液晶光阀光电导层光吸收系数的研究

用化学气相沉积法制备了液晶光阀中光电导层———非晶硅薄膜,从实验中得出最佳制备工艺的参数取值。给出了用包络线法测量非晶硅薄膜光吸收系数的原理,测量了样品的光吸收系数随波长的变化规律。得到样品在最佳工艺条件下的光吸收系数高于1×103cm-1。     

高电阻率CdSSe光电导薄膜

采用真空热蒸发工艺,用掺杂(Cu,Cl)敏化的方法制备高电阻率的CdSSe 光电导薄膜。并测试了不同制备条件和不同热处理工艺下样品的光电导性能。最后讨论了主要的制备工艺参数对 CdSSe 光电导性能的影响。用这种工艺制备的 CdSSe 光电导薄膜,用于液晶光阀空间光调制器件上,得到了很好的效果。     

非晶硅薄膜瞬态光电导的光致变化

研究了非晶硅薄膜的瞬态光电导的光致变化情况.用通常的非晶态半导体的瞬态光电流的乘方规律和稳态光电导的扩展指数规律都不能对试验数据进行很好的拟合,而采用两个指数函数相加的形式可以对实验数据进行很好的拟合.这表明非晶硅薄膜长时间的衰退不是由带尾态决定,而是由深的陷阱决定的.两个指数函数的衰退分别对应于距导带0.52eV和0.59eV的两个陷阱,这两个陷阱可以被指认为带隙中的荷负电中心.光照后,带隙中的复合中心增加,导致电子寿命的减少,从而引起光电导的衰退.     

非晶硅薄膜瞬态光电导的光致变化

研究了非晶硅薄膜的瞬态光电导的光致变化情况.用通常的非晶态半导体的瞬态光电流的乘方规律和稳态光电导的扩展指数规律都不能对试验数据进行很好的拟合,而采用两个指数函数相加的形式可以对实验数据进行很好的拟合.这表明非晶硅薄膜长时间的衰退不是由带尾态决定,而是由深的陷阱决定的.两个指数函数的衰退分别对应于距导带0.52eV和0.59eV的两个陷阱,这两个陷阱可以被指认为带隙中的荷负电中心.光照后,带隙中的复合中心增加,导致电子寿命的减少,从而引起光电导的衰退.     

非晶硅液晶光阀的研制

用惰性小而廉价的ａ－Ｓｉ：Ｈ膜作液晶光阀的光层是一种理想选择。采用阻抗匹配的方法，设计和制作了ａ－Ｓｉ：Ｈ液晶光阀。在大屏幕投影系统上获得了清晰的投影图象，分辨率为２０ｌｐ／ｍｍ．光阀感光度测量表明，写入光在１００μＷ／ｃｍ＾２以下，读出光随写入光线性变化。在写入光为１００μＷ／ｃｍ＾２时，瞬态响应测量结果为：上升时间６０ｍｓ，下降时间８０ｍｓ．     

非晶硅液晶光阀投影系统

首次介绍一种以非晶硅（ａ－Ｓｉ）为光导层的ＬＣＬＶ投影系统，该系统具有响应速度快、写入光谱范围宽及工艺简单等优点。分析了ＬＣＬＶ驱动信号的电压幅值、频率、占空比以及屏幕照度等诸多因素对投影系统对比度特性的影响。该投影系统屏幕尺寸为１．５ｍ×１．２ｍ，最大照度为１９０ｌｘ，分辨率优于２０ｌｐ／ｍｍ，响应时间小于１ｍｓ。可完成实时动态图像投影。     

利用非晶硅结构的光电容来进行室温红外光电探测

本文我们提出一种新的器件,它是根据非晶硅材料制成的,通过室温电容测量,能够直接探测红外辐射。该器件是一种ｐ－ｃ－ｎ型叠层结构,这里ｃ表示一层补偿的非晶蛙吸收层。器件的运转是基于价带内的扩展态和禁带内的缺陷之间的跃迁而进行的,跃迁是由约外辐射引起的。我们发现：测量的电容敏感于８０ｎｍ￣５μｍ波段。     

铁电液晶空间光调制器氢化非晶硅薄膜 p—i—n光敏层的研究

描述了氢化非晶硅／铁电液晶空间光调制器的结构和工作原理，并从器件的电学模型出发，着重讨论了整体器件对光敏层的特性要求，对ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜ｐ－ｉ－ｎ光敏层的制作和光电特性进行了研究。     

非晶硅薄膜光吸收系数的研究

用化学气相沉积法制备非晶硅薄膜,测量了样品的光吸收系数及其波长区域范围.测得在最佳工艺条件下,非晶硅薄膜的光吸收系数随入射光波长增大而减小,随衬底温度升高而增大,随射频功率和反应气体流量的增大而减小,在700 nm附近的光吸收系数不低于1×103 cm-1,满足高性能液晶光阀对光电导层的性能要求.     

