溶胶-凝胶法制备晶粒择优取向铁电薄膜的研究

本文综述了用溶胶－凝胶法制备择优取向铁电薄膜的工艺方法、特点和机理的最新研究进展；详细分析溶胶－凝胶法制备择优取向铁电薄膜的影响因素，探讨了晶粒择优取向生长的机理。     

溶胶-凝胶法制备纳米二氧化硅溶胶和多孔二氧化硅薄膜

稀Na2SiO3溶液经过阳离子交换树脂除去Na^ 离子后，经碱化浓缩制成质量分数约为25％－30％的二氧化硅溶胶，添加化学添加剂丙三醇后加入乙酸乙酯，搅拌水解使溶解的pH值适当降低，聚乙烯醇能使二氧化硅溶胶具有网状结构，易于成膜。薄膜在750－850℃下热处理后孔径分布在100－300nm之间。二氧化硅薄膜在热处理过程中的微结构衍化过程可通过调节二氧化硅溶胶的pH值，添加化学添加剂和热处理温度加以控制。讨论了纳米二氧化硅胶粒溶胶的形成和形成的二氧化硅溶胶先体的成膜化学机理，并对制备的多孔二氧化硅薄膜的微结构，形貌变化和相关的物理性能进行了表征。     

溶胶-凝胶法制备薄膜

综述了溶胶-凝胶法制备薄膜材料的一般原理及工艺步骤。并对其应用做了一定的展望。     

溶胶—凝胶陶瓷薄膜制备工艺技术的研究

本文从溶胶制备和薄膜涂覆工艺两方面对溶胶－凝胶法制备陶瓷薄膜中的工艺技术进行了研究,并指出了溶胶－凝胶技术中存在的一些问题。     

溶胶-凝胶法制备β-BBO粉体和薄膜

用溶胶-凝胶法制出β-BaB2O4粉体,采用浸渍提拉法在Pt基片上制备出β-BaB2O4薄膜.用调Q脉冲Nd:YAG激光器在1.064 μm波长下观察到薄膜的二次谐波效应.     

溶胶-凝胶法制备锐钛矿型TiO2薄膜

本文以钛酸异丙酯为原料,采用溶胶凝胶法制备TiO2薄膜,通过DTA－TG、XRD、SEM探讨了材料的制备过程,相组成及显微结构,结果表明薄膜表面无微开裂现象,膜内部比表面积大,TiO2颗粒分布均匀,用溶胶－凝胶法可制得相组成为锐钛矿的均匀的TiO2薄膜。     

溶胶-凝胶法制备γ-氧化铝膜的微观结构

用溶胶－凝胶法制备了γ－氧化铝膜,发现γ－氧化铝膜呈（１１０）择优取向,前体勃母石凝胶膜的择优取向越明显、焙烧温度越高,形成的γ－氧化铝膜的择优取向现象越明显,７００℃是合适的熔烧温度,焙烧时间以１．５￣３ｈ为宜,择优取向现象的存在对γ－氧化铝膜有利（１１０）择优取向现象越明显,膜孔结构越均匀,孔径分布越窄,７００℃焙烧形成的γ－氧化铝膜比表面积为２０２ｍ＾２／ｇ,孔径范围１￣５ｎｍ,占孔体积９０     

溶胶-凝胶法制备的Al2O3-ZrO2陶瓷薄膜早期干燥过程的研究

采用无机盐先驱体，溶胶－凝胶法制备了Al2O3-ZrO2双组分溶胶，对溶胶膜的早期干燥过程进行了研究，利用扫描电子显微镜观察了不同干燥制度下薄膜的典型形貌，结果表明：Al2O3-ZrO2陶瓷薄膜的早期干燥过程存在着两个恒速干燥期，第1恒速干燥期的干燥速度明显高于第2恒速干燥期，在早期干燥过程中温度的作用非常明显，随着温度的升高，薄膜质量损失率急剧增加，分级干燥制度可以获得光滑平整，无裂纹搞质量薄膜。     

溶胶-凝胶法制备Sm2O3光学薄膜

以氯化钐为起始原料,采用溶胶-凝胶法在玻璃和Si(100)基板上制备了Sm2O3光学薄膜,在300～800℃对薄膜进行1～3 h热处理.采用X射线衍射、原子力显微镜和紫外-可见自记式分光光度计等对薄膜的结晶取向、显微结构和光学性能进行了表征.结果表明:Sm2O3薄膜在玻璃基板和Si(100)基板上均表现出沿(311)晶面定向生长的特征;Si基板更有利于生长致密而且结晶良好的薄膜;所制备的薄膜对紫外线有强烈吸收作用,而对可见光有较好的透过作用,随着热处理温度的升高,薄膜结晶性变好,取向性增强,光吸收性能增强,薄膜的禁带宽度减小.     

