新一代磁光材料及器件研究进展

磁光材料是典型的多功能材料,其应用频率覆盖了射频、微波、毫米波、THz波和光波段,是一类优秀的全波段材料.首先对磁光材料发展的动态进行了分析;其次就磁光材料应用于磁光盘、光纤通信器件、THz器件等进行了讨论;最后,对作者课题组的一些新的研究工作做了介绍,以期能对这一领域的发展起到促进作用.     

SOI光电子集成

SOI（Silicon-on-Insulator)光电子集成已成为十分引人注目的研究课题，其工艺与CMOS工艺完全兼容，可以实现低成本的SOI基整片集成光电子回路。本文综述了近几年来SOI集成光电子器件的发展以及一些最新的研究进展，着重分析几种最新型光无源器件的工作原理和结构，包括SOI光波导、SOI光波导耦合器、SOI光波导开关、相位阵列波导光栅（PAWG）、基于SOI的光探测器等，并介绍了中国科学院半导体所集成光电子国家重点实验室的研究进展。     

玻璃光波导研究进展

介绍了目前国际上主要玻璃光波导的研究热点。阐述了制备光波导的晶体材料、玻璃材料和高分子聚合物材料的优缺点。着重阐述了玻璃材料的研究进展,并简要介绍了采用硫卤玻璃制备非线性光波导的诱人前景。     

磁光超分辨近场结构存储技术

介绍分析了近场存储基本原理和现状，对实现磁光近场存储的一种新方法－磁光超分辨近场结构的应用原理、最新进展及发展方向进行了综述。     

磁记录和磁光记录材料及其发展

本文介绍了磁记录和磁光记录方式及其原理,磁记录及磁光记录材料的特性、制法和应用,以及在当代信息社会的重要作用和发展前景。     

稀土铁石榴石磁光材料及其应用

本文综述了稀土铁石榴石磁光材料及磁光器件研究的最新进展；对最具应用价值的高掺Ｂｉ系列和掺Ｃｅ系列石榴石磁光材料作了介绍，在磁光器件方面选择了最具代表性的磁光隔离器和光纤电渗／磁场测试仪加以讨论。     

稀土铁石榴石磁光材料及其应用

本文综述了稀土铁石榴石磁光材料及磁光器件研究的最新进展；对最具应用价值的高掺Ｂｉ系列和掺Ｃｅ系列石榴石磁光材料作了介绍；在磁光器件方面选择了最具代表性的磁光隔离器和光纤电流／磁场测试仪加以讨论     

锥脊波导SOA光耦合机制的理论分析

针对半导体光放大器（SOA）与单模光纤的耦合问题，详细介绍了当前最新的锥脊光波导耦合技术，用光波电磁场干涉理论建立了锥脊光波导的传输模式方程，并根据光波的全反射理论，揭示了锥脊光波导等效折射率的渐变规律，从理论上分析了锥脊波导SOA的光耦合机制，理论分析与相关报道的实验结果吻合。     

基于复合光波导的生化传感器应用研究进展

光波导在光电技术领域有广泛的应用,复合光波导结构是在平面光波导上涂覆高折射率薄膜而得到的。基于复合光波导的生化传感器具有非标记、可逆、响应速度快等优点,在环境污染监测领域有广阔的应用前景。介绍了复合光波导的结构和机理,综述了基于复合光波导的生化传感器应用研究进展。     

汽车挡风玻璃刮雨器的控制

本拟设计了一种用于汽车挡风玻璃上的自动雨点检测器及刮雨器控制装置,其原理利用了挡风玻璃中的光波导作用,并经模拟实验证实此方案可行。     

光隔离器及其相关的磁光材料

本文简要介绍了磁光隔离器的理论、结构和分类，并提出了该器件今后发展的几个问题，是最后介绍了几种磁光材料。     

光隔离器及其相关的磁光材料

本文简要介绍了磁光隔离器的理论、结构和分类 ,并提出了该器件今后发展的几个问题 ,最后介绍了几种磁光材料     

溶胶-凝胶法制备有机-无机杂化光波导材料研究进展

有机-无机杂化材料因同时具有有机功能基团和无机功能基团的结构特点而易于有机光活性物质和无机活性物质的掺杂已被人们广泛关注和大力研究.溶胶-凝胶法是制备有机-无机杂化光波导材料的主要方法.阐述了溶胶-凝胶法制备杂化材料的原理,比较了几种目前研究得较多的有机-无机杂化光波导材料体系,指出了各自的优缺点,介绍了杂化材料制备光波导器件的工艺流程,最后归纳了溶胶-凝胶法制备有机-无机杂化光波导材料过程中存在的问题.     

