对向靶溅射高炮和磁化强度(Fe,Ti)-N薄膜

本实验用对向靶溅射仪分别在Si（100），NaCl单晶衬底上成功地制备出具有高炮和磁化强度的（Fe，Ti）－N薄膜，研究了氮气分压和衬底温度对薄膜结构与磁性的影响。氮气分压为0．04～0．07Pa，衬底温度为100～150℃时，有利于Fe_(16)N_2相的形成，在此条件下制备的（Fe，Ti）－N薄膜的饱和磁化强度为2．3～2．46T，超过纯Fe的饱和磁化强度值。     

磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能

研究了氮流量对磁控溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性和结构的影响．加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的．当氮的流量为１．０ｍＬ·ｍｉｎ~（－１）时,矫顽力 Ｈ_ｃ达到最小值２０５Ａ／ｍ．当氮流量为０．８ｍＬ·ｍｉｎ_（－１）时,饱和磁化强度达到Ｍ_ｓ＝２．３６Ｔ．在 Ｆｅ－Ｎ薄膜中未发现γ’－Ｆｅ４Ｎ和 α”－Ｆｅ１６Ｎ２．     

氮化铁梯度薄膜的制备

用对向靶溅射仪制备了具有梯度结构的氮化铁薄膜材料．卢瑟福背散射分析结果表明，铁、氮两种原子的密度沿膜厚度方向呈梯度变化．在薄膜中有ζ－Ｆｅ２Ｎ，ε－ＦｅｘＮ（２＜ｘ＜３），γ′－Ｆｅ４Ｎ和α″－Ｆｅ１６Ｎ２等物相．振动样品磁强计测试结果表明部分梯度膜的饱和磁化强度值接近纯铁膜，膜面富铁的梯度样品的矫顽力与基底富铁的梯度样品的矫顽力相差很大。     

对向靶溅射高饱和磁化强度(Fe,Ti)-N薄膜

本实验用对向靶溅射仪分别在S(100),NaCl单晶衬底上成功地制备出具有高饱和磁化强度的(Fe,Ti)-N薄膜,研究了氮气分压和衬底温度对薄膜结构与磁性的影响.氮气分压为0.04～0.07 Pa,衬底温度为100～150℃时,有利于Fe16N2相的形成,在此条件下制备的(Fe,Ti)-N薄膜的饱和磁化强度为2.3～2.46T,超过纯Fe的饱和磁化强度值.     

球磨技术制备铁的氮化物及性能研究

本实验通过球磨α－Ｆｅ和脲的混合粉末,制得α’－Ｆｅ（Ｎ）超细粉末,Ｎ原子含量为８．８％（原子分数）,饱和磁化强度σｓ为２４２．７ｅｍｕ／ｇ。样品径１６０℃真空退火４ｈ,α－Ｆｅ’（Ｎ）相部分转变为α”－Ｆｅ１６Ｎ２相,此时样品的饱和磁化强度σｓ提高到２５２．０ｅｍｕ／ｇ,样品中α”－Ｆｅ１６Ｎ２相含量约２１％（质量分数）,其σｓ为２８７．０ｅｍｕ／ｇ。样分析表明,在１５０￣２００℃,α’－Ｆｅ（     

Fe—N／Ti—N纳米多层膜结构和磁性研究

用磁控溅射技术制备了周期性良好的Ｆｅ－Ｎ／Ｔｉ－Ｎ纳米多层膜。Ｔｉ－Ｎ单的厚度固定为３ｎｍ，Ｆｅ－Ｎ单层的厚度在２．５－１１ｎｍ之间变化，用振动样品磁强计研究了样品的磁性，用Ｘ射线衍射研究了样品的结构。发现在Ｆｅ－Ｎ层罗薄的样品中，饱和磁化强度明显提高，而矫顽力在所有样品中基本相同。     

氮化铁梯度薄膜的制备和磁性研究

用对向靶溅射方法制行出氮化铁梯度薄膜。利用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）对样品进行了深度剖面分析，铁原子和氮原子的百分含量沿膜厚方向呈梯度变化。Ｘ射线衍射表明膜中含有α＝Ｆｅ，－Ｆｅ１６Ｎ２，ε－ＦｅｘＮ（２〈ｘ≤３）和δ－Ｆｅ２Ｎ各相。随着氮分压增加，膜中含氮量高的相比例亦增加，饱和磁通密度逐渐降低。     