S枪磁控溅射淀积非晶硅光电导薄膜的制备工艺及特性研究

本文介绍用直流磁控S枪在H_2/Ar混合气体中反应溅射单晶硅靶淀积a-Si:H光电导薄膜的制备工艺。研究了用这种技术制备的a-Si:H薄膜的光学特性(透射率光谱、光学常数和光学带隙等)、晶相结构(用电子衍射图谱)、红外吸收光谱和光电导性能。并讨论了制备工艺条件与薄膜微结构和性能的关系。     

氢化非晶硅的红外光谱及氢释放的研究

用等离子体增强化学气相淀积（ Ｐ Ｅ Ｃ Ｖ Ｄ）制备了氢化非晶硅薄膜（ａ Ｓｉ∶ Ｈ）并进行了退火实验, 利用红外吸收光谱（ Ｉ Ｒ）和金相显微镜研究薄膜中的氢含量及退火前后的脱氢现象, 得出材料组成及热稳定性对衬底温度 Ｔｓ 和射频功率 Ｐｒｆ 的依赖关系。     

非晶硅薄膜的红外热敏特性

用PECVD技术制备了不同掺磷比的非晶硅薄膜,然后退火改性. 红外透射光谱揭示了薄膜内部的键合模式随生长工艺条件变化的规律;测量和分析了非晶硅红外热吸收及电阻温度系数与薄膜结构之间的关系. 综合考虑非晶硅电阻率和电阻温度系数两个因素,采用掺杂比0.025,退火温度600℃的薄膜样品进一步研究.     

非晶硅薄膜的红外热敏特性

用PECVD技术制备了不同掺磷比的非晶硅薄膜,然后退火改性.红外透射光谱揭示了薄膜内部的键合模式随生长工艺条件变化的规律;测量和分析了非晶硅红外热吸收及电阻温度系数与薄膜结构之间的关系.综合考虑非晶硅电阻率和电阻温度系数两个因素,采用掺杂比0.025,退火温度600℃的薄膜样品进一步研究.     

非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜光学常数的透射谱表征

报道了一种用透射谱数据分析法计算非晶硅碳薄膜的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙等光学常数的方法和程序．这一方法引用有效谐振子模型理论的折射率色散关系，所有公式均为解析表达式，便于进行数据处理，无须专用软件，使用Excel即可完成，适用于多种半导体薄膜材料．将这种方法应用于PECVD方法制备的非晶硅碳（a-SiC∶H）薄膜，对其光学特性进行了分析．     

NIP型非晶硅薄膜太阳能电池的研究

采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术制备非晶硅(a-Si)NIP太阳能电池,其中电池的窗口层采用P型晶化硅薄膜,电池结构为Al/glass/SnO2/N(a-Si:H)/I(a-Si:H)/P(cryst-Si:H)/ITO/Al.为了使P型晶化硅薄膜能够在a-Si表面成功生长,电池制备过程中采用了H等离子体处理a-Si表面的方法.通过调节电池P层和N层厚度和H等离子体处理a-Si表面的时间,优化了太阳能电池的制备工艺.结果表明,使用H等离子体处理a-Si表面5 min,可以在a-Si表面获得高电导率的P型晶化硅薄膜,并且这种结构可以应用到电池上;当P型晶化硅层沉积时间12.5 min,N层沉积12 min,此种结构电池特性最好,效率达6.40%.通过调整P型晶化硅薄膜的结构特征,将能进一步改善电池的性能.     

The Characteristics of a Hydrogenated Amorphous Silicon Semitransparent Solar Cell When Applying n/i Buffer Layers

In this work, buffer layers with various conditions are inserted at an n/i interface in hydrogenated amorphous silicon semitransparent solar cells. It is observed that the performance of a solar cell strongly depends on the arrangement and thickness of the buffer layer. When arranging buffer layers with various bandgaps in ascending order from the intrinsic layer to the n layer, a relatively high open circuit voltage and short circuit current are observed. In addition, the fill factors are improved, owing to an enhanced shunt resistance under every instance of the introduced n/i buffer layers. Among the various conditions during the arrangement of the buffer layers, a reverse V shape of the energy bandgap is found to be the most effective for high efficiency, which also exhibits intermediate transmittance among all samples. This is an inspiring result, enabling an independent control of the conversion efficiency and transmittance.     

Identification of Nucleation Center Sites in Thermally Annealed Hydrogenated Amorphous Silicon

Utilizing the concepts of a critical crystallite size and local film inhomogeneity, it is shown that nucleation in thermally annealed hydrogenated amorphous silicon occurs in the more well ordered spatial regions in the network, which are defined by the initial inhomogeneous H distributions in the as‐grown films. Although the film H evolves very early during annealing, the local film order is largely retained in the still amorphous films even after the vast majority of the H is evolved, and the more well ordered regions which are the nucleation center sites for crystallization are those spatial regions which do not initially contain clustered H, as probed by H NMR spectroscopy. The sizes of these better ordered regions relative to a critical crystallite size determine the film incubation times (the time before the onset of crystallization). Changes in film short range order upon H evolution, and the presence of microvoid type structures in the as grown films play no role in the crystallization process. While the creation of dangling bonds upon H evolution may play a role in the actual phase transformation itself, the film defect densities measured just prior to the onset of crystallization exhibit no trends which can be correlated with the film incubation times.