高保真度压印光刻图形质量研究

为提高纳米压印工艺的图形质量,在抗蚀剂涂铺之前,对硅基材料进行氧离子轰击表面改性,有效增强硅基材料对抗蚀剂的亲和性;采用PDMS软模具,脱模性能好,而且能够很好的清除图型母版和自身表面的杂质;利用高保真度加载工艺,图型横向和纵向复型误差小于14 nm;运用多元回归方法建立了所选温度测点的温度值与模具中心z向热误差之间的关系模型,并对热误差进行了补偿。实验结果表明,压印光刻工艺实现了图型特征的高保真度复制。     

等离子体表面改性处理牦牛毛纤维

为了改善牦牛毛纤维的表面性能,研究了低温等离子体表面改性处理牦牛毛对其表面性能的影响。通过SEM,XPS分析了处理前后纤维表面形貌和纤维表面元素成分的变化,探讨了经氧等离子体和空气等离子体分别处理后,牦牛毛的拉伸强度。研究结果表明,低温等离子体表面改性处理能够刻蚀牦牛毛纤维表面的鳞片,而且空气等离子体的刻蚀效果优于氧等离子体的刻蚀效果;等离子体处理能够保持牦牛毛的拉伸强度不变。     

等离子体表面改性对牦牛毛表面性能的影响

研究了低温等离子体表面改性处理牦牛毛对其表面性能的影响.研究结果表明,低温等离子体表面改性处理能够刻蚀牦牛毛纤维表面的鳞片,而且空气等离子体的刻蚀效果优于氧等离子体的刻蚀效果;等离子体处理不会改变牦牛毛纤维的物理性能即拉伸强度.     

微流控芯片的制备及其对糖类物质的检测

利用软光刻技术,在聚二甲基硅氧烷（PDMS）上制备了微流通道,通过光刻-湿法刻蚀和磁控溅射镀膜技术制备出了集成有金属膜电极的玻璃基片,将二者经过等离子体处理,进行键合后获得了集成有电化学检测器的PDMS-玻璃微流控芯片. 以市售蜂蜜为待测物质,研究了该芯片对蜂蜜中糖类物质的分离检测性能. 结果表明:在分离电压为850 V,电解液为50 mmol/L氢氧化钠条件下,使用该PDMS玻璃微流控芯片成功地在3 min内实现了对葡萄糖、蔗糖和果糖的有效分离和检测.     

等离子体表面改性对牦牛毛表面性能的影响

研究了低温等离子体表面改性处理牦牛毛对其表面性能的影响．研究结果表明，低温等离子体表面改性处理能够刻蚀牦牛毛纤维表面的鳞片，而且空气等离子体的刻蚀效果优于氧等离子体的刻蚀效果；等离子体处理不会改变牦牛毛纤维的物理性能即拉伸强度．     

氢等离子体处理金刚石成核面

通过用氢等离子体对微波等离子体化学气象沉积法在钼基体上制备的金刚石厚膜的成核面进行表面处理,并利用拉曼光谱、扫描电镜和X射线光电子能谱对处理前后金刚石成核面进行表征,比较了处理前后金刚石成核面金刚石相含量、表面粗糙组度,并分析了薄膜中钼原子的化合态及百分含量.结果表明:经过氢等离子体处理后的金刚石成核面的金刚石相含量提高,表面粗糙度增大,钼原子的百分含量由1.64%变为0.83%,且能有效还原成核面上钼的氧化物生成碳化钼和碳化二钼.     

低温等离子体在铝片表面沉积类PEG结构研究

研究了低温等离子体条件下铝片表面沉积的类PEG(聚乙二醇)大分子层结构及其性质.铝片在二(乙二醇)甲醚/微波电子回旋共振低温氧等离子体条件下进行处理,表面得到一层均匀、致密的涂层.经过电子光谱化学分析(ESCA)、衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)和生物活性的分析和表征,发现沉积的涂层为类PEG结构,表面主要聚集大量-CH2-CH2-O-键;与改性前相比,等离子体处理的铝片表面能极大地降低细菌吸附.     

氧等离子体处理提高涤纶纤维表面亲水性的机理

探讨氧等离子体处理提高涤纶纤维表面亲水性的机理，考察了氧等离子体处理后涤纶表面润湿性的变化，表面张力评价的解析结果表明，氧等离子体处理后涤纶表面自由能的增大，主要是表面张力的活性极性分量的贡献，Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）分析表明，这是由于涤纶表面被吸入了大量含氧和含氮阳极基团所致。     

凯夫勒纤维的等离子体表面改性

采用了等离子体接枝和等离子体表面处理技术来改善凯夫勒纤锥的表面性质。X-射我光电子能谱、电子自旋共振谱、混性质和接触角的测试结果证明处理结果随时间延长并没有明显的老化效应。突验还表明,处理后的凯夫勒纤维抗张强度有所提高,用它制备的坏氧树脂复合材料层间剪切强度提高了60％以上。     

常压射流等离子体表面处理技术在羊毛湿法整理中的应用

探讨在羊毛不同含湿量下等离子体的处理效果及与专用的羊毛防缩整理剂联用后对毡缩性能和力学性能的影响,并通过扫描电镜(SEM)和测色系统等检测设备对改性处理后的羊毛特性进行表征与分析.结果表明:对湿态织物进行等离子体处理,羊毛纤维表面的鳞片层刻蚀更加明显,表面氧元素含量明显升高;经过等离子体处理羊毛试样的染色性能得到提高,织物的抗拉强度基本不变;与树脂进行联合整理后,防毡缩性能也会进一步得到提高.