光隔离器及其相关的磁光材料

本文简要介绍了磁光隔离器的理论、结构和分类，并提出了该器件今后发展的几个问题，是最后介绍了几种磁光材料。     

一种用于宽带温度稳定光隔离器的新型磁光材料

以Ｂｉ２Ｏ３／Ｂ２Ｏ３为主要助熔剂,用改进的高温助熔剂法生长出一种新型掺铋 事稀土铁石榴石（ＨｏＹｂＢｉ）３Ｆｅ５Ｏ１２单晶,研究了磁光性能,法拉第旋转温度和波长特性在１０－１１０℃,单昌的法拉第旋转温度系数Ｓ＝θＦ＾－１（ｄθＦ／ｄＴ）在λ＝１．５５μｍ时为４．６×１０＾－４Ｋ＾－１,比ＹＩＧ单晶的法拉第旋转温度系数小,在λ＝１．５５μｍ时,（ＨｏＹｂＢｉ）３Ｆｅ５Ｏ１２单晶的法拉第旋转波长系数     

磁光波导型器件研究进展

首先介绍了法拉第磁光效应,然后重点介绍了磁光波导调制器和磁光波导隔离器的发展及存在的问题,并对其原理进行了讨论,最后简单论述了磁光波导开关原理及发展情况。     

用于高性能光隔离器的复合稀土铁石榴石ReYbBiIG单晶材料研究

通过加速旋转坩埚技术和Bi₂O₃/B₂O₃助溶剂生长技术研制新型磁光复合稀土铁石榴石单晶ReYbBiIG(Re:Tb³⁺、Ho³⁺、Y³⁺。从理论上解释了将两种具有相反符号法拉第温度和波长系数的掺铋稀土铁石榴石复合可以显著优化磁光性能,并成功制得具有大磁光优值、低饱和磁化强度、低近红外吸收、极小法拉第温度和波长系数的系列优质磁光单晶(如:Ho_0.85Yb_1.12Bi_1.03Fe₅O₁₂和Tb_2.06Yb_0.46Bi_0.48Fe₅O₁₂等)。研究表明,以新型磁光复合稀土铁石榴石单晶ReYbBiIG作为法拉第转子材料制得的新型光隔离器更适用于WDM光纤通讯系统对宽波段和温度稳定性的要求。     

Tb-Fe-Co磁光薄膜溅射条件对Kerr转角的影响

在实际磁光盘生产线上大都使用合金溅射靶溅射记录介质膜,而尚示有直接使用合金靶研究这些关系的报道。我们首先研究了用于磁光油射的系列合金靶,并完善了靶材制造工艺参数,且在此基础上进行了成分以及溅射参数对各种磁光性能影响的研究。首先确定了各种溅射和N2－Ar气流量下Al、Si以及Tb-Fe-Co(Mo）的溅射速率,在此基础上通过改变溅射功率和调整气汉量改变SiN的成分和厚度,在各种功率和气流量下溅射了Mo膜,并测定了这些磁光膜的Kerr线以获得Kerr转角等性能,从而探讨了溅射工艺条件对Kerr的影响。     

磁光透明陶瓷的研究进展

磁光材料是指从紫外到红外波段具有磁光效应的光功能材料, 按照材料的类型可将其分为磁光玻璃、磁光晶体、磁光透明陶瓷等。其中, 磁光透明陶瓷是近年来出现的一种新型磁光介质材料, 具有高Verdet常数、大尺寸、高热导率、高激光损伤阈值等优点, 因而是用于高功率激光器中法拉第隔离器最理想的材料之一。目前已经报道的磁光透明陶瓷材料主要包括铽镓石榴石(Tb₃Ga₅O₁₂, TGG)陶瓷、铽铝石榴石(Tb₃Al₅O₁₂, TAG)陶瓷以及一些倍半氧化物陶瓷, 如氧化铽(Tb₂O₃)陶瓷、氧化钬(Ho₂O₃)陶瓷、氧化镝(Dy₂O₃)陶瓷等。本文首先介绍了几种常见的磁光效应, 详细阐述了法拉第效应和克尔效应的基本原理。着重对几种磁光透明陶瓷材料的研究进展、材料性能、应用前景进行了综述和介绍, 并对这几种磁光透明陶瓷的性能进行了比较和分析, 指出了它们存在的问题和今后的研究方向。     

日本开发光隔离器用氧化物单晶

日本物质材料研究机构光材料中心和藤仓公司合作,共同开发出适应大功率、宽波段激光光源的光隔离器用氧化铝磁性石榴石（Tb3（Sc,Lu）2Al3O12：TSLAG）单晶。与传统的磁性石榴石单晶相比,在法拉第旋转角、透射率及使用寿命方面均优异,而且容易制备出大型单晶。这次研究是利用直拉法生长了直径约1英寸的单晶,但也有可能生长2英寸的大型单晶。今后将对大型单晶的高质化及实用化做进一步研究。     

稀土铁石榴石磁光材料及其应用

本文综述了稀土铁石榴石磁光材料及磁光器件研究的最新进展；对最具应用价值的高掺Ｂｉ系列和掺Ｃｅ系列石榴石磁光材料作了介绍，在磁光器件方面选择了最具代表性的磁光隔离器和光纤电渗／磁场测试仪加以讨论。     

