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简单介绍了二氯二氢硅的生产方法,以1 000 t多晶硅生产系统为例,计算出还原工序、四氯化硅氢化工序、三氯氢硅合成工序以及整个系统二氯二氢硅的生成量,对多晶硅系统副产二氯二氢硅的利用进行了讨论。 相似文献
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对锌还原法过程中影响硅产率的因素进行研究.分析了当反应达到平衡,在0.1、0.3和0.6 MPa以及进料配比xZn/xSiCl4为2、4和8时,气相平衡组分分布与温度的关系.讨论了硅产率随温度、压强及xZn/xSiCl4的变化情况.结果表明,低温、一定压力和高xZn/xSiCl4对锌还原过程有利.确定了影响硅产率的主要副反应.最后得到锌还原法的最佳操作条件为温度控制在1 200 K左右、0.2 MPa及进料配比xZn/xSiCl4=4,在此条件下硅的理论产率可为90.3%. 相似文献
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二氯二氨锌的制备及性质 总被引:1,自引:0,他引:1
以次氧化锌为原料,经氨浸、除铁、深度除杂、结晶等工序制备二氯二氨锌(Zn(NH3)2Cl2)。结果表明,在NH4Cl浓度4 mol/L、NH4Cl与Zn的摩尔比4∶1、浸出温度70℃、浸出时间60 min的条件下,Zn浸出率高达99%以上。采用质量分数为27.5%的双氧水氧化除铁和锌粉置换可基本彻底除杂。对二氯二氨锌进行了主含量、XRD、SEM、TG-DSC分析验证,结果表明二氯二氨锌的纯度较高,晶形完整。 相似文献
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用光学显微镜(OM)及Image Pro Plus金相分析软件对半固态二次加热处理后的过共晶铝硅合金的初生硅组织特征进行分析。结果表明,在过共晶铝硅合金中,通过磷盐变质处理可以让初生硅相细化,平均直径由117μm降至31μm,并通过半固态二次加热使初生硅的形态得到显著的改善,其形状因子为0.67。 相似文献
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孔令兵郭培民赵沛王磊 《粉末冶金工业》2020,(2):21-25
在钢带试验装置上开展了低温碳还原及氢二次还原试验试制超细金属铁粉。研究了3种不同成分的碳粉对金属铁粉产品质量的影响,结果表明低灰分、高固定碳含量碳粉符合纯金属铁粉制备的要求;添加少量催化剂,能够显著提高低温碳的还原效果,并能提高低温下的间接还原率。还原温度为850℃、加热时间为2 h、还原碳为原料中氧含量的80%,碳酸钾的加入量为0.5%~1.0%,可以得到全铁含量大于91.7%的铁粉,在此基础上750℃氢还原2 h,可以得到成分合格的超细金属铁粉,产品的D50为5~6μm,D90为10~12μm,松装密度为1.35 g/cm3。 相似文献
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刘刚 《有色金属(冶炼部分)》2013,(8):22-24
利用吉布斯自由能理论对四氯化硅合成氮化硅的化学气相沉积体系中可能发生的化学反应进行热力学分析。结果表明,在1 500K以上反应时,可以得到较高纯度的氮化硅。对多晶硅生产中四氯化硅的来源和主要杂质情况进行了比较,得出的四氯化硅综合利用方式是:将SiCl4(Ⅰ)通入精馏工艺的四氯化硅提纯塔分离三氯化磷后,再与SiCl4(Ⅱ)及SiCl4(Ⅲ)一起进入氮化硅合成炉。 相似文献
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The effects of thermal annealing on oxygen behavior and carrier lifetimes of mc-Si wafers were investigated by means of FTIR and QSSPCD during single step and two step heat treatments in N2 and O2 ambient. It reveals that interstitial oxygen concentration of mc-Si and CZ-Si has a slighter decrease in N2 and O2 ambient during single-step annealing, which means oxygen precipitates are not generated. But oxygen concentration greatly decreases and generates a number of oxygen precipitates during two-step annealing. Bulk lifetime of mc-Si increases in N2 ambient at 850, 950, 1150 ℃ respectively, and annealing in O2 shows better results than that in N2 and annealing in two-step reflected better consequence than annealing in single-step. But lifetime of CZ-Si annealed in N2 or O2 decreases rapidly. The reason of lifetime increase is probably considered due to the fact that interstitial Si atoms of Si/SiO2 interface fill vacancies or some recombination centers at high temperature annealing. Moreover, a number of impurities in mc-Si probably diffuse to grain boundaries so that greatly reduce recombination centers result to lifetime rising. 相似文献
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改良西门子法是目前国内外多晶硅厂家最常用的方法,对提纯三氯氢硅的三塔精馏工艺进行改进。结果表明,改进后的四塔精馏工艺可以进一步降低三氯氢硅中硼、磷等杂质的含量,最终精馏塔顶馏出物高纯三氯氢硅纯度达到99.999%。 相似文献
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在我国西部地区建设多晶硅大厂的必要性和可行性 总被引:2,自引:0,他引:2
葛涛 《有色金属材料与工程》2002,23(4):184-187
该文对我国西部地区建设多晶硅大厂的必要性和可行性作了论述,并提出几点建议。 相似文献
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我国改良西门子法多晶硅生产技术进展 总被引:3,自引:0,他引:3
简述了近几年我国改良西门子法多晶硅的技术进展,列出了大部分已建和在建多晶硅厂(公司)。文中给出了多晶硅产量、电能单耗和SiCl4热氢化的一些数据,并指出当前生产中存在的一些问题。 相似文献
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世界硅材料发展动态 总被引:4,自引:0,他引:4
宋大有 《有色金属材料与工程》2000,21(1):28-33
当前,世界硅材料市场的发展趋势主要表现为:半导体行业新的一轮高速发展正在形成,大直径化稳步推进,但Φ200mm时代比预期的更长;外延片正成为市场的新宠;由于价格下降造成的业绩劣化已经得到缓解;多晶硅连年的库存积压使得多数工厂开工不足。 相似文献