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《超硬材料工程》2019,(6)
采用微波等离子体化学气相沉积技术在单晶硅、钛、钼、铌、钽基体上制备掺硼金刚石薄膜。分别采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、激光拉曼光谱仪、四探针电阻率测试仪研究其物相组成、表面形貌、晶体结晶性和电阻率。硼原子代替碳原子进入金刚石晶格中,产生更多的缺陷形核中心,导致掺硼金刚石薄膜的金刚石晶粒尺寸和电阻率随着掺硼浓度增加而减小。金刚石薄膜和基体间形成碳化物,金刚石在石墨层上形核生长。碳原子在不同基体中的扩散系数不同,导致硅基掺硼金刚石薄膜的晶粒尺寸更小且更加均匀,金属基体上的部分金刚石出现了异常长大的现象。采用该方法制备的掺硼金刚石薄膜的结晶性较好,由于基体热膨胀系数较金刚石大从而导致薄膜内部产生压应力,使得金刚石薄膜的D峰均向高波数偏移。 相似文献
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在铁基触媒原材料中添加不同含量的六方氮化硼,采用粉末冶金方法制备片状触媒,在六面顶压机上进行金刚石合成试验.通过对比主要的合成参数发现,掺杂适量的六方氮化硼能够提高触媒的电阻,虽然对金刚石的成核有一定的抑制作用,但是有利于降低合成功率,同时有利于金刚石的粒度增粗.对合成出的金刚石的性能检测发现,适量的六方氮化硼掺杂有利于净化金刚石晶体,减少杂质与包裹体的数量,有利于降低磁化率,提高晶体的静压强度和冲击韧性. 相似文献
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以实验结果为依据,叙述了含氮合金触媒与合成工艺对金刚石合成过程及其结果所产生的影响;讨论了氮杂质在金刚石晶体中的分布特征及对金刚石晶体性质的影响机理;还简述了合成含氮金刚石与普通金刚石及天然含氮金刚石性质问差异及原因;并指出了提高人造金刚石质量的一些重要途径。 相似文献
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粗颗粒工业金刚石的合成与普通工业金刚石相比,需要较长的生长时间,而且其合成条件相对于普通工业金刚石单晶更为苛刻.文章总结了在具有高精密化控制系统的国产SPD 6×1670T型六面顶压机上进行的优质粗颗粒金刚石单晶的合成研究.在粉末触媒合成金刚石工艺的基础上,提高了压力和温度控制系统的精密化程度,引入了旁热式组装,改良了合成工艺,通过精密地控制金刚石的成核量与生长速度,以及采用最佳粒度的触媒,在高温高压条件下(~5.4GPa,~1360℃)成功合成出尺寸达到1.0mm的(18目)粗颗粒金刚石单晶,并分析了晶体的形貌和表面特征. 相似文献
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高温高压下石墨-Ni70Mn25Co5体系中石墨的层状生长现象与合成金刚石的质量 总被引:7,自引:0,他引:7
为了研究石墨-Ni70Mn25Co5体系在高压高温下石墨的变化和金刚石的生长现象,用六面顶压机对交替组装的圆片状石墨和Ni70Mn25Co5触媒进行高温高压处理及金刚百合成实验。扫描电镜观察结果表明:在触媒中再结晶石墨以片状为主,而类球状石墨由片状石墨的堆积长大形成的;覆盖在金刚石的金属包膜中有大约1μm厚的片状石墨。借助于多功能光学显微镜,观察到金刚石的晶体形态和缺陷特征随合成温度、压力的不同有规律地变化。实验证实了高温高压下石墨-Ni70Mn25Co5体系中石墨和金刚石的层状生长现象,进而提出了预防金刚石宏观缺陷、合成优质金刚石的技术措施。 相似文献
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高温高压温度梯度法生长宝石级金刚石单晶的过程中,尽管处在金刚石稳定区内,却经常发现,有亚稳态的再结晶石墨存在.本研究发现,作为一种晶体,大量再结晶石墨的析出和生长对宝石级金刚石单晶的生长速度有较为明显的抑制作用,并且再结晶石墨更容易在较高温度合成区内出现.例如,使用NiMnCo触媒进行宝石级金刚石单晶合成过程中,随着合成温度的提高,当大量多余碳源不再以金刚石自发核形式析出,而是以大量片状再结晶石墨形式围绕在晶体周围时,晶体的生长速度有了大幅度的降低,从相对低温时的约3.0mg/h降到较高温度时的1.0mg/h. 相似文献