浸渍涂布法制备（CaxLa_l－x）FeO_3薄膜及其气敏效应的研究

利用含有Ｃａ，Ｌａ和Ｆｅ成分的水溶胶（摩尔比为Ｃａ：Ｌａ：Ｆｅ＝０．２５：０．７５：ｌ），经浸渍──提拉──干燥──焙烧过程分别在玻璃衬底及Ａｌ＿２Ｏ＿３基片上制备了薄膜。通过ＸＲＤ和ＸＰＳ分析表明玻璃衬底上的薄膜是成分准确的钙钛矿结构的（Ｃａ＿０．２５Ｌａ＿０．７５）ＦｅＯ＿３薄膜，而Ａｌ＿２Ｏ＿３基片上的薄膜是成分不确切且呈混合相的薄膜；借助ＳＥＭ观察了薄膜的表面微结构；测试Ａｌ２０３基片上的薄膜对酒精的气敏效应，发现在较低的工作温度下，薄膜对低浓度的酒精蒸气有高的灵敏度。     

高取向锐钛矿TiO2薄膜的MOCVD法制备与表征

采用热壁低压ＭＯＣＶＤ方法，以Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４为源在ＳｉＯ２／Ｓｉ衬底上制备出高取向锐钛矿ＴｉＯ２薄膜。用Ｘ射线衍射技术研究了沉积温度和衬底对薄膜的结构和相组成的影响规律，采用ＸＰＳ和ＳＥＭ分别研究了薄膜的组成和形貌，结果表明，当沉积温度为５００＾０Ｃ和６００＾０Ｃ时，薄膜为锐钛矿结构，３００＾０Ｃ和４００＾０Ｃ地，薄膜以无定形结构为主，薄膜的组成为ＴｉＯ２，衬底影响薄膜的相组成，不同沉积温度     

TiO2薄膜的Sol—gel制备及结构分析

以正钛酸丁酯，无水乙醇和冰醋酸为原料，采用Ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺匀胶技术在石英玻璃和单晶硅衬底上成功地制备了ＴｉＯ２薄膜，薄膜表面均匀，致密，无裂纹。研究表明，随热处理温度的提高，薄膜经锐钛矿转变为金红石结构，其转变温度因衬底不同而异，但比凝胶粉末的转变温度高，金红石结构的ＴｉＯ２薄膜具有一定的择优取向性，其晶粒大小为０．０５～０．１５μｍ。     

磁控溅射Fe—N薄膜及Fe—N／TiN多层膜的结构和磁性

用磁控溅射法制备了Ｆｅ－Ｎ薄膜和Ｆｅ－Ｎ／ＴｉＮ多层膜。结果表明,在常温下,使用较小的氮、氩比溅射,生成的Ｆｅ－Ｎ薄膜主要是含氮α－Ｆｅ固溶体,并且Ｎ原子进入α－Ｆｅ晶格是饱和磁化强度提高的一个原因。Ｆｅ－Ｎ／ＴｉＮ多层膜的层间耦合作用以及减小每－Ｆｅ－Ｎ层厚度而引起的晶粒尺寸的减小可以有效地降低薄膜的矫顽力,从而获得更好的软磁性能。     

Pb1—xLaxTiO3薄膜的制备及介电特性研究

用溶胶－凝胶法在Ｐｔ／Ｔｉ／ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）基底上制备Ｐｂ１－ｘＬａｘＴｉＯ３（ＰＬＴ,ｘ〈０．２）薄膜,研究薄膜的结构及其介电、铁电性能。在６００℃下退火１小时的ＰＬＴ薄膜表现出单一的钙钛矿结构,（１００）择优取向明显,在室温下ＰＬＴ薄膜有典型的电滞回线。在ｘ〈０．２（摩尔比）的范围内,ＰＬＴ薄膜相对介电常数则随着Ｌａ的增加而增加。     

一种制备r—Fe2O3薄膜的新方法

采用一种简单的新工艺分别在硅片和氧化铝陶瓷基片上制备了ｒ－Ｆｅ２Ｏ３薄膜。该工艺分３步完成：首先利用Ｆｅ（ＮＯ２）３酒精溶液通过浸渍涂布工艺制备ａ－Ｆｅ２Ｏ３薄膜，其次ａ－Ｆｅ２Ｏ３薄膜在氢气流中、３２０￣３５０℃之间热处理３０ｍｉｎ被还原为Ｆｅ３Ｏ４薄膜，最后Ｆｅ３Ｏ４薄膜在空气中２５０℃左右热处理３０ｍｉｎ被氧化为ｒ－Ｆｅ２Ｏ３薄膜。ＸＲＤ和ＳＥＭ分析结果表明该ｒ－Ｆｅ２Ｏ３薄膜呈尖晶石物相和     

TiO_2薄膜的Sol－gel制备及结构分析

以正钛酸丁酯、无水乙醇和冰醋酸为原料，采用Ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺匀胶技术在石英玻璃和单晶硅衬底上成功地制备了ＴｉＯ＿２薄膜，薄膜表面均匀、致密，无裂纹。研究表明，随热处理温度的提高，薄膜经锐钛矿转变为金红石结构，其转变温度因衬底不同而异，但比凝度粉末的转变温度高。金红石结构的ＴｉＯ＿２薄膜具有一定的择优取向性，其品位大小为０．０５～０．１５μｍ．     

