我国钨冶炼技术的新进展

综述了近年来我国钨冶炼在开发处理多种资源的工艺技术，钨钼分离技术，从低品位钨矿物原料和含钨废料中生产高纯APT，钨冶炼技术装备和自动化水平，膜分离技术在开发无污染钨冶炼工艺的应用，超细钨粉等方面的最新进展和成果。在此基础上，展望了我国今后钨冶炼发展的方向。     

高纯钨溅射靶材制取工艺研究

微电子技术、光电技术对钨的纯度要求越来越高，熔炼钨纯度高但尺寸规格小且加工难度大。仅对采用粉末冶金法制取高纯钨材工艺试验过程中，重新氨溶，中和结晶的除杂效应进行了一些探讨，对经高真空高温处理后的钨方坯加工性能进行了加工试验，证明采用重新氨溶、中和结晶、超高真空高温脱气工艺可有效地去除杂质。高纯钨材质优良、性能稳定、放气量小。     

高纯钨、钼、钽、铌工业分析进展

评述了二十年来高纯稀有难熔金属领域钨、钼、钽、铌工业的分析进展,包括分光光度分析、原子吸收／发射光谱分析、质谱分析、中子活化分析和电化学分析等。引用文献50篇。通过对文献的多角度分析,反映了高纯钨、钼、钽、铌分析领域的行业布局,指出质谱分析等多元素同时痕量分析是高纯钨、钼、钽、铌工业分析的发展主流,但分光光度分析等单元素分析方法仍具有不可替代性。     

钨湿法冶炼化工过程中过滤与过滤介质

本文着重介绍了适用于真空过滤板框压滤,离心甩干、耐酸碱和溶剂浸蚀以及能满足仲钨酸铵、钨酸、高纯钨生产的新型过滤用化纤滤布和织物,以期使过滤工序获得良好的过滤速度和过滤溶液透明度,延长滤布寿命,降低生产成本。     

化学和熔炼精制钨时金属杂质的行为

研究了商业钨化合物中某些杂质如金属元素和气体组分的净化。试验了两种精制方法。第一种是化学精制法,如溶剂萃取、离子交换和结晶。第二种是真空熔炼法,即所谓电子束熔炼法。已发现,碱金属、碱土金属和过渡元素,很容易用化学精制法除去,而气体组分及易挥发元素则可用电子束熔炼法挥发除去。为了要生产高纯金属钨,研究各种精制方法的特点是很重要的。     

用高钼白钨精矿制取高纯三氧化钨工艺实践

介绍了采用苏打压煮、NaHS除钼、叔胺萃取、蒸发结晶处理柿竹园高钼白钨精矿 ,生产高纯三氧化钨的工艺。并对加入添加剂以提高三氧化钨回收率、净化钨酸钠溶液等问题进行了探讨。     

我国钨制品生产的现状、预测及发展

作者论述了我国钨制品生产的现状并进行预测,还提出发展钨制品生产的几点建议     

90年代钨市场浅析

阐述了叨年代国内外钨市场的态势，分析了世界钨的生产供应、需求消费状况，发展趋势和影响世界钨市场的主要因素。提出了稳定、改善、开拓钨市场，提高钨出口经济效益的对策。     

国外高纯钨粉和钨材制备

简要介绍了国外高纯钨粉及钨材的某些制备工艺，并给出了某超纯钨粉及硅化钨粉(WSix)的分析结果。     

国外钨工业的现状和科技进展

概述了世界钨的生产和消费现状,综述了国外近年在钨的提取和钨粉、碳化钨、钨合金的制备方面的科技进展。     

国内钨及钨合金的研究新进展

本文简单介绍了近年来我国的钨资源、生产、研究与开发和钨应用及市场情况。     

球形碳化钨粉末的制备

本文分析了WC的碳化机理,并采用工业炭黑与球形钨粉干混球磨,分别在1800℃、1900℃和2000℃条件下碳化,制备出球形碳化钨粉末。通过碳量检测、SEM,X射线衍射及能谱分析,结果表明：碳化钨粉末为球形,温度在2000℃时,钨粉碳化最充分,纯度高,没有游离碳及其它杂质。     

