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友清 《激光与光电子学进展》1998,(1):22-23
在今年4月举行的美国化学学会会议上报导,快速薄膜淀积法为制作非线性光学材料和目前难于产生的其它光学材料展示了希望。纽约州立大学J.Garvey等用激光辅助分子束淀积(LAMBD)制作了一种在氧化钛或氧化硅玻璃基质中含有有机分子的薄膜。虽然掺染料玻璃可用其它方法(如用溶凝胶法)制作,但可能会出现四坑和其它缺陷,染料分子起团或在高温处理期间分解。激光辅助分子束淀积工艺与分子束外延相似(见图)。由准分子激光器产生的248nm波长光脉冲在正常气压区使钛或硅之类靶烧熔,产生20000K的等离子体。反应性氧和等离子体相结合,高… 相似文献
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以扫描电镜和X射线光电子能谱等多种测试手段研究分析了用反应脉冲激光淀积技术制备的PbS薄膜。分析结果表明,利用该淀积方法可以得到附着力好,符合化学计量比的硫化铅薄膜。 相似文献
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反应式脉冲激光溅射淀积AlN薄膜化学稳定性研究 总被引:2,自引:0,他引:2
就反应式脉冲激光溅射淀积制备氮化铝薄膜的过程,讨论了激光脉冲能量密度及脉冲频率对所有制备薄膜结构性能的影响,并对薄膜的化学稳定性作了比较详细的研究,结果表明,当薄膜中存在有未反应的单质铝时,薄膜的化学稳定性较差。比较而言具有高取向性,择优生长的致密AIN微晶膜的化学稳定性优于结构相对疏松的非晶膜。 相似文献
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分析了激光诱导化学气相淀积过程中激光对气体的激发机理,采用半经典近似的方法,推导出气体吸系数的数学表达式,以此为基础讨论了实验参量-激光强度、频率、气体压强对气体吸收过程的影响。 相似文献
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DA Xiao-li XU Chen GUAN Bao-lu SHEN Guang-di 《半导体光子学与技术》2007,13(2):141-145
SiN, films are deposited on silicon wafers through plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The relationship between the film stress and deposition factors is investigated. It is found that low stress films would be obtained by adjusting the ratio of low frequency(LF) power to high frequency(HF) power pulse time or the chamber pressure. The best of the two methods to control stress in the film is changing the percentage of LF power pulse time. The low stress condition is achieved when the percentage of low frequency power pulse time in total time(LF and HF pulse time) is close to 40%, The low stress cantilever of tunable vertical cavity surface emitting laser is obtained by using this deposition condition, 相似文献
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凡金星 施正荣 张光春 杨健 陈如龙 李果华 Fan Jinxing Shi Zhengrong Zhang Guangchun Yang Jian Chen Rulong Li Guohua 《半导体技术》2012,37(3):192-196
提出了一种简单有效的制备双层SiNx薄膜的方法,其薄膜具有良好的减反射钝化特性。采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法,通过控制SiH4和NH3气体流量比,在p型多晶硅衬底上生长单层及双层SiNx膜。随后使用薄膜测试分析仪测量了薄膜的厚度、折射率及反射率,并用Semilab WT-2000测量少数载流子寿命,通过测量量子效率,对单、双层膜电池进行了比较。实验结果表明:相比单层减反射钝化膜,采用双层SiNx膜,少数载流子寿命可以得到更好的改善,开路电压可提高约2 mV,短路电流可提高约40 mA,电池效率能提高0.15%。 相似文献
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利用氟化氪(KrF)脉冲准分子激光烧蚀沉积(PLD)技术,通过对激光等离子体的粒子成分以及空间分布的诊断,实现了等离子体成分的选择性沉积。在不降低光谱范围和透过率指标的前提下,解决了类金刚石(DLC)薄膜和硫化锌(ZnS)基底的牢固结合问题;通过改进基底平台的扫描方式,在激光烧蚀沉积工艺中沉积了80mm的大面积均匀类金刚石薄膜。制备的类金刚石/ZnS镀膜样品,光谱范围为0.53~12μm,其中1.3~11μm波段透过率在70%以上,膜层均匀性优于95%,可耐受环境湿度95%~100%,工作温度-45~85℃,附着力达到国军标要求。研究表明,利用类金刚石薄膜可以明显提高ZnS材料的耐冲击、耐高温、耐辐射和抗沙粒、盐、雾和尘埃的磨损侵蚀等能力。 相似文献
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