利用傅里叶合成法改变全息光栅的槽型结构

全息光栅在很多分光仪器中有着广泛的应用．全息光栅在应用中,显示出很多优于刻划光栅的特性．然而,由于制作全息光栅的方法不同,会得到不同的光栅槽型结构．一般的全息光栅具有正弦形结构,其衍射效率低于刻划光栅的衍射效率．笔者介绍了利用傅里叶合成法制作具有近似锯齿形槽型的全息光栅,其＋ １ 级的衍射效率超过５０％     

短波段光栅衍射效率计算软件设计

本文结合光栅光磁理论中的微分方法，采用具有较高稳定性和精确度的数值算法，编制了可用于计算短波段光谱范围的任意槽形光栅衍射效率分布特性的软件，其计算结果具有相当的准确性；该软件可从理论上分析入射角、槽深、闪耀角及光栅周期对衍射效率的影响。     

透射式位相光栅矢量衍射特性的实验研究

实验研究了透射式全息位相光栅的矢量衍射特性,实验结果表明当光栅常数接近或小于入射波长时,等光强的P、S偏振光入射,其各级衍射光强明显不同.经分析得知这种偏振依赖是由两方面的因素引起：玻璃基底的影响和光栅本身的矢量衍射特性所致.用时域有限差分方法（FDTD）模拟了光与位相光栅的相互作用,结果表明光栅本身的偏振依赖是由矢量衍射中P、S偏振光在光栅中形成的相对位相延迟不同引起的.     

短波段光栅衍射效率计算软件设计

求文结合光栅电磁理论中的微分方法，采用具有较高稳定性和精确度的数值算法，编制了可用于计算短波段光谱范围的任意槽形光栅衍射效率分布特性的软件，其计算结果具有相当的准确性；该软件可从理论上分析入射角、糟深、闪耀角及光栅周期对衍射效率的影响。     

光斜入射下光栅公式与特性研究

主要讨论了当入射光斜入射光栅表面时的光栅衍射公式。分析光在不同入射方向下的光栅公式的具体表达式，认为在讨论的三种光栅公式中第二种光栅表达式易理解且计算方便。讨论了光斜入射下的衍射光光谱。当入射光斜入射光栅表面时，通过改变入射光的斜入射角度，在衍射光一侧存在着一个最小衍射光谱线位置，并分析了斜入射光下的光栅特性。     

低偏振相关损耗多重体光栅CWDM设计

多重体全息光栅可当作一种粗波分复用器使用.用严格耦合波分析算法对多重体全息光栅的衍射效率进行理论分析,计算并分析光栅厚度及布拉格角度对该复用器的偏振相关损耗的影响.数值结果表明,通过优化光栅厚度和布拉格角度,在无明显增加附加损耗的前提下,可获得一种低偏振相关损耗的复用器.实验制作了一个波长间隔为20 nm的8通道粗波分复用器,其测量结果与模拟计算结果吻合.     

含偶氮苯聚合物线性偏振全息光栅的物理特性

为了提高线性偏振全息光栅的衍射率,对含偶氮苯本体聚合物的线性偏振全息光栅的工作原理进行研究.通过琼斯矩阵推导正交线性偏振全息光栅的传输矩阵T,对传输矩阵进行傅里叶变换,进而得到各阶衍射波的传输方向和信号强度,理论公式表明,其一阶衍射率可达到50％.当含偶氮苯本体聚合物受到2个正交线性偏振光的照射时,通过Pump-pro...     

厚全息光柵的近似分析方法

从薄光栅的衍射理论出发,对体全息光栅的衍射效率提出了一个近似、直观、简捷的分析方法。得到了与Kogelnik H相同的结果,从而将薄光栅理论与厚光栅理论联结起来。     

光栅衍射偏角变化规律的研究

本文讨论光栅衍射的一个基本特性,即光栅衍射偏角的不变性。入射到光栅的光束经光栅衍射,入射光束与衍射光束之间的夹角φ在一定的条件下,不随入射角α的变化而变化,或变化很小。本文根据光栅衍射的基本理论,经推导从理论上证明了这一不变性,又运用电子计算机得出φ-α曲线和有关数据。本文还给出实验测出的α与φ的关系曲线。实测与理论计算都证实了光栅衍射偏角不变性的存在。     