陶瓷薄膜的Sol—Gel法制备

本文从凝胶制备途径,即无机途径和有机途径角度,阐述了各途径溶胶－凝胶化过程的特点以及凝胶膜向陶瓷薄膜转化的过程。     

溶胶-凝胶法制备PZT薄膜晶化过程的跟踪监测

用溶胶－凝胶技术制备了组成在准同型相界点［ｍ（Ｚｒ）／ｍ（Ｔｉ）＝５２／４８］附近的钙钛矿相ＰＺＴ薄膜,并运用原子力显微分析与椭偏法测试相结合的方法跟踪了薄膜的烧结过程．结果表明：钙钛矿相ＰＺＴ［ｍ（Ｚｒ）／ｍ（Ｔｉ）＝５２／４８］薄膜晶化发生于约５５０℃,并伴随着薄膜表面的粗糙化;镀铂硅基片表面粗糙度对ＰＺＴ薄膜的晶化有很大影响．根据ＡＦＭ,ＸＲＤ测试结果,分析了不同热处理条件对ＰＺＴ薄膜微结构及漏电流特性的影响,提出合适的热处理条件．分析了ＰＺＴ薄膜钙钛矿相形成温度高于相应粉体的原因     

STRUCTURAL AND OPTICAL PROPERTIES OF ZNO THIN FILMS PREPARED BY DIFFERENT SOL-GEL PROCESSES

ZnO thin films were prepared on quartz glass substrates by different sol-gel methods using a spin-coating technique. The structural and optical properties of ZnO thin films were studied by X-ray diffraction (XRD) and transmission spectra analysis. The results show that different factors such as Zn²⁺ concentration, solvent, sol stabilizer, pre-heat treatment temperature, and annealing temperature have a great impact on the structural and optical properties of ZnO thin films.     

Ba0.64Sr0.36TiO3薄膜的介电与热释电性能的研究

应用溶胶-凝胶工艺在Pt/SiO2/Si(100)衬底上制备了Ba0.64Sr0.36TiO3薄膜,研究了薄膜的结构与电学性能.实验结果表明Ba0.64*Sr0.36TiO 3薄膜经700 ℃热处理1h,薄膜呈现出钙钛矿结构.当测试频率为200 Hz 时, 薄膜的介电常数和损耗因子分别为592和0.028.在40 ℃时,Ba0.64Sr0.36TiO 3薄膜存在一扩散铁电-顺电相变.在室温(25 ℃)、100 kHz条件下测试薄膜的C-V 特性得到一"蝶形"曲线,表明Ba0.64Sr0.36TiO3薄膜在室温下处于铁电相, 且当直流偏压从-5 V增至+5 V期间, 薄膜电容由495 pF增至1 108pF.热释电性能测试结果表明室温下Ba0.64Sr0.36TiO3薄膜的热释电系数为1 860μC/(m2*K), 材料的优值为37.4 μC/(m3*K), 这些结果表明应用溶胶-凝胶工艺制备的Ba0.64Sr0.36TiO3薄膜完全能满足红外探测器和热成像应用的需要.     

溶胶-凝胶法制备TiO2-SiO2复合薄膜的波导特性研究

研究了采用溶胶－凝胶法制备的ＴｉＯ２－ＳｉＯ２复合薄膜的波导特性。结果表明随着ＴｉＯ２含量和热处理温度的提高,薄膜的波导损耗增大。ＦＴ－ＩＲ光谱,ＸＲＤ和ＡＦＭ分析表明：这种损耗主要来自于薄膜中的微区不均匀和由于薄膜表面的粗糙度增大而产生的光散射的影响。通过航向光谱计算得到了薄膜的折射率和消光系数和色散关系以及它们与工艺之间的关系。     

KTa0.55Nb0.45O3薄膜的介电和铁电及热释电性能研究

在ＢＴ／Ｐｔ／Ｔｉ／ＳｉＯ２／Ｓｉ衬底上用溶胶－凝胶法制备了ＫＴａ０．５５Ｎｂ０．４５Ｏ３（ＫＴＮ）薄膜,０．５μｍＫＴＮ－０．０８μｍＢＴ薄膜在２５℃,１．０ｋＨｚ时,其εｒ＝１１１４,ｔａｎδ＝２．５％;１２℃时,其中Ｐｒ＝２．１μＣ／ｃｍ＾２,Ｐｓ＝４．２μｃ／ｃｍ＾２,Ｅｃ＝５．８ｋＶ／ｃｍ,０．５μｍ厚ＫＴＮ膜的Ｃｕｒｉｅ温度为３５℃;１．０ＫＨｚ时,ＫＴＮ膜的εｒ＝１４１２,估算ＫＴＮ     

溶胶－凝胶法制备掺杂二氧化钛薄膜及其光电性能研究

溶胶－凝胶法制备掺杂二氧化钛薄膜及其光电性能研究徐灵戈，黎甜楷（中国科学院感光化学研究所，北京１００１０１）王淑琴，徐维并（中国科学院生态环境研究中心，北京１０００８５）关键词溶胶－凝胶法，掺杂二氧化钛薄膜，光电性能，红外光谱运用溶胶－凝胶法制备玻璃...     

非水解溶胶-凝胶法制备TiO2光催化薄膜

以TiCl4为前驱体,无水乙醇为氧供体,聚乙二醇(polyethylene glycol,PEG)为成膜控制剂,通过非水解溶胶-凝胶法制备了TiO2光催化薄膜.应用X射线衍射和热重-差式扫描量热研究了TiO2凝胶在热处理过程中的物相变化.采用场发射扫描电镜和光照甲基橙的降解实验研究了TiCl4浓度和镀膜次数对TiO2薄膜显微结构和光催化活性的影响.结果表明:非水解溶胶-凝胶法制备的TiO2薄膜开始出现金红石相的温度为750 ℃,高于传统水解溶胶-凝胶法制备的薄膜.TiCl4浓度和PEG用量是影响薄膜结构和光催化性能的关键因素.当TiCl4浓度为0.83 mol/L,PEG与TiCl4摩尔比为0.1时,所制备的薄膜是一种晶粒细小且孔隙及孔径分布均匀的多孔膜,这有利于提高薄膜的比表面积,薄膜具有最佳的光催化性能.