金刚石和类金刚石研究及其电声领域中的应用

金刚石和类金刚石膜是当今材料界的研究热点之一，有着极其诱人的应用前景。本文简要综述了该膜系的发展过程和现在水平。并结合作者自己的研究工作，对膜系应用于扬声器振膜以上提高其高频响应范围的研究和应用工作进行较全面的调研，综述了国内外在该领域的最新进展。     

类金刚石膜研究进展

类金刚石膜具有高硬度、高热导率、低摩擦因数、良好的耐磨性能和化学惰性等优异的物化性能,在热沉、微电子、抗核加固、生物和汽车工业等领域具有重大的应用前景,近年来吸引了众多研究和关注。文章综述了类金刚石膜的研究进展和膜的成核机理,展示了类金刚石的应用前景,为该材料的研究和工业化应用提供思路和参考。     

CVD金刚石膜紫外光探测器

宽禁带半导体金刚石具有许多独特特性，基于此种材料的紫外光探测器能在高温、强腐蚀和强辐射等恶劣环境下工作，成为近年来紫外探测技术研究的重点课题之一。本文综述了CVD金刚石膜紫外光探测器的研究及应用进展。     

金刚石膜辐射探测器的研究进展

阐述了金刚石作为激发材料在辐射探测器中的应用范围,比较了硅、化学气相沉积(CVD)金刚石膜和天然金刚石作为探测器用激发材料的性能优劣,介绍了CVD金刚石膜辐射探测器的原理和结构,综述了金刚石辐射探测器的国内外研究进展,展望了CVD金刚石膜辐射探测器的应用前景.     

稀土金属抛光金刚石膜技术

研究开发了一种有效地抛光化学气相沉积金刚石厚膜的技术。该技术利用化学活性很强的稀土金属镧的金刚石的化学反应，在一定的工艺条件下可对金刚石膜进行有效的抛光。抛光绵高低与抛光温度有关，在温度大于９００℃时抛光效率较高，可达３４μ／ｈ，表面度可从原来的Ｒａ １２μｍ降至Ｒａ１．６μｍ，如用于后续的精抛光，可大大光的时间和提高抛光效率，使表面十分粗糙的金刚石厚膜的精抛光能得以经济地进行。     

类金刚石薄膜的耐热性研究进展

类金刚石薄膜具有良好的物理化学性能、光电性能、机械性能及摩擦学性能。但是在高于400℃的温度条件下，DLC膜易向石墨结构转变，从而阻碍了其在高温条件下的应用。因此关于类金刚石薄膜耐热性的研究是目前的一个热门研究课题。在综合分析近年来该领域研究的基础上总结了影响DLC膜耐热性的3种因素：膜结构、掺杂、制备方法，并分析了各种因素的影响机理。     

镁合金表面类金刚石膜的研究进展

类金刚石碳（DLC）膜具有高硬度、低摩擦系数、强化学惰性及生物相容性好等优异性能，镁合金表面制备DLC膜可极大地改善基体的使用性能。综述了采用不同制备技术在镁基体表面获得的多种DLC膜系的抗磨损及耐腐蚀性能，并展望了DLC膜表面改性镁合金的医用前景，指出镁合金表面制备DLC膜是其表面改性技术中具有前景的一个研究方向。     

高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状

金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中,高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其产生的等离子体密度高,同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好,因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世界范围内,美、英、德、日、法等先进国家均已掌握了以高功率MPCVD法沉积高品质金刚石膜的技术。但在我国国内,高功率MPCVD装备落后一直是困扰我国高品质金刚石膜制备技术发展的主要障碍。首先综述国际上高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术的发展现状,包括各种高功率MPCVD装置的特点。其后,回顾了我国金刚石膜MPCVD技术的发展历史,并介绍北京科技大学近年来在发展高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术方面取得的新进展。     

类金刚石薄膜的应用

类金刚石膜(Diamond-likeCarbon)简称DLC,是一类性质类似于金刚石如具有高硬度、高电阻率、耐腐蚀、良好的光学性能等,同时其又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳膜。作为功能薄膜和保护薄膜,其广泛应用于机械、电子、光学、医学、航天等领域中。类金刚石膜制备方法比较简单,易实现工业化,具有广泛的应用前景。本文综述了类金刚石薄膜的性质及应用。     

CVD金刚石膜的产业化应用与目前存在的可题

在863计划的大力支持下，我国CVD金刚石膜研究在工具、热沉和光学应用等方面都取得了十分显的进展，不仅显缩小了与先进工业化国家的差距，而且已使我国开始进入产业化应用进程。目前国内已有一些小型高技术型公司和企业出现，但大都仅局限于金刚石厚膜工具(金刚石厚膜钎焊工具和金刚石拉丝模模芯)。在金刚石薄膜涂层工具、金刚石膜热沉和金刚石光学应用研究等方面已取得实质性进展，尽管离产业化应用仍有一定距离，但已具备产业化开发和市场应用的务件。本针对我国CVD金刚石膜的产业化前景和目前存在的问题进行了讨论，并提出了建议。     

