用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍络铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术氙镀制的镍络铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层尬发与脉冲多弧离子源阴析靶材成分含量误差小±３％,符合实际应用要求。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜,研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

脉冲多弧离子源的研制

脉冲多弧离子源主要用来镀制类金刚石薄膜及金属、合金膜、研究了脉冲多弧离子源的引弧方法、放电的稳定性、离子源结构对镀膜均匀性的影响。在此基础上,研制了脉冲多弧离子源,利用该源镀制了类金刚石薄膜及镍铬铁合金渐变膜。经测试,膜层性能良好。     

脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量

通过大量工艺实验 ,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数 (主回路电压 ,脉冲频率 )、基片高度以及磁场等工艺参数的样品 ,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量 ,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线     

脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量

通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线.     

脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量

通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线.     

技术转让信息

DLD 系列多弧离子镀膜设备该镀膜机包括 DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料     

技术转让信息

DLD系列多弧离子镀膜设备 该镀膜机包括DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料(包括高速钢、工具钢及硬质合金等)的刀具。刀具经镀膜后,使     

TX系列多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备

该设备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿膜、装饰膜、合金膜或多层膜,可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、医疗器械、仪器仪表等领域。该设备在真空条件下采用物理气相沉积技术,在基片上镀制氮化钛及其他薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控溅射离子镀技术有机结合在一起,     

LDH─1200多弧离子镀设备

ＬＤＨ─１２００多弧离子镀设备北京仪器厂真空技术研究所刘桂敏，张守忠真空离子镀技术，是在特定的真空条件下在基体表面镀制金属膜、化合物膜，膜层致密与基体结合极好。可镀制各种色彩的装饰膜和超硬耐磨、耐蚀工艺膜，节能节原料，无污染，生产成本低，效益高，用途...     

离子镀复合涂层附着性研究

复合涂层可有效地解决基膜的匹配性,但多层涂镀工艺对涂层间附着性等质量问题有重要影响.采用生产质量统计数据和技术分析相结合的方法.对基材、水电镀层、离子镀的复合涂层间产生起泡和露白等附着性问题进行了研究,认为起泡主要因水电镀采用光亮剂而引起,同时与其它工艺如清洗、真空镀膜参数有关;而露白现象则与起泡现象相矛盾.但同属附着性问题,它主要与清洗质量关系密切,同时与水电镀工艺和真空镀膜参数相关.离子镀复合涂层工艺必须加强生产统计质量管理.     

脉冲激光真空弧薄膜制备技术

本文首先介绍了脉冲激光蒸发沉积以及真空弧沉积技术，在此基础上对激光真空弧技术的原理、特点、研究现状及应用进行了文献综述。可以预测，激光真空弧技术在薄膜材料科学与技术以及工业生产中必将具有广阔应用前景。     

电弧离子镀沉积TiN/AlN-TiAlN复合膜的耐磨性

采用高纯铝、钛靶材,通过电弧离子镀工艺在TC4基材上沉积制备了TiN/AlN-TiAlN复合多层膜,用HV-1000型显微硬度计测试了膜层的硬度,用球盘磨损试验对比研究了膜层和基材的耐磨性。结果表明:膜层硬度为2856HV,耐磨性相比基材提高6倍以上。     

Arc discharge regulation of a megawatt hot cathode bucket ion source for the experimental advanced superconducting tokamak neutral beam injector

Arc discharge of a hot cathode bucket ion source tends to be unstable what attributes to the filament self-heating and energetic electrons backstreaming from the accelerator. A regulation method, which based on the ion density measurement by a Langmuir probe, is employed for stable arc discharge operation and long pulse ion beam generation. Long pulse arc discharge of 100 s is obtained based on this regulation method of arc power. It establishes a foundation for the long pulse arc discharge of a megawatt ion source, which will be utilized a high power neutral beam injection device.     

LY12CZ铝合金的双重处理表面摩擦学改性研究

本采用双重处理表面改性技术对LY12CZ铝合金进行了摩擦学表面改性处理,即首先对LY12CZ铝合金进行硫酸的阳极氧化处理,然后在其表面再沉积一层润滑薄膜,实验结果表明,双重处理可有效地降低铝合金在真空环境中的摩擦并用明显提高耐磨寿命,特别是采用低摩擦系数的MoS2-Au基复合薄膜,可在较高载荷下达到较长的耐磨寿命,对双重处理铝合金的摩擦失效机理也作了初步探讨。     

双极性微弧氧化脉冲电源加工LY12铝合金工艺试验研究

利用自行研制的双极性微弧氧化脉冲电源对LY12铝合金进行了微弧氧化加工试验研究,并对不同形式的脉冲--正脉冲、正负交变脉冲以及正向正弦波脉冲加工生成的氧化陶瓷膜进行了膜厚度和膜硬度的比较.研究发现,同单纯的正向脉冲电源和正向正弦波脉动电源加工的工件相比,用双极性微弧氧化脉冲电源加工的工件氧化陶瓷膜的厚度大,与基体的结合紧密,膜的硬度高,说明双极性微弧氧化脉冲电源具有较好的成膜特性,并对双极性脉冲电源中负脉冲对生成氧化膜的作用机理进行了分析.     

刀具表面超晶格TiN/AlN纳米多层膜的制备和研究

采用脉冲多弧离子镀技术制备TiN/AlN纳米多层膜,随着调制周期的减小,稳定态六方AlN相逐渐转变成亚稳态立方AlN相,形成以TiN/AlN超晶格结构为主的超硬薄膜。与标准图谱的对比可知,TiN/AlN超晶格是AlN在模板立方TiN材料的影响下,在TiN层上以亚稳态相立方结构外延生长所形成。试验表明TiN/AlN薄膜具有良好的耐腐蚀性能以及使用寿命。     

刀具表面超晶格TiN／AIN纳米多层膜的制备和研究

采用脉冲多弧离子镀技术制备TiN／AIN纳米多层膜，随着调制周期的减小，稳定态六方AIN相逐渐转变成亚稳态立方AIN相，形成以TiN／AIN超晶格结构为主的超硬薄膜。与标准图谱的对比可知，TiN／AIN超晶格是AIN在模板立方TiN材料的影响下，在TiN层上以亚稳态相立方结构外延生长所形成。试验表明TiN／AIN薄膜具有良好的耐腐蚀性能以及使用寿命。