超声-化学沉淀法制备WO_3纳米颗粒研究

采用超声-化学沉淀法制备了WO3纳米颗粒,通过X射线粉末衍射谱(XRD)、X光能谱分析(EDX)、透射电子显微镜(TEM)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)等测试手段对产物进行了表征。结果表明,所制备的淡黄色WO3纳米颗粒纯度高,平均粒径在40nm左右,呈类球形;讨论了超声条件、无水乙醇的使用、沉淀的分离洗涤与干燥以及煅烧条件等因素对制备WO3纳米颗粒的影响。     

两种APT及其产物蓝钨的对比研究

通过对两种不同晶型APT及其产物蓝色氧化钨、覫0.39 mm掺杂钨丝高温性能的对比研究,得出形状规则型APT较普通型APT在生产掺杂钨条的过程中得到蓝钨粒度均匀、比表面积大、氨含量高,生产的掺杂钨条具有更优的抗下垂性,进而指出对APT进行分类的重要性及适宜AKS掺杂钨条生产使用的APT类型。     

从灯泡发展看钨丝发展趋势

通过国内近期灯泡生产状况调查,以及全球性电光源产业结构的调整,对今后一段时期我国照明行业的发展进行了预测:2010~2020年灯泡总量将达到120~130亿只,灯泡向着高效节能、高质量、小型化、环保型方向发展;并基于灯泡的这种发展方向,分析了灯泡对钨丝的的品种、质量、数量要求的变化,同时结合我国钨丝生产现状,指出钨丝今后的发展趋势。     

氧化钨原料对钨粉粒度的影响

不同的氧化钨原料明显地影响到钨粉的粒度。因此，正确地选择和生产氧化钨原料在钨粉生产中是非常重要的。用氢还原紫色氧化钨可高效地获得细钨粉。     

2007年中国钨工业发展报告

综述了2007年我国钨工业的发展现状:产能,产量,产业和产品结构,销售收入及利润,进出口贸易,投融资情况;分析了钨工业经济运行的政策环境、市场供需、竞争态势;指出了当前钨工业发展中的几个突出问题,并提出了相应的对策建议。     

难熔金属阴极及涂层研究进展

介绍了稀土钼金属陶瓷阴极、钪钨基扩散阴极及化学气相沉积法制备钨涂层。为了满足大功率磁控管的发展要求,研究了新型稀土钼金属陶瓷阴极。经过高温激活处理后,材料的最大次级发射系数达5.24,实用管型测试结果表明,稀土钼金属陶瓷阴极的性能优于钡钨阴极,显示了良好的应用前景。亚微米结构的钪钨基扩散阴极具有优异的热发射性能,850℃下阴极的发射电流密度可达42A/cm2,激活后Ba,Sc,O等元素形成的活性多层,均匀覆盖在阴极表面,促进了阴极的发射。采用热壁开管气流CVD法,以WF6和H2为反应源气体,可以方便地制备成难熔金属钨沉积层。所获得钨沉积层具有高纯度(>99%)和高致密度(>19g/cm3)。     

推行清洁生产 实现钨工业可持续发展

通过对实行清洁生产的必要性和重要性分析,结合某钨冶炼企业进行清洁生产过程中,无费或低费方案的实施,中费或高费方案的可行性分析,实现节能、降耗、减污、增效的实例,证明实行清洁生产是钨工业企业提高经济效益,实现全面、协调、可持续发展的有效途径。     

高纯六氟化钨制备工艺研究

介绍了利用氟气与钨粉为原料制备高纯六氟化钨的工艺方法和设备体系。其过程是利用电解槽电解氟氢化钾制取氟气,并采用氟化钠吸附配合深冷工艺纯化氟气,净化后的氟气与固定床里的钨粉在一定温度条件下反应合成初级六氟化钨,通过低温冷凝回收,收集的初级六氟化钨经过固化后抽真空排轻等方法进行初步提纯,然后将初步提纯的产品蒸馏至填料式精馏塔内进行深度提纯,经过多步提纯后的成品六氟化钨纯度可达99.999%以上。