生产过程控制及其系统

0010547彩色 PDP 障壁粉清除速率公式与喷砂工艺控制研究〔刊〕/刘忠安//真空电子技术.—2000,(1).—28～30,55(C)本文讨论了彩色 PDP 喷砂工艺中障壁粉清除速率与喷砂工艺控制参数之间的关系,提出了用障壁粉清除速率公式来控制喷砂工艺的方法,这对提高喷砂工艺的可控性及障壁制作的一致性具有实用性价值。     

喷砂常数及其在彩色PDP喷砂工艺控制中的应用

提出了彩色PDP喷砂工艺中喷砂常数的概念。研究了喷砂常数K和障壁材料的耐喷性及主要工艺参数的关系。并介绍了它在喷砂工艺中的实际应用价值。     

彩色PDP障壁制作专用喷砂设备研究

简要介绍了障壁制作在彩色PDP中的重要性，障壁制作的几种方法及喷砂法制作障壁的优点。重点介绍了障壁制作设备－－喷砂机的研制及用该喷砂机制作障壁的优点。     

交流等离子体显示屏障壁技术的进展

障壁是交流等离子显示屏关键结构部分，障壁结构和制作的优劣，直接影响交流等离子显示屏光电性能。本文就交流等离子显示屏障壁制造技术，如丝网漏印法、喷砂法、感光浆料法、光刻胶埋入法等进行了介绍。     

彩色PDP喷砂工艺喷头速率控制公式和均匀性控制研究

研究和引入了彩色PDP的喷砂工艺均匀性控制方法和喷头速率控制公式.均匀性控制研究表明增加喷砂次数,同时减小步进距离,或采用喷头阵列是提高喷砂工艺均匀性的有效措施.喷头速率控制公式给出了单次喷砂和多遍喷砂及喷头阵列和单喷头的喷头移动速率之间的关系.采用多个喷头的阵列适合工业化大生产.而长条形喷头更有利于提高喷砂工艺的均匀性.     

超声波清洗技术在等离子体显示器件基板上的应用

通过对超声波清洗技术的理论分析以及实际工艺操作结果分析，与以往传统的清洗方式做一比较，说明了在清除微细污染物方面，超声波清洗技术在等离子体显示器件障壁基板清洗方面的优越性。     

高分辨率PDP技术

日本东列公司开发了PDP薄型障壁制造技术，此技术是在障壁玻璃材料中掺入感光剂，曝光后在碱性溶液中溶解未曝光的部分，留下曝光的部分。其障壁厚度只有原来的一半，而像素数增加为原来的2～5倍，可实现高分辨率PDP-TV。此技术制造障壁工艺比喷沙障壁工艺简单，仅需4道工序就可完成，设备也简单，具有重大应用前景。     

高密度互连积层多层板工艺

3．2．4 射流喷砂法制造积层多层板工艺 射流喷砂加工技术，在电镀、喷漆的行业中，早已得到广泛的应用，它能最有效地将工件表面生成的氧化层、锈斑、熔渣等污物除去，并使工件表面组织形成了适宜的粗糙度，从而有利于涂（镀）覆层与工件表面的结合力。而在积层多层板的制造中，利用射流喷砂加工微孔技术，是近几年发展起来的新工艺。[第一段]     

基于响应面的FeCoCrNi高熵合金激光定向能沉积工艺参数优化

激光定向能沉积为高熵合金提供一种柔性、快速、敏捷的制备方式，合理的单道工艺参数是保障成形顺利进行的关键。为研究FeCoCrNi高熵合金在激光定向能沉积过程中工艺参数对沉积形貌的影响，基于响应面法，研究了激光功率、送粉速率和扫描速率对稀释率和宽高比的影响规律，建立稀释率和宽高比的预测模型。结果表明，稀释率、宽高比与送粉速率呈负相关关系，与激光功率、扫描速率呈正相关关系。经试验验证，稀释率和宽高比的预测误差分别为2.29%和4.45%,所建立的模型与试验结果吻合较好。     