GaN和Al_xGa_(1-x)N薄膜材料研究进展

ＧａＮ及ＡｌｘＧａ１－ｘＮ是发兰光的关键材料，是目前光电子材料中最引人注目、必须攻克的课题。本文综述了ＧａＮ及ＡｌｘＧａ１－ｘＮ材料的研究现状，重点介绍了ＧａＮ及ＡｌｘＧａ１－ｘＮ材料近年来在性能评价、生长技术和应用开发方面的进展     

ITO透明导电薄膜的制备方法及研究进展

概述了透明导电薄膜的分类及ITO薄膜的基本性质,综述了用于制备ITO薄膜的磁控溅射法、真空蒸发法、溶胶-凝胶法、喷雾热解法、化学气相沉积法,论述了不同制备方法的优缺点。最后,介绍了ITO薄膜的应用现状,并对ITO薄膜的发展趋势进行了展望。     

钛酸钡铁电陶瓷和薄膜的溶胶凝胶法制备及表征

本文通过对近年来有关利用溶胶凝胶法制备钛酸钡陶瓷材料研究的总结，对制造钛酸钡陶瓷和薄膜的原材料以及工艺过程给予了比较详细地分析和总结，并讨论了有关钛酸钡陶瓷和薄膜的表征问题。     

PECVD方法制备SnO2气敏薄膜的电子显微镜研究

通过ＳＥＭ、ＴＥＭ研究了ＰＥＣＶＤ方法制备的ＳｎＯ＿２薄膜的显微结构，讨论了沉积速率与颗粒大小的关系；在Ｓｉ、陶瓷和ＫＢｒ３种不同衬底上沉积的ＳｎＯ＿２薄膜的差异以及退火对ＳｎＯ＿２膜结晶状态的影响。结果表明，ＰＥＣＶＤ方法制备的ＳｎＯ＿２薄膜是非晶态，具有柱状结构。退火使非晶ＳｎＯ＿２膜向着多晶方向转化，演化过程为：非晶大颗粒→超微粒多晶→晶粒长大。     

The role of operations after the deposition on the performance of SiOx films in optoelectronics devices

In this study, we have investigated phase separation, silicon Nano crystal (Si-NC) formation and optoelectronics properties of Si oxide (SiO_x, 0.7 < x < 1.3) films in high-vacuum annealing and ion bombardment conditions. The SiO_x films were deposited by physical vapor deposition (PVD). The internal structure properties of these films were the main factor in applications of optoelectronic. Possible changes in the structure, composition and electro physical properties were investigated by FTIR and TEM spectroscopy. The measurements show that SiO_x film is the dominant phase in the ultra-thin layer. Also, high-temperature annealing ion bombardment results in further increase of the phase separation of the whole layer.     

物理气相沉积薄膜的界面与附着力

近十多年来,气相沉积技术发展十分迅速,无论在理论研究还是应用研究上都取得了丰硕的成果,尤其在PVD薄膜的附着力方面,研究十分活跃。本文根据有限的资料,初步归纳出在PVD过程中,膜/基附着力与基体表面活性密切相关;薄膜与基体之间也可以化学吸附形式结合,形成界面化合物;也可借助离子的轰击作用形成结合良好的扩散过渡层;膜/基界面之间不匹配将使附着力下降,可通过设置过渡层(梯度层)的方式加以解决。     

Extremely strong and tough chitosan films mediated by unique hydrated chitosan crystal structures

Chitosan-based materials have attracted considerable attention owing to their inherent biodegradability, biocompatibility, and antimicrobial properties. However, the establishment of a scalable technology for the fabrication of high-strength and high-toughness chitosan films remains a major challenge. Herein, a new route for the fabrication of high-strength and high-toughness chitosan films mediated by a unique hydrated chitosan crystal structure is reported, using an aqueous KOH/urea solution as a solvent and an aqueous KCl solution as a neutralization bath. The KCl concentration, neutralization temperature, and neutralization time significantly affect the self-assembly and lateral aggregation of chitosan chains and the microstructure and morphology of the chitosan hydrogels and films. Furthermore, stretching orientation endows the chitosan films with a high tensile strength, Young’s modulus, and work of fracture of 579 ± 52 MPa, 18.8 ± 1.5 GPa, and 26.7 ± 6.9 MJ m⁻³, respectively. To the best of our knowledge, the chitosan films developed in this study are the first example of extremely high-strength and high-toughness chitosan films. We believe that our findings will be useful for the fabrication of polysaccharide-based films with excellent mechanical properties and in broader applications in the fields of biomedicine, flexible bioelectronics, water treatment, and food packaging.     

纳米材料及其应用研究进展

纳米材料在机械、电子、化工、医药、纺织和军工等方面具有广泛的应用潜力。文章简述了纳米材料的种类、特性以及应用研究进展,并就该研究领域的发展方向提出了一些建议。     

Preformed polymers for Langmuir–Blodgett films– molecular concepts

The use of preformed polymers for the preparation of Langmuir-Blodgett (LB) multilayers is reviewed. Principles for polymer self-organization are outlined and the appropriate molecular designs are discussed. Recent developments in the different classes of polymers for LB multilayers are presented, and their outstanding properties highlighted.     

多孔陶瓷材料应用及制备的研究进展

回顾了多孔陶瓷材料传统的应用领域和制备方法，总结和归纳了多孔陶瓷材料新的应用领域和新的制备方法，指出了当前多孔陶瓷材料的研究热点和今后所要解决的问题。