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采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜。通过选取不同的溅射材料,在不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较,并对其作为光波导的性能进行研究,通过理论上推导与计算,得出了在1,55um窗口下制备光波导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件。 相似文献
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光波导用玻璃薄膜的制备及其性能研究 总被引:6,自引:0,他引:6
采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。本文重点分析了不同溅射条件如氧分压、基片种类、基片温度下制备的薄膜光学性能,通过比较,得到制备0.6328μm和1.55μm窗口下光波导器件用玻璃薄膜所需溅射条件。 相似文献
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采用磁控射频溅射法制备光波导用玻璃薄膜。本文重点分析了不同溅射条件如氧分压、基片种类、基片温度下制备的薄膜光学性能,通过比较,得到制备0.6328μm和1.55μm窗口下光波导器件用玻璃薄膜所需溅射条件。 相似文献
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陶永祥 《激光与光电子学进展》1985,22(4):48
铁电溅射膜可能在集成光学领域内得到应用,尽管大多数波导作用元件以单晶结构为基础。众所周知,多晶体或陶瓷材料有明显的电-光效应。溅射薄膜很容易制备,并可淀积在便宜的玻璃或石英基板上。遗憾的是由于晶体边界的散射,溅射薄膜的多晶性质会产生损耗。现在正在寻找减少这种损耗的制备条件。 相似文献
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用高淀积速率R.F.平面磁控溅射已制备出具有极好结晶取向和表面平整度的ZnO压电薄膜.通过X-射线衍射,扫描电子显微镜,反射式电子衍射,光测量和机电测量对这些薄膜进行了详细的研究.薄膜c-轴垂直于基片.c-轴取向的标准偏离角σ小于0.5°,σ的最小值为0.35°,溅射条件为气压5×10~(-3)毛-3×10~(-2)毛(予先混合好的Ar50% O_250%),基片温度300—350℃.厚度达48微米的ZnO薄膜已重复制得,膜的质量和平整度没有下降.这些薄膜表面的平整度类似于玻璃基片.对He-Ne6328埃线TE_0模来说,4.2微米厚薄膜的光波导损耗低至2.0分贝/厘米,溅射后不需要处理.在叉指换能器(IDT)/ZnO/玻璃和ZnO/IDT/玻璃结构两种情况下,有效表面波耦合系数大于ZnO/玻璃结构理论值的95%. 相似文献
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引言四季轮回,大自然总是不偏不倚地遵循着这一守则,使人类感受着异样的景观和不断的期待。《信息安全与通信保密》杂志社感受自然恩泽的同时,也期盼着能为信息安全产业界带来四季如春的新意与生机。 二零零一年始办的“中国信息安全发展趋势与战略”高层研讨会已经走过了4个年头,承蒙主管领导、专家学者及广大安全企业和行业用户之关照与呵护,4年后的今天依然能够站在产业的前沿,架设各方之间的桥梁,领略产业风景。此心情不敢独有,现就产业发展之线,连贯研讨会4年的历程,与各方人士共飨。 相似文献
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《Components and Packaging Technologies, IEEE Transactions on》2008,31(3):586-591
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介绍了澳大利亚插头产品的法规要求及插头的型式、尺寸、参数和测试要点,分析了插头的电流额定值和配线之间的关系,强调了插销绝缘套的要求。对重要的试验项目,如弯曲试验、插销绝缘套的耐磨试验、温升试验、高温压力试验进行了说明。 相似文献
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