925银基底镀覆Ti/DLC薄膜工艺试验

针对925银传统着黑色工艺存在的缺点,采用溅射镀膜与阳极层离子源相结合的镀膜工艺,在925银基底上镀覆Ti/DLC膜,检测了不同工艺参数下膜层的性能。结果表明,通过调整负偏压、工作气体分压及镀膜时间等工艺参数,可以使Ti/DLC膜层获得较纯正、有光泽的暗黑色,并可调节其显微硬度及临界划痕载荷;当负偏压为-120V、Ar气分压为0.40Pa、时间为10min时在925银基底上溅射Ti膜,以及负偏压为-180V,乙炔分压在0.25~0.30Pa、时间为40~45min在Ti膜上沉积DLC膜时,Ti/DLC膜层的外观装饰效果、耐蚀性和力学性能等较好。     

Ti6Al4V合金等离子体基离子注氧层XPS研究

采用等离子体基离子注氧技术(O2-PBⅡ)对Ti6Al4V合金进行了表面改性处理,实验过程中改变注入离子能量的工艺参数,负脉冲偏压分别为10、20、30 kV,离子注入过程中样品台通油冷却以实现低温注入;用XPS对离子注氧层的深度、成分及化学结构进行了系统的分析.结果表明:随着注入离子能量的增加,Ti6Al4V合金表面改性层的深度明显增加,改性层的外层由一定厚度的TiO2组成,外层与内层基体之间存在Ti2O3和TiO;Al元素在改性层的外层以氧化物形式存在,且该氧化物趋于表面生长;在表面改性层的外层未发现V及其氧化物.     

中频对靶磁控溅射合成TiN/Ti多层膜

利用新型中频对靶磁控溅射技术合成了一系列TiN／Ti多层膜．考察了不同Ti间隔层对多层膜硬度和结合力的影响,分析了膜表面大颗粒和坑的形成机理;利用正交实验法和方差分析探讨了靶电流、气体压力和基体偏压对薄膜表面缺陷密度的影响,对工艺参数进行了优化．结果表明,靶电流对缺陷密度的影响最大,气体压力次之,基体偏压对缺陷密度影响最小;当靶电流I=20A、气体压力ρ（Ar＋N2）=0．31Pa、基体偏压Vbias=-16m--300V和Ti间隔层厚度x-=0．12μm时,制备出硬度HV0．2N=2250、膜基间结合力（临界载荷）Lc=48N和表面缺陷密度ρs=58mm^-2的高质量TiN／Ti多层膜．     

正交试验在多弧离子镀工艺中的应用研究

正交试验是一种数理统计方法与科学实验相结合的试验方法,通过对多弧离子镀膜中各工艺参数进行正交试验,得到齿轮材料40Cr表面较优的镀覆工艺参数:基体负偏压150 V、TiAl靶电流60 A、N2气压5.0×10-1 Pa。在不同参数条件下所得镀膜的性能对于研究各参数对镀膜性能的影响提供了全面数据资料。     

专利信息（Ⅱ）

专利名称：钕铁硼磁体表面磁控电弧离子镀不锈钢防护层的方法 专利申请号：200810049156．3 申请日：2008—01—28 公开号：CN101220456 公开日：2008—07—16 专利申请人：河南理工大学本发明提供了一种钕铁硼磁体表面磁控电弧离子镀不锈钢防护层的方法。将钕铁硼磁体抛光后装炉,抽真空3×10^-1-100Pa,通氩气15-30Pa;接通直流电源,在钕铁硼磁体与真空室壳体之间加上400～600V负偏压,通过辉光离子轰击对多孔磁体表面进行预处理,清除磁体表面的油膜、氧化膜,时间3～5min;接通弧光电源,引弧钩与不锈钢靶材之间产生弧光放电,单靶工作电流为40～90A,磁控电弧蒸发出的靶材粒子沉积在磁体表面,     

金属有机汽化和供给设备

质子交换膜燃料电池不锈钢双极板离子镀膜改性方法属于金属材料表面改性技术领域,与新能源技术领域的质子交换膜燃料电池双极板的制备技术相关。镀膜改性的工艺为：将不锈钢薄板双极板经过清洗干燥等前处理后放入电弧离子镀设备的真空室中,依次进行抽真空、离子溅射清洗、薄膜沉积和后处理等过程,其中薄膜沉积过程也就是镀膜过程．它又包括启动阴极电弧、调整弧电流、加偏压、通入反应气体等过程,在双极板表面沉积制备改性薄膜。     

