清洗技术的新亮点——紫外（UV）光清洗

随着光电子产业的迅猛发展．清洗工艺在光电产品中是必不可少的工艺，清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要如何保证产品的高可靠性和高成品率?如何保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么．对使用者来说：选择高洁净度．且又具有安全、环保性能的清     

ATMI与安集微电子推出替代型低成本铝清洗解决方案

IDEAL Clean^TM高性能清洗解决方案锁定中国市场. ATMI，Inc．与安集微电子（上海）有限公司（以下简称“安集微电子”）今天宣布向市场推出IDEAL Clean^TM高性能清洗解决方案。IDEAL Clean^TM是一种优越的蚀刻后灰烬铝清洗化学物质，它具有与以羟胺为基础的化学产品相当或更优的性能，但是拥有它的成本却得以大幅降低。     

高可靠产品清洗工艺及设备综述

以免清洗工艺和一个产品失效案例为开端，介绍了国内外相关标准对高可靠产品清洗的要求。主要讨论清洗工艺及设备，阐述了助焊剂的成分及反应机理、清洗原理与溶剂、清洗设备和工艺参数，最后探讨了清洗设备的趋势。     

第8步：清洗

影响SMT清洗过程的因素集中表现为：清洗产品针对特定杂质的清洗性能；空气、水和固体废物等环保要求；健康与安全因素；降低焊剂残余量以满足最终用户提高可靠性的考虑。拥有成本的因素；以及向无铅合金的转换等。工程清洗剂的设计必须充分考虑以上所有因素。     

卫生间设施清洗剂及其应用

本文主要是针对卫生间设施的清洗，从清洗剂产品配方技术到相关的清洗应用技术作了较为全面的介绍。其中清洗剂产品主要是对洁厕精进行介绍。清洗应用技术主要是针对便池盆和下水道的应用场合进行介绍。     

Kyzen将全新发布下一代水基清洗产品

为电子和高科技制造业提供环保精密清洗产品的领导厂商Kyzen公司日前宣布，将在NEPCONChina2012展会IB01号展台推出最新的水基清洗产品——EXaklean E5321。     

FSI：为中国客户提供更好的服务

FSI lnternational是一家为全球客户提供晶圆清洗设备、光敏胶处理设备及技术的供货商，它为现有的及即将出现的微电子制造的难题提供经济有效的技术方案。该公司的产品包括用于清洗晶圆的浸入式清洗系统、喷雾式清洗设备、气态清洗系统和CryoKinetic清洗系统，以及用于晶圆涂胶和显影的光敏胶处理系统。FSI宣布，从3月1日起，它已经在中国、整个亚太区及欧洲直接开展销售业务，提供服务、应用支持及后勤业务，以使公司的技术发展和提供的产品能够更好地满足客户的需要。由于FSI已经有了直接提供服务的渠道，因而在中国可以更好地响应…     

电子工业中的免清洗技术

在电子工业替代ＣＦＣ清洗的技术有：．溶剂清洗；利用非ＣＦＣ溶剂清洗．水清洗：利用去离子水或水中加皂化剂清洗．半水清洗：利用溶剂和水共同清洗．免清洗：利用免洗助焊剂，焊后不清洗免清洗具有节约费用，节约清洗设备，无污染等优点，引起普遍重视。免清洗工艺的核心是选择好的免洗助焊剂和合适的涂布方式，一种好的助焊剂应具有下面的性能：．焊后无残留物．焊后无残留物．焊后板面干燥．不腐蚀；．具有在线测试能力．不形成     

Kyzen公司AQUANOX A4625水基清洗剂荣获2008年EMAsia创新奖

为电子和高科技制造业提供环保型精密清洗产品的世界领导厂商，Kyzen公司日前宣布，其AQUANOX A4625水基清洗剂获得清洗材料类EMAsia创新奖。     

激光清洗技术应用初探

在制造业，特别是在航空制造业中，各种产品零件在装配前需要进行认真仔细的去脂除污处理，传统的清洗方法有很多种。随着环境保护、高精度以及高效率的矛盾日显突出，各种有利于环境保护、适合于超精加工领域零件的清洗技术应运而生，激光清洗技术就是其中之一。介绍了激光清洗技术的原理和方法，研究了利用脉冲Nd:YAG激光清洗被污零件的情况，对研究结果进行了讨论。并对激光清洗技术的应用前景进行了展望。     

通过添加表面活性剂和螯合剂改进硅片化学清洗工艺的研究

通过在传统RCA清洗法所用的SC-1液中,添加表面活性剂四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA),实验比较了不同清洗方法对颗粒粘污、金属粘污的去除效率;并测试了其对硅片表面粗糙度的影响。用MOS电容结构的击穿电场强度Weibull分布,评价了不同清洗方法所得氧化层的质量。结果表明,上述改进能够显著提高对颗粒粘污和金属粘污的去除效果,同时能省去RCA的SC-2清洗步骤,具有节省工时、化学试剂消耗量小的优势。     

