沉积在Pt电极上的铁电PZP薄膜特性

研究了射频磁控溅射沉积在Ｐｔ电极上的Ｐｂ（Ｚｒ０．５３Ｔｉ０．４７）Ｏ２薄膜特性。经过不同温度退火处理后得到了钙钛矿结构的ＰＺＴ薄膜。在对其结构的形成和变化进行研究的基础上，探讨了薄膜ＰＺＴ相的形成机理。其电性能的测试表明，这种铁电ＰＴ（５３／４７）薄膜具有较好的铁民性能和疲劳特性。在６００℃下ＰＺＴ薄膜的剩余极化强度Ｐｒ为２４．８μＣ／ｃｍ＾２，矫顽场强度Ｅｃ为７０ｋＶ／ｃｍ。２１０ｋＶ／ｃｍ的     

用于永久性存贮器Pb（Zr0.52Ti0.48）O3薄膜的特性

用磁控射频溅射方法制备了Ｐｂ（Ｚｒ０．５２Ｔｉ０．４８）Ｏ３薄膜。研究了制膜工艺对Ｐｂ（Ｚ０．５２Ｔｉ０．４８）Ｏ３薄膜相、结晶性和铁电特性的影响。实验表明，所制备的薄膜表面致密，光滑。此Ｐｂ（Ｚｒ０．５２Ｔｉ０．４８）Ｏ３薄膜以钙钛矿结构为主，并具有较高的剩余极化、饱和极化和较小的矫顽场。从实验结果分析得。通过控制工艺条件所制得的单相钙钛矿型的Ｐｂ（Ｚｒ０．５２Ｔｉ０．４８）Ｏ３薄膜的铁电特性得     

纯沸石膜制备及表征

在多孔陶瓷载体上制备过渡层，再以水热法合成出ＺＳＭ－５型沸石膜，经扫描电镜测定，膜厚１２μｍ，过渡层厚１３．８μｍ。将ＺＳＭ－５沸石膜用于乙醇水渗透蒸发分离，分离因数为１５，这时其渗透通量为０．４６ｋｇ／ｍ＾２．ｈ．。     

Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化膜形成的影响

电解液组成对微弧氧化陶瓷膜的形成具有重要作用。在Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇复合电解液体系下，对ZAlSi12Cu2Mg1合金微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究，通过改变Na2SiO3的含量，研究了其对微弧氧化的临界起弧电压、稳定氧化时间、陶瓷膜层厚度、膜层生长速率和陶瓷膜层相组成的影响。结果表明：Na2SiO3含量从6g／L到12g／L变化时，膜层厚度从154μm逐渐增加到174μm；稳定氧化时间由27min缩短为18min；膜层生长速率约从5．70μm／min提高到9．67μm／min；但Na2SiO3含量超过12g／L时，膜层厚度却不再增加了；当Na2SiO3含量为14g／L时，膜层厚度为166μm；当Na2SiO3含量为8g／L时，临界起弧正向电压达385V，负向电压达最低值为27V。XRD分析表明：陶瓷膜层中含有莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相，陶瓷膜层的莫来石、Si02、α-Al2O3和γ—Al2O3相含量随电解液Na2SiO3含量变化而变化。     

Ag层厚度对NiCo/Ag多层膜的微结构及磁学性能的影响

采用磁控溅射方法制备了不同Ag层厚度的NiCo/Ag多层膜,研究了Ag层厚度对NiCo/Ag多层膜微结构及其磁学性能的影响.研究结果表明,NiCo/Ag多层膜中NiCo层在FCC的Ag层上准外延生长,为亚稳结构相.该多层膜的晶粒尺寸明显地随着Ag层厚度增加而增大,当Ag层厚度为1.0nm时,多层膜是由约为5 nm纳米晶所组成;当Ag层厚度增加到3.6nm时,多层膜的晶粒尺寸增大到50nm左右.将NiCo层厚度固定为1.8 nm时,Ag层厚度的变化对NiCo/Ag多层膜的磁学性能有很强的影响,当Ag层厚度为1.0 nm时,其易磁化轴倾向垂直于膜面;当Ag层厚度达到2.0 nm时,易磁化轴平行于膜面;当Ag层厚度增厚至3.0 nm以上,多层膜表现出超顺磁特性.     

新型Sol-Gel技术PZT铁电厚膜的制备及电学性能研究

采用新型ｓｏｌ－ｇｅｌ技术在 Ｐｔ／Ｔｉ／ＳiO2/Si基片上制备出了厚度为 ２～６０μｍ的ＰＺＴ铁 电厚膜材料;研究了ＰＺＴ厚膜的结构及其介电、铁电性能．ＸＲＤ谱分析显示,ＰＺＴ厚膜 呈现出纯钙钛矿相结构,无焦绿石相存在．ＳＥＭ电镜照片显示,ＰＺＴ膜厚均匀一致,无裂 纹、高致密．厚度为５０μｍ的ＰＺＴ厚膜的介电常数为８６０,介电损耗为０.０３,剩余极化强度 是２５μＣ／ｃｍ^２．矫顽场是４０ｋＶ／ｃｍ.     