光波导触觉传感系统中的导波模式理论分析

根据光波导触觉传感系统受压时所形成的四个光斑面积大小,可求出作用于系统的xyz三向力。利用导波模式理论,当系统受外力时,平面波的全内反射条件遭到破坏,半圆球触头与波导板的接触部分由对称平面波导转变为非对称平面波导,造成光泄漏,形成光斑,其频率范围在对称平面波导的截止频率和非对称平面波导的截止频率之间。     

玻璃基掩埋式光波导堆栈的制作与表征

在硅酸盐光学玻璃基片上制作了光波导堆栈, 这种光波导堆栈通过Ag⁺/Na⁺熔盐离子交换和电场辅助离子扩散技术顺次制作了两层掩埋式光波导. 对光波导堆栈的横截面显微结构进行了观察, 并对堆栈中两层波导的损耗特性进行了测试. 所获得的光波导堆栈中的上、下两层波导芯部分别位于玻璃表面以下14和35 μm处; 上层光波导芯部尺寸约为12 μm×7 μm; 下层光波导芯部尺寸约为9 μm×8 μm. 通光测试显示两层波导在1.55 μm工作波长下均为单模光波导, 且两者之间没有相互耦合. 损耗测试分析结果显示: 堆栈中两层光波导的传输损耗均约为0.12 dB/cm,与单模光纤之间的耦合损耗分别为0.78和0.73 dB. 分析表明, 这种光波导堆栈在玻璃基集成光芯片的高密度集成方面具有很好的应用前景.     

低损耗离子交换玻璃基光波导制备与分析

考虑到离子交换和离子扩散工艺的特殊要求, 设计并熔制了适合于离子交换工艺的硅酸盐玻璃材料SiO₂-B₂O₃-Al₂O₃-R’O-R₂O（R’=Ca, Mg; R=Na, K）. 采用Ag⁺/Na⁺熔盐离子交换和电场辅助离子扩散工艺在这种玻璃材料基片上获得了掩埋式条形光波导. 光学显微镜和电子探针分析表明高折射率的Ag⁺扩散区位于玻璃基片表面以下约10μm处, 形成光波导的芯部. 光波导芯部尺寸约为8μm×8μm, 与单模光纤芯径尺寸相当, 保证了较低的光纤耦合损耗. 对光波导的测量结果得出：在波长为1.5μm处条形光波导的传输损耗约为0.1dB/cm, 与单模光纤的耦合损耗约为0.2~0.3dB. 条形光波导的传输损耗与材料本身的损耗接近, 表现出掩埋式光波导的低损耗特征. 分析表明, 经过进一步优化, 这种光波导制备技术可用于低损耗光波导器件的制作.     

硅基光电集成材料及器件的研究进展

以硅基光电集成回路为主线，综述了不同的硅基光波导材料的制备技术和硅基光波导的制作工艺及其对光传输损耗的影响。分析了硅基光波导与锗硅光探测器集成用两种不同的耦合方式，阐明了波导与探测器集成的机理及设计理论基础。归纳出硅基键合激光器的四种技术方案，指出其共同优点是克服材料异质外延引起的晶格失配和热膨胀非共容，对实现OEIC行之有效。     

计算机辅助Bi-YIG磁光薄膜材料设计的专家系统研究

分析了Bi-YIG磁光薄膜材料生长及其性能特点,着重介绍了计算机辅助设计的专家系统在这一领域的应用——Bi-YIG,磁光薄膜材料的设计及性能预测。     

离子掺杂钇铁石榴石磁光材料研究进展

综述了钇铁石榴石型磁光材料的研究进展,以及通过离子掺杂提高单晶和薄膜材料的比法拉第旋转角、改善材料温度稳定性以及近年来受到重视并有望在磁光器件中得到广泛应用的低成本钇铁石榴石纳米晶/有机分散介质复合薄膜材料的研究进展与存在的问题,概述了目前实际使用中的磁光法拉第转子材料的应用情况,并展望了高性能磁光材料的发展。     

集成光波导器件的计算机辅助设计软件的开发（1996年7月11日收到,12月…

报导了最新开发的集成光波导器件的计算机辅助设计软件－－ＩＯＣＡＤ２，它是一个采用复折射率矢量束传输分析方法的三维模拟分析软件。本文介绍了它的功能、特点、使用方法以及适用条件，并且以ＳＬＤ直条形波导吸收区为例进行了模拟，得到了很好的模拟结果。