯ１０－４５ｇ／Ｌ，ＮａＯＨ１００－１５０ｇ／Ｌ，ＮａＣＮ０－８０ｇ／Ｌ，ＷＤ９２８８－１０ｍｌ／Ｌ，ｔ＝０－４５℃，Ｄｋ＝０．５－６．０Ａ／ｄｍ＾２，还讨论了溶液中ＮａＯＨ的浓度对镀液的性能和镀层质量的影响。     

化学沉积Ni—Mo—P合金

研究了溶液的组分及操作条件对Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ合金形成的影响，以得到合适的沉积工艺。试验结果表明，ＰＨ＝５．６，ｔ＝９０℃，溶液中的Ｎｉ＾２＋／ＭｏＯ４＾２－＝１３．９－１６．７；ｐＨ＝９．０，ｔ＝８５℃，Ｎｉ＾２＋／ＭｏＯ４＾２－＝２３．４－２８．５，有利于获得良好的Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ的合金层。     

非共沸混合制冷剂HFC—32／HFC—134a水平管内蒸发换热的实验研究

本文进行了非共沸混合制冷剂ＨＦＣ－３２／ＨＦＣ－１３４ａ水平管内的强制对流沸腾换热实验。ＨＦＣ－３２的质量分率为０．１０,０．２５和０．４０,热流密度为６,１２,２４,３６,４８和６０ｋｗ／ｍ＾２,质量流量为１０,１５,２２,３０和４６ｇ／ｓ,实验段进口压力保持为０．４Ｍａ。实验结果表明混合制冷剂的强制对流蒸发换热存在退化现象。     

Fe73.5Cu0.8Nb2V1.2Si11.5B11新型纳米晶合金的研究

报道了Ｆｅ７３５Ｃｕ０８Ｎｂ２Ｖ１２Ｓｉ１１５Ｂ１１新型纳米晶合金的研究结果。透射电镜和穆斯堡尔谱研究表明，合金经８４３Ｋ，０５ｈ真空退火，形成由平均晶粒尺寸为１８ｎｍ左右的αＦｅ（Ｓｉ）相（～７８％）和剩余非晶组成的显微结构。合金的饱和磁感应强度为１４Ｔ，ｆ＝１ＫＨｚ时最大有效磁导率（μｅ）为７１８×１０－３Ｈ／ｍ，Ｐ１２／２ｋ２１ｋＷ／ｍ３，Ｐ１１／１０ｋ２１８ｋＷ／ｍ３，Ｐ０５／２０ｋ１５７ｋＷ／ｍ３，Ｐ０２／１００ｋ３００ｋＷ／ｍ３，矫顽力Ｈｃ≈１１Ａ／ｍ。合金具有明显的磁场处理效果，经纵向和横向磁场退火后，其Ｂ３０、α３０分别为１４４Ｔ，０９０和１３０Ｔ、０１。与Ｆｅ７３５Ｃｕ１Ｎｂ３Ｓｉ１３５Ｂ９相比，由于用Ｖ代替了部分Ｎｂ，提高了熔体流动性，改善了快淬合金带材的机械特性，降低了成本。     

淬硬高速钢洛氏和维氏硬度换算表及换算公式

生产实践证明,淬火、回火高速工具钢的洛氏和维氏硬度之间的实测换算值与国家标准GB／T1172－1974《黑色金属硬度及强度换算表》中的换算值不相符合,其有自身的特殊性,根据我国具体的生产实际情况,有必要建立我国自己的淬硬高速钢洛氏硬度和维氏硬度换算的标准,用附加公式HRC＝100－37353／（HV＋200）来进行辅助换算可以得到非常精确的结果,该公式在实际应用中非常方便。     

显微维氏硬度换算至宏观维氏硬度的方法探讨

以各种不同载荷、不同硬度段的典型金属组织的一系列显微硬度测量值F，d，HVm及宏观硬度值HV为基础，用公式HV=0．1891F／(d d1)^2计算出不同载荷、不同硬度段的各种典型金属组织的一系列显微硬度值d1值，进而求解出d1关于F和d的校正函数式d0。通过该校正函数式对显微硬度值进行校正。在实际应用中可以由显微硬度的测试值F和d计算出相应的校正函数式d0的值，由压痕尺寸的复合数值d d0查表或计算求出校正显微硬度值HV^0。     

等离子体辅助反应式脉冲激光熔蚀制备AIN薄膜的低温生长

使用等离子体辅助反应式脉冲激光溅射沉积薄膜的方法在Ｓｉ（１１１）和Ｓｉ（１００）基片上已经成功地低温制备出ＡＩＮ多晶膜。实验表明,当脉冲能量密度ＤＥ＝１．０Ｊ·ｃｍ＾－２,脉冲频率ｆ＝５Ｈｚ,氮气气压ＰＮ２＝１．３３×１０＾４Ｐａ,基底温度ｔｓｕｂ＝２００℃,放电电压Ｖ＝６５０,基靶距离ｄｓ－Ｔ＝４ｃｍ时薄膜的生长速度等于６ｎｍ／ｍｉｎ。ＡＩＮ薄膜的折射率为２．０５,和基底的取向关系分别为：ＡＩＮ     

超细镍粉的溶液还原法制备研究

以ＮｉＳＯ４．６Ｈ２Ｏ为原料,Ｎ２Ｈ４．Ｈ２Ｏ为还原剂,ＮａＯＨ调节溶液的ＰＨ值,控制反应条件为：Ｎｉ＾ｗ２＋的浓度１．０ｍｏｌ．Ｌ＾－１;Ｎ２Ｈ４．Ｈ２Ｏ／Ｎｉ＾２＋为２．０;ＮａＯＨ／Ｎｉ＾２＋的１．０,反应温度为９０℃,将得到的沉淀物洗涤,干燥,得到了平均粒度为６２ｎｍ的超细镍粉,考察了反应条件对还原反应的影响,并对制备的粉末采用ＴＥＭ,ＸＲＤ,ＩＡＳ及ＢＥＴ法进行了表征,结果表明,本法制力     

高性能2.5Gb／s用的DFB—LD／EA单片集成器件

报导了采用全ＭＯＣＶＤ生长的１．５５μｍ的单片集成ＤＦＢ＝ＬＤ／ＥＡ组件的 在ＤＷＤＭ系统上的传输测试结果，出纤功率Ｐｆ≥２．５ｍＷ＠Ｉｆ＝７５ｍＡ，边模抑制比ＳＭＳＲ〉３５ｄＢ，调制器反向偏压为２．５Ｖ时的消光比为１４ｄＢ，该发射模块在２．５Ｇｂ／ｓＤＷＤＭ系统上进行了传输试验，传输２４０Ｋｍ后无误码，其通道代价≤１ｄＢ＠ＢＥＲ＝１０＾－１２。