罗兰圆型二维集成凹面光栅的成像分析

利用标量波动衍射理论,通过对光栅槽面的数值积分,计算了罗兰圆型集成二维凹面光栅像点的光强分布。分析了工艺中的折射率偏差对光谱位置的影响,计算了光栅的色散和分辨力,并与几何学学的分析方法作了比较,分析了光栅的槽面数,光源的模场宽度以及因工艺产生的槽面圆角对光栅成像的影响;最后给出了光栅效率的近似计算。     

衍射光栅制造技术的发展

衍射光栅巳广泛应用于国防、科研和国民经济的许多领域，因此跟踪世界先进的衍射光栅制造技术具有十分重要的意义。文中对衍射光栅制取的两个重要方法—刻划光栅与全息光栅的原理和技术发展进行了阐述，并指出了衍射光栅制造技术的发展趋势。     

全息光栅衍射的傅里叶频谱分析

本文运用傅里叶光学的理论对全息光栅衍射的频谱进行了严格的数学推导,并对自己在简易全息台上拍摄的正弦型、非正弦型、正交型、复合型光栅衍射产生的频谱进行了分析。从而更直观地反映了傅里叶变换的原理。     

紫外全息凹面光栅离子束刻蚀技术

通过对引出的平行离子柬流外加可控磁场,可以实现离子束流偏转。该方法实现IV型凹面光栅沿曲面不同闪耀角离子束刻蚀,能够获得高衍射效率的IV型凹面光栅。经过理论设计计算出理想的IV型凹面光栅闪耀角,利用全息曝光一弯转离子束刻蚀工艺制作出尺寸45mm×40mm,波长250nm处衍射效率达67％,入臂200mm,出臂188mm,曲率半径224mm的IV型凹面光栅。同时,利用平行离子束流制作了相同参数的IV型凹面光栅,其250nm处的衍射效率为30％。实验结果表明,利用弯转离子束流制作IV型凹面光栅的方法简单易行,并能够精确控制离子束流实现高衍射效率的IV型凹面光栅制作。     

一种透明全息投影显示屏的研制

研制了一种透明平面全息显示屏。显示屏由全息像素组成，每一个像素都基于散斑的像面全息结构，其中基元光栅起到调制入射光并定向衍射成像的作用。分析了显示屏的视场特性，对不同的参物比对显示屏衍射效率的影响进行了测量和分析。全息显示屏具有高亮度和消色散的优点，浮雕型结构便于进行大幅面的快速微纳米压印复制，使得所提出的显示屏具有低成本的工艺优势。     

全息法制作光谱学衍射光栅

用全息法在光致抗蚀剂涂层上制作光栅,涉及到所用的激光光源、干涉仪系统和光敏记录介质。在现有条件下,对一个刻划面积约80×40mm~2的光栅,可以得到波前象差1/6λ,30％的衍射效率,分辨率为理论值的75％和无鬼线强度。     

数字全息显微术应用于微器件的测量研究

利用数字全息显微测量的方法进行微器件测量,以实现微小形变或者微小位移的测量,继而进行反馈调节,实现实时监测.在学习数字全息的基本理论的基础上,建立无预放大数字全息显微测量系统,对MEMS微器件进行测量.基于菲涅耳近似的再现算法编写了数字全息再现的程序,用频谱滤波的方法对全息图中对图像质量有严重影响的零级项、孪生像进行了有效的抑制,从而使成像质量得到提高,最终获得了其再现三维轮廓,刻槽深度为160nm,栅距为430μm.     

KNSBN晶体全息再现像质量的研究

为了研究钾钠铌酸锶钡KNSBN晶体的全息存储特性,设计了相关实验结构,通过改变物光与参考光在KNSBN晶体中形成的体相位栅的位置,研究了体相位栅在晶体内不同位置对体全息再现像质量的影响及再现时的衍射效率.研究结果表明:当体相位栅到晶体前端的距离为2.0~3.5mm时,再现图像质量相对稳定;当距离L=3.0mm时衍射效率达到最大值31%,此时再现像保持时间最长,可达到262s;图像质量最好,亮度大,稳定性好且再现像不失真.实验结果证实了KNSBN晶体可作为一种优良的体全息存储介质,且在体全息存储中,尽可能的将物光与参考光叠加形成的体相位栅置于晶体内部时,再现时将能得到较高的衍射效率和质量较高的再现图像.