PDP制造中障壁的研究

PDP制造中障壁的制作非常关键，障壁的高低、宽窄及形状等影响着PDP的主要发光特性，本文简要介绍了障壁作用、设计原则及制造方法。     

短脉冲激光微孔制备的双脉冲方法研究

为了提高纳秒短脉冲激光微孔制备的加工效率,采用了一种新颖的双脉冲方法。通过时域脉冲塑形将调Q激光器产生的普通纳秒脉冲变换为具有几十纳秒脉冲时间间隔的双脉冲序列。使用这种双脉冲序列对不锈钢试件进行打孔实验,与传统单脉冲打孔结果对比发现,在一定条件下双脉冲序列能将打孔烧蚀率提高一个数量级以上。实验中研究了脉冲能量、重复频率以及环境气体压力对双脉冲序列烧蚀率的影响,并将脉冲烧蚀率提高的原因归结为材料预加热、材料溶液的加速以及瞬时准真空环境,对各种机制分别进行了讨论。结果表明,采用双脉冲方法替代普通单脉冲进行金属打孔,可以在相同能量密度,相同脉冲重复频率的情况下大幅度提高脉冲烧蚀率,为高效激光微孔制备提供了新方法。     

准分子激光对高分子薄膜的刻蚀

对PET材料在紫外激光作用下被刻蚀的过程进行了研究,并对其中的机理及影响刻蚀的因素做了讨论。     

微型扬声器膜片之加强筋设计

分析了膜片加强筋的筋脉、剖面形状、面形状、角度等对扬声器低频参数的影响,得出了加强筋与膜片等效顺性以及有效振动面积之间的关系。从而为膜片的设计及改善指明了明确的方向。     

有双包层结构的楔变脊型光斑转换器的设计

为了提高硅基上单模波导器件与单模光纤的耦合效率和工艺容差,设计了一种实用新型光斑转换器,它由水平和垂直双向楔变的波导芯区和双内包层构成.分析了内包层折射率与其厚度对耦合效率的影响,发现通过优化内包层的参数可以加强对扩展光场的限制.针对在硅基上制作垂直楔变结构的波导还很困难的情况,提出了一种低成本、简单可行的制作方法.     

有双包层结构的楔变脊型光斑转换器的设计

为了提高硅基上单模波导器件与单模光纤的耦合效率和工艺容差,设计了一种实用新型光斑转换器,它由水平和垂直双向楔变的波导芯区和双内包层构成.分析了内包层折射率与其厚度对耦合效率的影响,发现通过优化内包层的参数可以加强对扩展光场的限制.针对在硅基上制作垂直楔变结构的波导还很困难的情况,提出了一种低成本、简单可行的制作方法     

Fabrication of sapphire rib waveguides using a femtosecond laser

We demonstrate a method for fabricating sapphire rib waveguides with femtosecond laser micromachining technology. Finite difference beam propagation method (FD-BPM) is applied to design sapphire rib waveguides. We explore the process of etching on a sapphire substrate surface via direct laser ablation. Rib waveguides that satisfies the dimensions of our design were fabricated. Actual light propagation performance is tested, and with the cut-back method, the insertion loss of 2.9±0.5 dB/cm is measured.     

PMMA脊形光波导的设计与场分析

利用有效折射率法（EIM）理论设计了有机聚合物脊形光波导结构,并分析光波导中传输的模式场,确定出光波导结构的适宜尺寸范围。光波导结构中分别选用PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）与PDMS（聚二甲基硅氧烷）作为波导层与包层的材料,用光漂白法来实现脊形波导结构。首先利用EIM法分析脊形波导区的宽度与高度之间的关系对归一化色散曲线的影响,以及波导层与包层的折射率匹配的影响,然后又通过分析波导区传输的基模场来讨论传输的损耗问题。研究发现波导结构的脊宽与脊高之比w／d越大,其有效折射率neff越大,而此结构尺寸又需约束在一定范围内,否则将造成很大的传输损耗。