CVD金刚石薄膜技术发展现状及展望(上)

简要描述了CVD金刚石薄膜技术的发展历程.介绍了纳米特别是超纳米金刚石膜、CVD金刚石大单晶的技术特点及其应用.超纳米金刚石膜在MEMS(微机电系统)、电化学和生物医学上的应用和CVD金刚石大单晶是当前的研究热点.简言之,金刚石的发展向着更大或者更小的方向深入进行,即“非大即小”.     

影响CVD金刚石膜完整性的几个关键问题

直流喷射化学气相沉积金刚石膜,其完整性一直是个难以解决的技术难题,并且直接影响了其推广应用.文章通过研究金刚石膜的质量、衬底与膜的结合力、以及衬底的膨胀系数等,分析了影响金刚石膜完整性的几个关键因素.     

金刚石与人类社会(下)

详细介绍了天然金刚石的发现、特性、鉴别方法和应用范围,论述了金刚石粉体、单晶金刚石、金刚石膜和聚晶金刚石的人工合成方法和应用情况.     

金刚石与人类社会(上)

详细介绍了天然金刚石的发现、特性、鉴别方法和应用范围,论述了金刚石粉体、单晶金刚石、金刚石膜和聚晶金刚石的人工合成方法和应用情况.     

金刚石膜电极电化学处理污染物的研究

采用人工合成的金刚石膜电极进行电化学氧化降解处理污染物的探索工作。已成为环境电化学领域中最为关注的国际性研究热点之一。从电催化氧化降解技术处理污染物的研究现状及其存在的问题出发．分析了适用于污染物降解处理的高效电极材料应具有的表面特性及其电化学性质。在综述了金刚石膜电化学研究以及应用于污染物处理的工作基础上,结合近期相关的研究结果,论述了金刚石膜电极的电化学特性以及对污染物氧化降解的应用和降解机理。金刚石膜电极将是未来环保处理中非常适用、高效、稳定的电极材料。     

CVD金刚石切削工具

阐述金刚石切削工具在机加工中的重要作用和CVD金刚石的优异性能以及CVD金刚石切削工具的形式.对CVD金刚石薄膜切削工具和CVD金刚石厚膜切削工具的特点和应用范围进行了分析对比,并指出存在问题和发展前景.     

单晶金刚石膜与多晶金刚石膜的制备工艺及性能

本文主要介绍了用微波等离子体化学气相沉积法(以下简称MP CVD法)以甲醇-氢气混合气和丙酮-氢气混合气为源气体,分别以单晶硅的(111)面和人造金刚石的(100)面为衬底材料,制备出了面积为20mm×20mm厚为10μm的多晶金刚石膜和面积为1.0mm×1.0mm厚为5μm的单晶金刚石膜。通过试验发现,源气体配比和衬底温度对薄膜质量起决定性作用。另外,衬底在反应腔中的位置对薄膜的生成也有很大影响。单晶金刚石膜制备过程中衬底金刚石的晶体取向与金刚石薄膜的生长及质量有密切的关系。在金刚石的(100),(110)和(111)面上分别获得了单晶金刚石膜和金刚石多晶粒子。选用扫描电镜、显微激光拉曼、反射电子衍射对多晶金刚石膜及单晶金刚石膜的性能进行了测试。     

类金刚石膜的性能、制备及其应用

类金刚石膜是无定形碳中含sp3键的亚稳态结构.由于它的组成、光学透过率、硬度、折射率和在化学腐蚀剂中的惰性以及抗摩擦性能十分相似于金刚石,其应用领域不断被拓宽,因此对类金刚石的研究也日益成为热点.本文介绍了类金刚石的性能、制备类金刚石膜的物理气相沉积和化学气相沉积方法,概括了类金刚石膜在机械、电磁学、光学、医学以及其它领域的应用,最后指出了类金刚石膜的研究现状及其发展趋势.     

液相沉积类金刚石膜的沉积机理研究

根据电化学的相关理论,提出了钛合金表面液相沉积DLC膜的反应机理,给出了可能电极过程,认为膜是通过甲基阳离子的亲电取代反应而不断生长。讨论了氢原子对金刚石结构的稳定作用,并解释了实验条件对膜结构和性能的影响。     

聚酰亚胺与金刚石复合研磨膜的研制

根据软基体研磨膜的使用特点和聚酰亚胺的特性，研究聚酰亚胺与金刚石制作复合研磨的可能性。经试验确认，所制作的复合研磨膜符合使用要求，聚酰亚胺可以与金刚石磨料通过机械混合制作性能优良的复合研磨膜。这种复合膜的研制成功开拓了聚酰亚胺的又一应用领域。