Ce掺杂对TbFeCo材料磁光性能影响的研究

采用射频磁控溅射方法制备了TbFeCo非晶磁光薄膜，并在TbFeCo中引入轻稀土元素Ce，测试了薄膜的磁光性能。研究了薄膜成分对其磁光性能的影响。结果表明；在TbFeCo薄膜中掺入少量Ce时，薄膜的磁光克尔角及矫顽力都有所提高，矩形度也增加了。但随Ce掺入量的增加，薄膜的磁光性能发生恶化，较好的掺杂在10.31?左右。     

磁记录和磁光记录材料及其发展

本文介绍了磁记录和磁光记录方式及其原理,磁记录及磁光记录材料的特性、制法和应用,以及在当代信息社会的重要作用和发展前景。     

直流磁控溅射中Ar气压强对TbFeCo磁光薄膜均匀性的影响

本文研究了磁光盘生产中 Ar气压强对直流磁控溅射 Tb Fe Co磁光薄膜均匀性的影响 ,通过调整溅射气压来提高薄膜的厚度均匀性和成分均匀性。在靶 -基片距离为 6 0 0 m m,溅射功率为 6 0 0 W,溅射气压为 0 .6～0 .8Pa的条件下 ,获得了均匀性良好的磁光薄膜 ,并将此工艺参数用于磁光盘的生产     

非晶稀土——过渡金属磁光薄膜热稳定性研究

采用射频磁控溅射方法制备非晶ＤｙＦｅＣｏ磁光薄膜。样品的克尔回线、转矩曲线的测试显示，薄膜具有优良的磁和磁光性能。退火研究表明，随着退火时间的增加，矫顽力下降，垂直磁各向异性能减少，但克尔角变化不明显，其内在机制与薄膜中的微缺陷和应力的弛豫过程有关。     

高聚物光纤材料及制备方法

本文介绍了高聚物光纤（ＰＯＦ），特别是塑料光纤的基本理论，以及ＰＯＦ材料种类、合成与生产工艺，并提出将来的发展方向。     

聚酰亚胺基二阶非线性光学材料

二阶非线性光学材料作为光电子中的关键材料已引起了研究人员极大的兴趣。而聚酰亚胺作为一种二阶非线性光学材料的基体除了具备有机聚合物的共有优点如易加工成型外,还比其它聚合物基二阶非线怀光学材料具有更高的玻璃化转变温度,更优异的耐热性能、电性能和机械性能,是目前被选用最多的二阶非线性光学材料的聚合物基体之一。本文对近年来聚酰亚胺基二阶非线性光学材料的制备、性能研究以及极化松驰方面的研究进展进行了评述。     

树脂基复合材料环形减振器设计及实验研究

为了满足航空航天等特殊环境阻尼减振的需要,利用树脂基复合材料质量轻、比强度和比模量高、力学性能具有可设计性等特点,开发研制了树脂基复合材料环形减振器,揭示了减振机理,设计了减振器结构,对影响减振器性能的主要几何参数和性能指标进行了动静态实验研究.获得了该减振器的弹性迟滞回线和最大振动应力幅值,为实际应用提供了理论依据.研究结果表明:该减振器具有良好的减振性能,改变其纤维走向、减振环数量及主要几何参数,可以使减振器具有不同性能,以满足不同工况的需要.     

聚酰亚胺基二阶非线性光学材料的研究进展

由于极化聚合物在集成光电子学领域的潜在应用前景已经引起广泛关注 ,而聚酰亚胺由于其优异的热稳定性、电性能和机械性能以及在微电子工业的广泛应用 ,使得聚酰亚胺基二阶非线性光学材料倍受重视。本文在简要介绍极化聚合物基本知识的基础上 ,综述了近几年来聚酰亚胺基二阶非线性光学材料的研究进展 ,主要介绍了聚酰亚胺及其生色团的设计与合成 ,其极化方法和松弛机理的研究     

光波导放大器用材料的研究进展

回顾了3种光放大器的工作原理、应用现状,分析了4类主要的光波导放大器用材料的性能、特点和研究现状.分析表明,非氧化物玻璃和硅基光波导材料对研制光波导放大器有很好的应用潜力.     

氧化碲非线性光学材料的研究进展

综述了氧化碲非线性光学材料(包括纯TeO_2材料和掺杂有其它物质的氧化碲基材料)的制备方法、国内外研究进展,探讨了分子结构对氧化碲基材料非线性光学性的影响,分析了采用高温熔融法和溶胶-凝胶法制备氧化碲非线性光学材料的优缺点,展望了氧化碲材料的应用前景.指出高温熔融法或溶胶-凝胶法与其他制备方法,如超声、光聚合、电化学等相结合是制备优异氧化碲非线性光学材料的有效手段.     

溶胶—凝胶法光功能材料研究进展

本文对ｓｏｌ－ｇｅｌ法制备光功能材料及其材料的特性进行了介绍,对有机染料和无机分子掺杂子ｓｏｌ－ｇｅｌ基质中的激光性质,发光性质,光致变色现象及量子尺寸效应等进行了综述,并预测了ｓｏｌ－ｇｅｌ法制备光功能材料的发展趋势。     

光学薄膜及其发展现状

介绍了传统光学薄膜的原理,并对反光膜、增透膜、纳米光学薄膜等传统光学薄膜的研究现状及应用情况,以及几种新型光学薄膜如高强度激光器、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、光电通信用光学薄膜的研究现状及应用进行了详细分析;最后对光学薄膜的发展前景进行了展望。