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<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机制造厂,镀膜专利工艺、操作决窍分析。 相似文献
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<正>(接2020年第2期第96页)B锐角运动当磁场与阴极表面斜交时,阴极斑点并不是在垂直于B∥的方向上运动,而是从垂直于B∥方向又向磁场与阴极平面成锐角方向偏离一定的角度方向运动,即在反向运动上还叠加一个漂移运动。漂移运动的方向指向磁力线与阴极表面所夹的锐角区域。由上述规律,进行阴极弧源设计时,有两种形式:一是在阴极表面形成环拱形 相似文献
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正(接2018年第3期第72页)假设轰击离子将全部能量都转移给沉积膜层原子,由式(1)和式(2)可知每个沉积膜层原子的能量E_p为E_p=eU_in_i/n=(M_r.j_i/R_v)e·U_i×6.3×10~(-3)eV(5)因此可得离子流密度j_i为j_i≈159(R_v·ρ·E_p/M_r·eU_i)mA/cm~(-2)(6)式中Mr为膜层原子的相对平均摩尔质量,g/mol;R_v为沉积原子在基体表面的成膜速率, 相似文献
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正(接2018年第4期第80页)(1)等离子体鞘:基片(工件)放进等离子体云中,不与等离子体直接接触。基片与等离子体之间隔了一层电中性被破坏了的薄层,是一个负电位区,称等离子体鞘,或称鞘层。在等离子体与容器壁之间,放置在等离子体中的任何绝缘体表面,或插入等离子体中的电极近旁都会形成鞘层。轰击基片的离子的能量部分或大部分是在离子鞘内获得,所以在离子镀中调节离子鞘的电位 相似文献
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f圆形平面可控电弧蒸发源圆形平面可控电弧蒸发源的原理如图40所示。其磁场由静止的外磁环和往复运动的中心磁柱构成。靶材上方的磁场可分解为水平磁场B//和垂直磁场B⊥。B∥束缚部分电子并使其作圆周运动,致使阴极辉点作圆周运动。B⊥迫使作圆周运动的电子作径向运动,导致阴极辉点的径向运动。 相似文献
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(接2019年第6期第86页)b对电弧蒸发源的技术要求在正常镀膜气压下(5×10-1Pa),靶电流的可调范围较大(如以直径60mm圆形钛靶为例,靶电流范围35A^100A),而且在靶电流低(靶电流下限)时能稳定弧的运动;在高真空下(10-3Pa),可正常稳弧;磁场可调,靶面弧斑线细腻,弧斑线向靶心收缩且向靶边扩展运动均匀,靶面刻蚀均匀。 相似文献
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介绍了一种新的镀膜技术—过滤式真空电弧离子镀膜技术。针对典型的过滤式真空电弧镀膜装置,描述了其结构组成,分析了它的工作原理。分析结果表明,该技术与传统真空电弧离子镀膜技术相比,可有效地消除宏观颗粒对镀层的污染,可广泛应用于制作各种微电子膜透明导电薄膜(ITO)以及类金刚石(DLC)薄膜。 相似文献