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借助穆斯堡尔谱的测试方法,对不同铁基粉末触媒合成的工业金刚石中的包裹体进行了检测,结果表明,纯Fe触媒合成的金刚石晶体中的包裹体为α-Fe和Fe3C;Fe90Nil10和Fe80Ni20合成的金刚石晶体中的包裹体主要以FeNi合金和Fe3C形式存在,同时随着触媒中的Fe含量的降低,包裹体Fe3C的相对含量随之降低.另外,对包裹体的形成机制进行了分析.通过对包裹体的成分和形成机制的研究,提出了有效减少金刚石中包裹体的方法. 相似文献
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6关于力学强度与破裂特性
金刚石在900℃以上高温中其力学强度降低,主要是由于金刚石合成时在高温高压下的晶体生长过程中,内部混入了金属杂质。 相似文献
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人造金刚石中的杂质和包体 总被引:2,自引:0,他引:2
对以Ni_(70)Mn_(25)Co_5作触媒所生长的金刚石中的杂质和包体进行了光谱半定量分析、原子吸收光谱分析、化学分析、扫描电镜分析、X射线分析和差热分析。测试结果表明:Be、P、Pb、u、Ga、Sn、V、Zr、Ag、Y、Sr、Ba、Bi、Sb、Cd、W和In等元素在金刚石中的含量均在光谱分析的检测限以下。溶解在熔融触媒中的各种原子,均可能与正在生长着的金刚石表面碳原子成键。当晶体生长不太快时,Al和Si似乎比Ni和Co更易于进入金刚石。当晶体生长过快时(例如线生长速度为1μm/s),大量的母液被捕获,Ni和Co则易于进入晶体。不同包体的化学成分可能不同,Al和Si多时,Ni和Co少,反之,Ni和Co多时,Al和Si少。杂质原子常沿{110}面偏析而形成包体。初步确定这些包体的晶面间距为2.126(?)、1.84(?)、1.80(?)和1.044(?)。当金刚石的铁磁性较强时,其起始氧化温度降低,差热分析出现双峰,且抗压强度也降低。 相似文献
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铁基触媒合成金刚石形成的金属包膜成分的研究 总被引:9,自引:2,他引:7
利用电子探针(EPMA)和X射线光电子能谱(XPS)研究了包围金刚石单晶的铁基金属包膜和触媒的成分分布。结果表明,在金刚石生长过程中,接近金刚石单晶的包膜内层中的碳含量是变化的,但均高于接近金刚石的触媒层。然而,与包围金刚石单晶的触媒表面相比,包膜表面碳含量低、铁含量高。分析认为,高温高压下,金刚石生长的碳源主要来自于包膜,但碳并非均匀地在包膜熔体内层向金刚石扩散。结合前期研究发现的“包膜内层无石墨和无定形碳结构”的事实分析,金刚石生长所需的碳极有可能来源于包膜内层铁碳化物的瞬间分解,结果导致包膜表面瞬间碳含量低、铁含量高。 相似文献
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用合金触媒利用温度梯度法合成优质Ⅱ a型宝石级金刚石.研究发现,在约5.4GPa和约1300℃的条件下,除氮剂的加入使合成金刚石的温度区间变窄及金刚石晶体生长过程中更易俘获包裹体而出现熔坑,从而影响晶体的生长速度.实验解决了组装的稳定性问题;并通过调整组装,在除氮剂合适的掺入量下,使合成优质金刚石的最大生长速度达到2.16mg/h.结果实验获得了4.3mm的优质Ⅱa型金刚石大单晶.红外测试分析表明该金刚石含氮量小于10-7. 相似文献
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静压触媒法生长金刚石的机理 总被引:2,自引:1,他引:1
关于静压触媒法生长金刚石的机理有多种理论,但它们的共同特点是认为在金刚石的生长过程中是某一种机理自始至终在起作用.本文则提出新的理论在金刚石成核及长大初期,基本上是在触媒的作用下直接转化;随着金刚石的长大,溶解一结晶过程逐渐起主导作用.这一理论较园满地解释了现有的实验事实. 相似文献
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