太阳能电池单晶制绒与酸洗连体设备研究

太阳能电池单晶制绒与酸洗连体设备主要为了单晶制绒后再进行酸洗而设计的关键设备,可提供多种清洗工艺的选择。通过对单晶制绒后再进行酸洗的关键部件的设计,解决了由于制绒后再酸洗溶液挥发性对设备的腐蚀问题,在太阳能光伏领域中得到了广泛的应用,取得了极大的社会经济效益。     

多结化合物电池用p型Ge抛光片清洗技术研究

对多结化合物太阳电池用的p型Ge抛光片的清洗技术做了研究.Ge抛光片的清洗可以采用酸性清洗液和碱性清洗液相结合的方式.酸性清洗液的主要作用是去除晶片表面的有机物;碱性清洗液的主要作用是去除晶片表面的颗粒.清洗液的温度和组分影响着抛光片的清洗效果.通过实验结果确定了p型Ge抛光片的清洗方案,采用这一清洗方案清洗的Ge抛光片,表面质量可以达到"开盒即用"的水平.运用晶片清洗机理分析了各种清洗液的功能和作用.     

Comparison of novel cleaning solutions with various chelatingagents for post-CMP cleaning on poly-Si film

In this study, various cleaning solutions containing chelating agents with carboxyl acid group (-COOH), such as ethylenediaminetetraacetic acid, citric acid and oxalic acid, were developed for post-poly-Si CMP cleaning. The chelating agent and tetramethylammonium hydroxide (TMAH) were simultaneously added into 2% ammonium hydroxide alkaline solution to promote the removal efficiency on particles and metallic impurities. The effectiveness of various cleaning recipes and their interaction mechanism with the poly-Si surface were studied. We could explain the surface behavior of various cleaning solutions by the different molecular size and charge of chelating agents. Based on the mechanism, the behavior of surface particle and metallic impurity can be realized. The co-existence of TMAH with citric acid or oxalic acid in the alkaline cleaning solutions can significantly enhance the electrical properties of capacitors     

在线式多晶制绒清洗设备数据质量控制

讨论了在线式多晶制绒清洗设备系统数据质量控制的软件设计与实现方法，通过建立一种动态存取的数据映射．实现了对数据的采集、数据整合和数据清洗，建立一个可重复的数据收集、修改和维护的流程。实践证明，该数据质量控制的方法有效地提高了软件控制系统的效能。     

络合清洗技术在中央空调循环水系统清洗中的应用

通过对中央空调络合清洗与常规酸洗对比，认为络合清洗大大优于常规酸洗，络合清洗对设备几乎没有腐蚀，除垢率高，清洗后机组传热效率高，运行成本降低，设备使用寿命增加，清洗过程符合环保要求．     

锅炉盐酸清洗工艺探讨

本文介绍了锅炉酸洗的安全要求、清洗回路的设置、清洗前的准备工作、清洗流程及药剂配制、清洗过程监督检测控制、废液排放处理、安全措施、清洗质量验收等清洗工艺措施，保证了清洗质量。     

后处理对铝电解电容器阳极箔比容的影响

采用硫酸-盐酸体系环保型铝电解电容器用阳极箔腐蚀工艺,硝酸溶液作后处理液,结合SEM分析,探讨了硝酸后处理在阳极箔表面的清洗机理,研究了直流电侵蚀后,硝酸后处理对阳极箔比容的影响。结果表明:在硝酸溶液温度为65℃、清洗时间为250 s的条件下,阳极箔比容随着硝酸质量浓度的增加而增加,当硝酸质量浓度增至35 g/L时,阳极箔比容达到最大值0.70×10–6 F/cm2。硝酸质量浓度继续增加,阳极箔比容逐渐减小。最佳后处理参数为:硝酸质量浓度为35 g/L,处理温度为65℃,清洗时间为250 s。     

住宅楼取暖系统的化学清洗

本文针对取暖系统复杂的特点，通过对取暖系统管壁垢样的分析，确定采用柠檬酸、草酸和盐酸复配技术，并介绍了清洗系统设计和实际清洗过程。     

锅炉化学清洗技术的发展(三)--综述及相关问题分析

本文扼要阐述了作者48年来从事锅炉化学清洗研究与实践的业绩与心得。文章首先介绍了煮炉与酸洗的工艺和发展延伸,之后分析了锅炉失效的原因及化学清洗对防止腐蚀所起的重要作用,最后探讨了化学清洗的工艺、介质和时机等要素。