Fe/V多层膜中亚稳结构Fe的形成及其磁学性能

采用电子束蒸镀的方法,通过改变多层膜的周期结构,成功地制备出具有不同晶格常数的bcc亚稳结构铁相的Fe/V多层膜,并研究了亚稳结构铁相形成对其磁性影响的规律.实验结果表明,多层膜中Fe与V层均由纳米晶粒组成.Fe层厚度小于2nm时,受多层膜界面自由能作用,Fe与V相互准外延生长,多层膜由点阵常数一致的体心立方相组成,其点阵常数随样品V/Fe层厚度比的增大而增加.多层膜平均原子磁矩随铁或钒层厚度的改变发生明显变化:当钒层厚度固定为6nm时,铁原子磁矩随铁层厚度的增加逐渐下降,在2nm处出现极小值后又随铁层增厚而回升;对于铁层厚度固定为1.6nm的样品,磁矩在钒层厚度为3nm时出现极大值.     

定点激光反射热循环测量铜膜应力及屈服强度

采用定点激光反射热循环测量基片上薄膜应力的新方法，测定了硅片（１００）上四种厚度（０．２４μｍ，０．５３μｍ，１．２８μｍ，３．４２μｍ）磁控溅射纯铜膜应力随温度（２０～３００℃的变化，发现屈服强度与膜厚倒数成线性关系。     

互不固溶系统的固态反应非晶化

利用选区电子衍射和Ｘ射线衍射研究了互不固溶系统Ｃｕ－Ｔａ和Ｃｕ－Ｎｂ纳米多层膜的固态反应非晶化的可能性，结果表明：当单层厚度减小到一定程度，成分为２５～３０％Ｃｕ的多层膜可以通过退火实现固态反应非晶化，从而获得具有正混合热系统的非晶薄膜，在Ｃｕ－Ｔａ系统中还获得了厚０．８μｍ的非晶态薄膜，互不固溶系统多层膜固态反应非晶化的热力学驱动力主要源于多层膜界面自由能。     

多层镍镀硬铬爆皮产生之因及消除法

多层镍镀硬铬是近年兴起的镀种，它具有多层镍层的高耐蚀性，又具有硬铬层的高硬度和高耐磨性，是性能优良的功能性镀层，常用于条件恶劣，硬度、耐磨性要求高的产品，如汽车、摩托车的减震器。这种镀层结构为总镍层厚度１５～２０μｍ，硬铬层１０～１５μｍ，半光亮镍层和光亮镍层之间的电位差在１２０ｍＶ以上，高硫镍层含硫量在０．１５％左右，硬铬层硬度达８００ＨＶ以上。和普通多层镍铬工艺相比，它的要求要高得多。普通多层镍铬电镀线上镀硬铬会出现大面积爆皮现象（既出现在基体同镀层之间，也出现在镍层和硬铬层之间）。试验认为…     

SmCo_5/Co纳米复合多层膜的成核场

由于交换耦合纳米复合多层膜体系同时拥有硬磁相的高矫顽力和软磁相的高剩磁的优点,因此引起了业界的广泛关注。该文运用微磁学方法,并采用计算机进行模拟,系统地研究了交换耦合SmCo_5/Co多层膜体系退磁中的磁化反转过程,得到了纳米复合多层膜体系的成核场。研究发现交换耦合SmCo_5/Co多层膜体系成核场H_N随硬磁相厚度L~h和软磁相厚度L~s变化而变化的规律,成核场随软磁相厚度的增大而减小,随硬磁相厚度的增大而增大;当软、硬磁相厚度同时增大时,成核场受到的影响会变小;当硬磁相厚度L~h5nm时,软磁相对成核场起主导作用而硬磁相对成核场的影响可以忽略不计。     

CoNiP高密度磁记录介质性能的研究

用化学镀法制取了ＣｏＮｉＰ磁性合金薄膜，测定了膜厚和成分对磁性能的影响，结果表明：随膜厚的增加，平行于膜面的矫顽力Ｈｃ（／／）和垂直于膜面的矫顽力Ｈｃ（┴）下降，当膜厚大于０．２μｍ时，趋于平缓，ＣｏＮｉＰ合金中钴的含量从１０．５３％到７４．３７％变化时，其Ｈｃ（／／）和Ｈｃ（┴）分别由０．３和５．１增加到９３．４和１０８．９ＫＡ／ｍ。     

等离子体气相沉积非晶SiO2薄膜的特性研究

用傅立叶红外吸收光谱，电子自旋共振，表面台阶仪等研究了等离子体增强气相沉积法制备的非晶ＳｉＯ２薄膜的特性与膜厚的关系。当膜厚从０．１μｍ递增到１．１μｍ时，１０６０ｃｍ＾－１附近的Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ伸缩振协吸峰从１０５０ｃｍ＾－１漂移到１０７５ｃｍ＾－１，但是８００display status     