磁控溅射基片负偏压对Ti/TiN复合纳米薄膜择优取向的影响

采用中频反应磁控溅射技术,以高纯Ti(99.99%)为靶材,以高纯氮气(99.99%)为反应气体,在铝合金基片上沉积Ti/TiN复合纳米膜层。通过XRD、SEM、EDS等分析Ti/TiN复合纳米膜层微观组织和物相结构,研究基片负偏压对Ti/TiN复合纳米薄膜择优取向生长的影响。研究表明,将片加上-150 V负偏压时,Ti/TiN薄膜优先沿(111)面生长;将基片加上-200 V负偏压时,Ti/TiN薄膜优先沿(220)面生长;将基片加上-350 V负偏压时,Ti/TiN薄膜优先沿(200)面生长。继续增大基片负偏压时,由于薄膜中Ar离子浓度大幅增长,高能离子长时间轰击破坏晶粒取向性,使薄膜呈无择优取向。     

多弧离子镀负偏压对氮化钛薄膜的影响

目的确定适当的负偏压,提高多弧离子镀氮化钛薄膜的综合性能。方法采用不同的负偏压,在4Cr13不锈钢表面制备Ti N薄膜,探讨偏压对薄膜表面质量、结构、硬度、结合力和摩擦系数的影响。结果负偏压对薄膜表面质量的影响较大:负偏压为0 V时,Ti N薄膜表面凹凸不平,液滴较多;随着负偏压升高,薄膜表面变得光滑,液滴减少并变小,薄膜致密性也得到提高。在不同负偏压下,Ti N薄膜均呈现出在(111)晶面的择优取向,但随着负偏压的增大,这种择优取向逐渐减弱,当负偏压达到400 V时,薄膜在(220)晶面的峰值逐渐增强。随着负偏压从0增至400 V,薄膜的硬度、结合力和耐磨性均先提高,后降低。当负偏压为300 V时,薄膜的硬度和结合力达到最大,分别为2650HV和58 N;摩擦系数和磨损量最小,分别为0.48和0.1065 mm3。结论施加适当的负偏压可以提高薄膜的硬度、结合力、耐磨性等性能,当负偏压为300 V时,薄膜的各项性能达到最佳。     

常温磷化工艺

介绍一种全过程常温处理的磷化工艺,用AB-008常温脱脂剂脱脂,盐酸加AB-112添加剂除锈、碳酸钠中和,用AB-302表面调整剂、AB-501磷化液加AB-605促进剂常温处理.工艺流程如下:脱脂→水洗→酸洗→水洗→中和→水洗→表调→磷化→水洗→纯水洗→烘干.1 AB-008常温脱脂剂脱脂AB-008常温脱脂剂是碱性非离子型活性清洗剂,pH值约为11～13,使用时按1:10水稀释,在常温下浸泡2～5min即能自动去除油污.如采用喷淋清洗、超声波清洗、电解法清洗等工艺效果更佳.2 AB-112常温除锈添加剂除锈AB-112常温除锈添加剂适用于盐酸酸洗,能加快去除工件表面油污、铁锈和氧化皮,可在常温下使用,对钢铁表面不会产生过腐蚀与氢脆,基本无酸雾逸出.使用方法:使用时按质量比:浓盐酸(36%)5份、水4份、AB-112添加剂1份.酸洗时间为2～3min即可除净,当除锈效果明显下降时,应补充盐酸和AB-     

负偏压对多弧离子镀 TiN 涂层大颗粒形貌及像素分布的影响

目的分析不同负偏压下Ti N涂层表面的大颗粒数量、尺寸和面积以及像素分布,为多弧离子镀技术的工业化应用提供基础数据。方法采用多弧离子镀膜技术,以脉冲负偏压为变量,在硬质合金表面沉积Ti N涂层。用扫描电子显微镜对涂层表面形貌进行表征,并利用Image J软件对表面大颗粒的数量和尺寸进行分析,对像素分布进行统计。结果随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒的数量先增多,后减少。负偏压为100 V时,大颗粒数量最多,为1364;负偏压为300 V时,大颗粒数量最少,为750。此外随着负偏压的增加,大颗粒所占涂层面积比逐渐减小。未加负偏压时,涂层表面大颗粒所占面积比最大,为6.9%,且此时涂层的力学性能最差;采用400 V负偏压时,涂层表面大颗粒所占面积比最小,为3.3%,且此时涂层的力学性能最好。负偏压为300 V时,亮、暗像素点的个数最多,为8302;负偏压为400 V时,亮、暗像素点的个数最少,为4067。结论当占空比为30%,沉积时间为1 h,负偏压为400 V时,获得的涂层力学性能最好,颗粒数量少且尺寸小。