陶瓷衬底上淀积薄膜α－Fe_2O_3材料的微结构和气敏特性研究

本文用常压化学气相淀积（ＡＰＣＶＤ）工艺在陶瓷衬底上成功地制备出了具有超微粒结构的α－Ｆｅ_２Ｏ_３气敏薄膜．对所制备的薄膜进行了Ｘ射线衍射分析和扫描电子显微分析（ＳＥＭ）．研究了淀积工艺条件对α－Ｆｅ_２Ｏ_３薄膜的粒度的影响．气敏特性研究表明，用ＡＰＣＶＤＩ艺制备的超微粒α－Ｆｅ_２Ｏ_３薄膜对烟雾呈现出很高的灵敏度和良好的选择性，这种薄膜可用于感烟探测器．     

常压MOCVD制备MgO薄膜的研究

本文首次报道用常压金属有机化学气相沉积（ＡＰ－ＭＯＣＶＤ）在Ｓｉ（１００），ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）和Ｐｔ／Ｓｉ（１００）衬底上外延高质量的ＭｇＯ薄膜。研究了衬底温度与薄膜的取向性关系和ＭｇＯ薄膜的潮解特性。高纯ｍａｇｎｅｓｉｕｍａｃｅｔｙｌａｃｅｔｏｎａｔｅ［ｂｉｓ（２，４－ｐｅｎｔａｎｅｔａｎｅ－ｄｉｏｎｏ）ｍａｇｎｅｓｉｕｍ］［Ｍｇ（ＣＨ２ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３）２］作为金属有机源，扫描电镜（ＳＥＭ），透射电镜（ＴＥＭ）和Ｘ－ＲＡＹ衍射实验显示，在较低的衬底温度（～４８０℃）下一次淀积成单晶膜。薄膜均匀，致密，结晶性和取向性很好，衬底温度（Ｔｓ）在４００℃到６８０℃之间，在Ｓｉ（１００）衬底上生长的ＭｇＯ薄膜都具有［１００］取向，在Ｓｉ（１００）、ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）和Ｐｔ／Ｓｉ（１００）衬底上生长的ＭｇＯ薄膜也都具有［１００］取向。     

高饱和磁化强度FeCoN薄膜的制备

制备条件对ＦｅＣｏＮ薄膜的结构与磁性有重要的影响。选择合适的基片温度和退火方式,可以用溅射方法制备出具有高饱和磁化强度的ＦｅＣｏＮ薄膜。     

NdFe7—xMox薄膜的制备和磁性研究

利用对向靶溅射，同时对基片进行退火进行处理的方法，在玻璃基片上成功地制备出了ＮｄＦｅ７－ｘＭｏｘ（ｘ＝０，０．５）薄膜，并对其进行了磁性研究，ＶＳＭ测量结果表明，，Ｍｏ掺入导致了材料矫顽力ＨＣ的增大，却相应降低了饱和磁化强度Ｍｓ。随着退火温度Ｔ 提高，Ｈ随之增大，当Ｔ－５７３Ｋ时，出现一极大值为３７．８ｌＡ／ｍ，此时的热磁测量表明，样品具有最高居里温度，ＴＣ＝７７５Ｋ。     

氮对纳米硅氮薄膜晶化的影响

在电容式耦合等离子体化学气相沉积系统中，用高氢稀释硅烷和氮气为反应气氛制备纳米硅氮（ｎｃ－ＳｉＮｘ２Ｈ）薄膜，结果表明，当Ｎ２／ＳｉＨ４气体流量比（Ｘｎ）从Ｉ增加为４时，薄膜的晶态率从５８％降至１４％，晶粒尺寸从１０ｎｍ降至５ｎｍ，Ｎ／Ｓｉ含量比从０．０３增至０．１２，当Ｘｎ≥５，则生成非晶硅氮（ａ－ＳｉｕＮｘ２Ｈ）薄膜，当Ｘｎ从１增加为１０时，薄膜暗电导率从１０＾－５（Ωｃｍ）＾－１降至１０＾－     

Ti－Al—N系功能梯度薄膜的相结构

实验证明Ｔｉ—Ａｌ－Ｎ系功能梯度薄膜在厚度方向上有金属Ａｌ，（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ和（Ｔｉ＿２Ａｌ）Ｎ（１１０）三种相结构，在（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ相中又有（１１１）和（２００）两种择优取向．随着氮分压ＰＮ的不断增加，薄膜中金属相含量急剧下降，陶瓷相含量则急剧增加，当ＰＮ＞１．５Ｐａ后两种相含量的变化均趋平缓．