电泳沉积法制备Ba0.6Sr0.4TiO3厚膜及其电学性能研究

采用电泳沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si基底上制备了厚度为33μm的Ba0.6Sr0.4TiO3(BST40)厚膜,研究了其介电调谐特性、漏电流特性和铁电特性.实验结果表明:采用水热法制备纳米BST40粒子,经250MPa高压压制,950°C热处理后,BST40厚膜可形成完整的立方钙钛矿结构且表面致密、无裂纹. ε-V特性表明,1kHz时厚膜调谐率可达59.2%.Ⅰ-Ⅴ特性表明,当电压从-25～25V变化时,漏导电流100μA/cm2.测量了在1kHz,不同温度下厚膜的电滞回线.在0°C时,其剩余极化强度为1.06μC/cm2.     

亚纳米铁电陶瓷介电性能的粒度效应

本文采用ＢａＴｉＯ３超细粉和常规陶瓷工艺制备了亚纳米铁电陶瓷，并研究了其介电性能的粒度效应。研究表明，ＢａＴｉＯ３铁电陶瓷的介电常数、居里点及介质损耗都存在很明显的粒度效应，晶粒的细化有利于性能的提高。介电常数在粒径为０．８μｍ处有一个最大值，当晶粒减至亚纳米（〈０．８μｍ）时，居里点降低，损耗因子及其温度变化率减小。     

用快速胶凝法制备无机氧化铝膜

用溶胶快速胶凝法制备了无龟裂的氧化铝膜． 勃姆石凝胶膜的厚度与喷雾距离、时间和溶胶的浓度之间的关系为δ∝ｃｔ／ ｄ２ ． 适宜的溶胶（ Ａｌ Ｏ Ｏ Ｈ） 浓度为０ ．５ ～１ ．４ｍｏｌ／ Ｌ,粘度应小于２５ ×１０ － ３ Ｐａ·ｓ．用此法可制备厚度为０ ．０５μｍ 的超薄负载氧化铝膜和厚度为０ ．２ｍ ｍ 的无龟裂的无负载氧化铝膜． 利用 Ｘ 射线衍射、透射电镜研究了不同温度时的物相和膜的截面、表面的形貌． γ Ａｌ２ Ｏ３ 膜的晶粒大小均匀, 以长形晶粒为主, 形成了较均匀的孔结构, 微孔孔径约为３ｎｍ     

超微粉体材料精细分级研究

本研究采用新型ＡＴＰ－１５０涡轮式空气分级机，对高纯度氢氧化铝（０－４０μｍ）粉体原料进行了系统地精细分级条件试验研究。研究结果得出：ＡＴＰ型可有效地用于氢氧化铝微细粉体材料的精细分级，调节分级机的风量或风速、分级轮的转速等工艺参数，可从０～４０μｍ的高纯度氢氧化铝原料中获得０～１５μｍ，５～１５μｍ，０～５μｍ等含量达９９％以上的三种均细物料产品．最小分离粒度可达２μｍ．设备的处理能力达到１０００ｋｇ／ｈ、其牛顿分级效率达８０％以上。     

铍青铜零件镀银

铍青铜零件镀银贵阳市中船总公司１０２８信箱（５５０２００）文斯雄铍青铜是含有１．７％～２．５％铍、０．２％～０．５％镍的特性青铜合金，多用来制造重要的弹性零件。为提高铍青铜弹性零件的导电性能，在其表面需镀覆一层银，银镀层的厚度一般为５～８μｍ。但按照...     

聚变燃料纯化用有支撑钯银合金选择渗氢膜的研制

采用脉冲电镀和多层镀膜技术制备了约８μｍ厚的ＰｄＡｇａｔ．％膜，底衬为φ５０的３１６不锈钢滤片。研究确定了组成单一均匀，结构稳定而且与基体结合牢固的有支撑钯银合金选择渗氢膜的热处理条件。对它的选择渗氢性能进行了考核。３５０℃时单位面积渗氢速率为商品ＰｄＡｇ２５ａｔ．％膜的９．１倍。含氦１５％的氢经过这种膜纯化后氦含量降为０．０３％，研究表明，有支撑钯银合金膜的渗氢性能和纯化效率均能满足我国聚变裂变     

镁合金微等离子体氧化膜的特性

采用ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、扫描电镜（ＳＥＭ）等方法初步研究了镁合金微等离子体氧化膜的相组成及形貌特征。结果表明，该技术能在镁合金表面生长一层厚度大于１００μｍ并与基体结合良好的氧化膜，提高了合金的耐蚀性。在ＮａＡｌＯ２溶液中对ＭＢ１５镁合金微等离子体氧化时，氧化膜由ＭｇＯ和ＭｇＡｌ２Ｏ４相组成。铝元素已扩散到膜内层，但膜表层存在铝元素富集区。