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1.
X波段五位移相器和小功率开关HMIC的研制 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了一种用混合微波组装工艺制造的X波段PIN二极管五位数字移相器和小功率开关HMIC的电路设计和制造工艺,并分析了制造工艺对移相器的影响, 提出了控制这种影响的方法。用这种控制方法制造的该X波段PIN二极管五位数字移相器和小功率开关HMIC: 体积小、可靠性高 相似文献
2.
曲兰欣 《固体电子学研究与进展》1995,(3)
Ka波段GaAsHBTPIN二极管开关和移相器在要求开关速度快、功率处理能力强的微波电路领域,PIN二极管的工艺简单,用HBT材料体系中的基区层(p+)、集电区层(n-)和集电区第二层(n-)就可容易地制成,因而使含有开发、移相器和放大器的多功能组件... 相似文献
3.
X波段五位、C波段六位砷化镓单片数字移相器 总被引:2,自引:0,他引:2
南京电子器件研究所成功地研制出X波段五位、C波段六位砷化镓单片数字移相器,该移相器具有体积小、性能优、功耗极低、转换速度快、重复性和一致性好、可靠性高等优点。电路设计中,采用开关移相网络、桥T电路和谐振式电路形式来实现移相功能。电路采用先进的MMIC工艺制作。研制的移相器主要性能指标如下:X波段五位砷化镓单片数字移相器频 率:f0±550MHz位 数:五位(180°、90°、45°、22.5°、11.25°)插入损耗:8.5dB相位精度:RMS<2.6°输入驻波:<1.5输出驻波:<1.5各… 相似文献
4.
S波段单片四位数控移相器 总被引:2,自引:0,他引:2
描述了S波段单片四位数字移相器的电路设计、工艺制作和性能。采用集总元件的高通/低通网络构成移相网络和GaAsMESFET作为开关控制器件,利用南京电子器件研究所标准的离子注入微波单片集成电路(MMIC)制造工艺,研制出S波段单片四位数字移相器。该移相器在设计工作频带内16个移相态具有移相精度高(均方根误差小于1°)、输入输出驻波好(<1.4)和较低的插入损耗(<5.5dB)与插损变化(均方根误差小于0.2dB)等优良的电特性。芯片尺寸为6.45mm×1.4mm×0.2mm。 相似文献
5.
《固体电子学研究与进展》2017,(1)
报道了一款应用于Ku波段的GaN T/R MMIC。该芯片采用0.15μm GaN HEMT器件工艺制造,集成了T/R组件的接收通道和发射通道,芯片面积7.00mm×3.32mm。研制的MMIC集成了5位数字衰减器、5位数字移相器、前级低噪声放大器、后级低噪声放大器、驱动放大器、功率放大器、公用支路的小信号开关和收发切换的功率开关。在16~17GHz工作频带内测得该芯片接收通道增益大于21dB,噪声系数小于3.5dB;发射通道增益大于20.8dB,饱和功率大于40.8dBm,功率附加效率典型值30%。该芯片上集成的5位数字移相器、5位数字衰减器功能正常,达到设计要求。 相似文献
6.
《固体电子学研究与进展》1995,(2)
封面介绍S、C波段相控阵T/R组件S、C波段相控阵T/R组件,采用MMIC芯片和小型化MIC电路混合形式,运用微组装工艺制作而成。其中LNA,SPDT等使用了5片MMIC芯片;限幅器、移相器等电路则采用二极管芯片组装完成。功率放大器输出级是大功率FE... 相似文献
7.
