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正(接2014年第3期第80页)5溅射产额与工作气体压力的关系在较低工作气体压力时,溅射产额不随压力变化,在较高工作气体压力时,溅射产额随压力增大而减少,见图12。这是因为工作气体压力高时,溅射粒子与气体分子碰撞而返回阴极(靶)表面所致。6溅射产额与温度的关系图13是用45 keV的Xe+对几种靶材进行轰击时,其溅射产额(由靶材失重间接表达)与靶材 相似文献
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正(接2014年第5期第80页)靶—基距对沉积速率有很大影响,图19给出了S-枪靶的靶基距对沉积速率的影响。从图中可见,随着靶基距的增加,沉积速率呈双曲线状下降。沉积速率随靶—基距的增加而下降是由于靶材粒子在迁移过程中的散射效应引起的。为 相似文献
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正用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有—定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材,击出阴极靶材的原子或分子,飞向被镀基片表面沉积成薄膜。 相似文献
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<正>近年来,随着溅射设备及工艺方法的不断创新,无论是金属,还是其他材料均可用溅射技术制备薄膜,满足各行各业的需求。5.2直流二级溅射普通直流二极溅射是在溅射靶材上施加直流负电位(称阴极靶),阳极为放置被镀工件的基片架。直流二极溅射装置如图20所示,在真空镀 相似文献
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正(1)溅射原子的能量与角分布入射离子能量大约在100~500 eV之间时,靶上溅射出来的粒子绝大部分是靶材的单原子态,离化状态仅占1%左右。如果入射离子的能量很高,会溅射出较多的复合粒子。由于溅射粒子是与具有几百至几千电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,所以溅射粒子的能量分布必定与靶材种类、入射离子的种类和能量以及溅射粒子逸出的方向有关。通常 相似文献
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1.3.3 清洗溶剂的选择 (上接 2 0 0 3年第 3期第 65页 )在溶剂清洗方法中 ,可根据被清洗材料及污染物的性质来选择合适、有效的清洗剂和溶剂是溶剂清洗方法中的一个关键。清洗溶剂常常是彼此不相容的 ,所以在使用另一种清洗液前 ,必须先从表面上完全清除这一种清洗液。在清洗过程中 ,清洗液的顺序必须是化学上相容的和可溶混的 ,而且在各阶段都没有沉淀。1 .3.4 清洗程序及注意事项不管用何种清洗方法 ,清洗时必须按一定的顺序进行操作。但是同一种清洗方法的清洗程序也并不一定相同。要根据达到的清洁等级程度来确定具体的清洗程序。对批… 相似文献