真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机制造厂,镀膜专利工艺、操作决窍分析。     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定讲课内容。(2)现场操作实习:参观三束材料表面改性国家重点实验室,工具镀膜生产加工厂及镀膜机制造厂,镀膜专利工艺、操作决窍分析。     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新技术、装饰膜材及色调、离子镀膜应用等。也可根据客户要求确定     

真空离子镀膜经验讲习班公告

<正>讲课内容:真空基础知识、薄膜沉积技术、离子镀膜机结构、离子镀膜一般工艺制订、离子镀代替电镀、离子镀超硬涂层、磁控溅射新     

第二十讲 真空离子镀膜

正(接2020年第3期第96页)13.5.3过滤式真空电弧离子镀膜技术A过滤式电弧离子镀膜机结构型式典型的过滤式真空电弧离子镀设备结构如图47所示。其核心结构是一个A ksenov过滤器。它是一个具有螺旋管电磁线圈的不锈钢或石英弯管。电磁线圈提供控制等离子体流运动的外加     

LSA—1型电弧离子镀膜机结构研制

简述了电弧离子镀的进展及其特点;介绍了它的工作原理,着重论述了电弧离子镀膜机的基本结构及作用和真空泵的选择,最后指出了它的应用前景。     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜机各机构元件的设计计算、设计参数的选择,其中还重点系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和膜厚均匀性设计。     

新型等离子体束溅射镀膜机

本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容.该镀膜机将等离子体发生和控制技术应用于溅射镀膜中,克服了磁控溅射的靶材利用率低及难以沉积铁磁性材料的缺点.使用该镀膜机成功地进行了溅射镀膜的试验,试验结果得到了刻蚀均匀性较高的靶材,其靶偏压与靶电流的关系与国外结果相吻合.     

离子镀技术中基板偏压作用的研究

本文进行了离子镀机理的研究。用俄歇电子谱仪测定了不同工艺的离子镀膜与基板界面的过度层；用急冷忽热试验法评定了不同工艺的离子镀膜与基板间的结合力，用扫描电镜观察了不同离子镀基板偏压的膜层组织形貌。通过实验证明了离子镀中基板偏压有着以下几点重要作用：加基板偏压可以清除基板表面的氧化物污染层，直流二极型离子镀可以使固态不互溶金属组成的膜－基界面形成“伪扩散层”，其膜－基界面结合力比空心阴极离子镀膜－基结合力高；直流二极型离子镀随着基板偏压的提高可以细化膜层织组、消除柱状晶，提高镀层致密度。     

同轴磁控溅射离子镀膜在装铈膜和超硬膜中的应用

同轴式磁控溅射离子镀膜机是磁控溅射和离子镀膜相结合的一种镀膜设备。从不小于1.5×2m 大面积基底上所镀膜层的均匀性和实际应用的可行性来看,是一种较好的成膜手段。1.国内现状目前国内生产蒸发式镀膜设备的厂家不少。这种方法是以高纯铝丝或铁铬镍合金丝等作为膜材,在大面积上镀镜或镀建材玻璃膜。普遍认为蒸发膜存在着如下问题:     

径流分子泵在多弧离子镀膜设备的最新应用

通过对新开发问世的径流分子泵进行介绍,其独特抽气特性,为多弧离子镀的工艺优化提供了理论依据。传统多弧离子镀的抽气工艺和镀膜工艺,是在扩散泵和涡轮分子泵抽气能力的制约下总结出来的。径流泵机组的问世,为多弧离子镀膜提供了更加宽广的镀膜工艺选择空间。这样就有必要对抽气工艺和镀膜工艺进行重组和优化,进一步提升多弧离子镀膜设备的性能和经济效益。     

真空离子镀铬合金厚膜替代电镀硬铬工艺研究(一)

离子镀功能厚镀膜主要用于提高工件耐磨性和耐蚀性,膜层厚度40μm以上。离子镀铬合金厚镀膜代替电镀硬铬工艺研发,已取得满意成果,可以投入工业生产,可以向社会提供技术及专用设备。     

DHD—800型多弧刀具镀膜设备在京通过鉴定

一九八七年四月六日到八日,由北京市仪器仪表工业总公司主持,在北京召开了DHD-800型多弧刀具镀膜设备鉴定会。参加会议的有来自国家机关、科研单位、专业工厂和高等院校的研究员、付研究员、付教授、讲师、工程师、研究生、记者等57个单位的91位代表。 鉴定委员会认为:DHD—800型多弧刀具镀膜设备,是我国首次自行设计的电弧离子镀刀具工业生产型设备。 鉴定委员会还认为;该设备各项技术指标均达到设计要求。镀膜能力与美国八十年代多弧公司的MAV—32型设备相当。填补了我国多弧刀具镀膜机的空白,居于国内领先水平。对我国刀具生产具有重…     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。     

可组合的双镀膜室多弧离子镀膜设备

本文根据目前国内多弧离子镀设备的生产和应用情况提出了一种新的观点。对可组合的双镀膜室多弧离子镀膜设备进行了初步的探讨     

利用空心阴极放电法(HCD)的蒸镀技术

1.产生高密度金属离子的HCD蒸镀法 过去真空蒸镀和溅镀,曾被光学和半导体工业广泛采用,做为一种近乎理想的无公害镀膜法,代替了温式镀膜,但是进入70年代以来,人们对于这些方法做了认真的研究。尤其是离子镀是有发展前途的代用手段,引起了很多人的注意。所谓离子镀,就是在蒸发物质(金属、合金及无机化合物等)和气体的离子轰击中,使蒸发物质蒸镀到基片表面上的方法:由Mattox创始的离子镀,最初追求良好的粘着性;是在产生气体散射的10-2托压力下进行的1-3)。但是有人批评,在高的压方下镀膜能降低膜的牢,固性,因此进一步研究在或低于、10-3的压…     

氮化钛涂复超硬刀具的研究

一、前言 自从Mattox将辉光放电技术与蒸发镀膜技术相结合创立离子镀以来,在工业发达国家里,离子镀技术受到了极大的重视。目前,在各种有效的离子镇方法中,活性反应镀(ARE)工艺、空心阴极离子镀(HCD)工艺和磁控溅射离子镀工艺最引人注目。其中采用 HCD 工艺制成了各种超硬的化合膜,例如:TiN,TiC,Al2O3等膜。HCD法的TiN涂复工艺已在装饰镀膜、超硬工具、模具等方面得到了广泛地应用。 八十年代初,我所研制成功了空心阴极离子镀设备。主要用来镀表带、表壳等金黄色氮化钛装饰膜。在此基础上,又研制了TiN涂复刀具的HCD设备,并在TiN…     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃     

应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析

针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。