《固体电子学研究与进展》2016,(3)
<正>首次研制了国内第一块Ku波段GaN T/R一体多功能全单片芯片,该芯片集成了T/R的接收通道和发射通道。接收通道含功率输出开关、前级低噪声放大器、5位数字衰减器、后级低噪声放大器、小信号开关和5位数字移相器;发射通道含5位数字移相器、小信号开关、驱动放大器、功率放大器和功率开关,如图1所示。在16~17 GHz工作频率内测得接收通道增益≥20±0.5 dB,噪声系数≤3.5 dB;发射通道增益约44 dB,饱和功率41 dBm(脉冲宽度100μs,10%占空比),功率附加效率约30%。在芯 相似文献
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Daimlar ChryslerResearch Center Umiversity of Ulm首先报道了在GaAs衬底上生长应变In . Ga. As PIN二极管 并可用作开关MMIC。由于其底的开启电压和低的开启电阻 InP基InGaAs PIN二极管胜过GaAs开关电路 同时还具有低的DC功率以及极高的隔离度。为了避免InP衬底的有关工艺问题 采用MBE方法把应变层InGaAs二极管生长在GaAs上 采用线性InAAs应变缓冲层 其结果是消除%的应力。 已报道的SPST隔离度高达dB .dB低的插入损耗 在GHz下 直流损耗仅为.mWSPDT在GHz下已取得—dB的隔离和-.dB的插 《微电子技术》2001,29(3):22
DaimlarChryslerResearchCenterandUmiversityofUlm首先报道了在GaAs衬底上生长应变In 0 52Ga 0 4 8AsPIN二极管 ,并可用作开关MMIC。由于其底的开启电压和低的开启电阻 ,InP基InGaAsPIN二极管胜过GaAs开关电路 ,同时还具有低的DC功率以及极高的隔离度。为了避免InP衬底的有关工艺问题 ,采用MBE方法把应变层InGaAs二极管生长在GaAs上 ,采用线性InA1As应变缓冲层 ,其结果是消除 94 %的应力。已报道的SPST隔离度高达 4 5dB … 相似文献
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基于ADS仿真设计X波段五位数字移相器 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了利用ADS进行X波段五位数字移相器的设计。描述了PIN管的开关特性、X波段五位数字移相器的电气特性、原理、电路设计及仿真情况。移相器采用PIN管管芯作为开关元件,5个移相位将呈线形级联布置。均方根相位误差小于3°,插入损耗在1.7~2.9 dB之间,回波损耗小于15 dB。仿真结果,满足要求。 相似文献
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VIPer系列单片IC集先进的电流型PWM控制电路和功率开关于一体,功率开关管是采用专利技术制造的纵向智能功率MOSFET,可编程开关频率达200kHz,这种精巧独特的IC可使SMPS元件减少的50%,本文介绍了VIPer系列单片IC的功能,特点及其应用电路。 相似文献
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《固体电子学研究与进展》1995,15(1):21-25
报道光控平面GaAs-PIN二极管的实验结果。采用V形浅槽的全离子注入工艺,研制了GaAs-PIN二极管。器件击穿电压高达80V,最小电容0.2pF。光控I-V曲线类似晶体管特性,光控电流能力为300μA/mW。装成移相器电路,测得在L波段的光控相移20°~26°。 相似文献
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报道光控平面GaAs-PIN二极管的实验结果。采用V形浅槽的全离子注入工艺,研制了GaAs-PIN二极管。器件击穿电压高达80V,最小电容0.2pF。光控I-V曲线类似晶体管特性,光控电流能力为300μA/mW。装成移相器电路,测得在L波段的光控相移20°~26°。 相似文献
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高量子效率Ⅱ-Ⅵ族光电探测器 总被引:1,自引:0,他引:1
从征 《激光与光电子学进展》1999,(10)
广泛用于300~500nm波长范围低功率辐射探测的硅(Si)PIN光电二极管现在已有竞争对手。德国维尔兹堡大学物理所的研究人员用Ⅱ-Ⅵ族半导体材料硒化锌镁硫(ZnMgSSe)已制成一种PIN光电二极管,这种材料以前主要用于某些发蓝光二极管激光器的制造。ZnMgSSe光电二极管在430nm波长的外量子效率为58%,峰值内量子效率为80%。研究人员用分子束外延把二极管生长在砷化镓衬底上。二极管和衬底之间的晶格失配为0.03%。X射线衍射和低温光致发光数据表明,这种光电二极管具有低的缺陷密度。已制作出… 相似文献
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介绍了数字移相器的基本原理及设计方法。在ADS仿真环境下,基于GaAs HJ—FET开关器件,设计仿真了一种X波段五位数字移相器,大大降低了移相器的后期制作成本。利用矢量网络分析仪对制作的实物进行了测试,结果表明:在12—12.5GHz频段内,移相器的最大插损小于9.5dB,均方根相位误差在3°以内。 相似文献
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本文报道了D波段单片振荡-倍频链的设计、MMIC制作及测试。该电路用亚微米(0.1μm)InAlAs/InGaAsHEMT制造,且芯片上有稳定偏压电路,一个集成的E场探针将信号直接辐射入波导。检测到振荡信号的频率范围为130.5GHz至132.8GHz,输入功率为-12dBm,设计的HEMT小栅宽为45μm。这是首次报道的用InP基HEMT制作的D波段单片振荡-倍频链。 相似文献
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阐述了光纤通信前置放大器的设计原理,分析了光接收机中PIN二极管和GaAsFET器件的信号模型和噪声模型,提取了放大器用GaAsFET器件的模型参数(包括大信号、小信号和噪声模型参数)。利用PSPICE程序对光前置放大器进行了模拟分析和优化设计,并实际制作了用于2.4Gb/s光纤通信的PIN-HEMT前置放大器。实测结果表明放大器3dB带宽达到DC~4.4GHz,增益为18±1dB;加入PIN二极管后的光接收模块的3dB带宽为DC~1.688GHz,满足了2.4Gb/s光纤通信的需要。 相似文献