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以共沉淀法制备的纳米(75mol%Bi2O3+25mol%Y2O3)混合粉体作为原料,通过无压反应烧结工艺制备了纳米Bi2O3-Y2O3快离子导体.对烧结过程中高导电相(纳米δ-Bi2O3)的形成规律研究表明固溶反应发生在烧结过程的初期,在烧结过程中晶粒生长规律符合(D-Do)2=K·t抛物线方程.用模式识别技术对δ-Bi2O3相生成的工艺条件进行优化的工艺参数优化区为Y>-1.846X+3.433(X=0.0059T+0.0101t,Y=-0.0059T+0.0101t,式中,T为烧结温度,t为烧结时间).在T=600℃,t=2h无压反应烧结条件下,纳米晶Bi2O3-Y2O3快离子导体材料的相对密度可达96%以上,并且微观结构致密均匀,很少有残留气孔和裂纹,平均晶粒尺寸在100nm以下. 相似文献
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Y2O3-SnO2常温气敏薄膜的Sol-Gel制备及性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
以无机盐SnCl2.2H2O,Y(NO3)3.6H2O为原料,无水乙醇为溶剂,采用溶胶-凝胶工艺制备了Y2O3掺杂的SnO2薄膜,采用差热-失重分析研究了Y2O3掺杂的SnO2干凝胶粉末的热分解、晶体过程。研究了Y2O3-SnO2薄膜的电学和气敏性能,从实验中得到了Y2O3掺杂份量对SnO2薄膜电学及气敏性能的影响。实验表明Y2O3掺杂的SnO2薄膜在常温下对NOx具有较好的灵敏度的选择性,并具有较好的响应恢复性能,在常温下对H2S气体也具有一定的灵敏度。 相似文献
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Yb3+掺杂SiO2-Bi2O3-B2O3玻璃的物理性质及光谱性质 总被引:2,自引:0,他引:2
选取玻璃组分60SiO2-xBi2O3-(30-x)B2O3-2K2O-7Na2O-1Yb2O3(以mo1%记,x=0,5,10,15,20,25,30)为研究对象.通过测试试样的物理性质和光谱性质,应用倒易法(reciprocity method)计算Yb^3 离子的受激发射截面(σeml),并且计算了Yb^3 的自发辐射几率(Arad),2F5/2能级的辐射寿命(Trad).讨论了玻璃中Bi2O3和B2O3的组成变化对其物理性质、Yb^3 离子的吸收特性、发光特性以及OH^-离子对实测Yb^3 荧光寿命(Tf)的影响.结果表明:Yb^3 掺杂的SiO2-Bi2O3-B2O3具有较好的光谱性能,是一种新型的Yb^3 掺杂双包层光纤候选基质材料. 相似文献
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采用反相微乳液法制备了在高温条件下结构稳定的Al2O3基复合氧化物.经BET比表面积和XRD测定表明,用本方法制备的Al2O3、钡改性Al2O3、硅改性Al2O3都具有很高的热稳定性,经1100℃焙烧10h后,Al2O3的比表面积为51m2·g-1,钡改性Al2O3的比表面积为90m2g-1,硅改性Al2O3的比表面积为175m2·g-1,远高于用sol-gel法制备的同组成的样品.制备方法不同,所得产物的物相结构和孔径分布也存在较大的差异,用反相微乳液法制备的样品主要以活性Al2O3相存在,粒度分布均匀,为纳米级粒子.钡和硅的存在提高了活性Al2O3的相转变温度,抑制了高温条件下粒子的长大,从而使样品的热稳定性提高. 相似文献
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Y2O3和ZnO共掺杂对BaTiO3陶瓷的微观结构和介电性能的影响 总被引:5,自引:0,他引:5
研究了Y2O3和ZnO共掺杂对BaTiO3陶瓷的微观结构和介电性能的影响.XRD分析表明,Y2O2和ZnO促使BaTiO3的晶体结构由四方相转变为赝立方相;在此系统中Y2O3的固溶度低于1.5mol%,而ZnO的固溶度约3.0mol%.SEM显示Y2O3比ZnO更能有效地改善微观结构,其显著的晶粒抑制作用归因于分散于晶界的第二相Y2Ti2O7对晶粒生长的钉扎作用.适量Y2O3和ZnO的协同作用有助于形成壳-芯结构,并显著改善BaTiO3陶瓷的介电温度稳定性.在BaTiO3-Y2O3-ZnO新体系中获得符合X7R的高性能抗还原介质. 相似文献
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Sm2O3掺杂BaTiO3陶瓷的结构与电性能研究 总被引:3,自引:0,他引:3
采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同浓度Sm2O3(分别为0.001,0.002,0.003,0.005,0.007mol)的BaTiO3陶瓷,并对其结构与电性能进行了研究.结果表明:Sm2O3掺杂BaTiO3陶瓷的晶型在室温下为四方相,而且随着Sm2O3掺杂浓度的增加,BaTiO3陶瓷的晶粒尺寸变小,说明Sm2O3掺杂对BaTiO3陶瓷晶粒的生长有一定的抑制作用;Sm2O3掺杂BaTiO3陶瓷的电阻率比纯BaTiO3陶瓷明显下降,当添加量为0.001mol时,电阻率最小,.从4.3×109Ω·m下降为6.536×103Ω·m;Sm2O3掺杂BaTiO3陶瓷的晶粒电阻随着温度的变化,呈现NTC效应,而晶界电阻随着温度的变化,呈现PTC效应,且晶界电阻远远大于晶粒电阻,说明该材料的PTC效应是由晶界效应引起的. 相似文献
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用sol—gel法分别制备了直接沉积在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上和加入了TiO2种子层的Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNT)铁电薄膜,研究了种子层对BNT薄膜结构和电学性能的影响.XRD结果表明直接沉积在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上的BNT薄膜具有(117)和(001)的混合取向,而加入TiO2种子层之后薄膜的最强峰为(200)取向;FE-SEM显示具有TiO2种子层的BNT薄膜,其表面主要是由具有非C轴取向的晶粒组成且更为致密;直接沉积的BNT薄膜和具有TiO2种子层的BNT薄膜的剩余极化Pr值分别为26和43.6μC/cm^2,矫顽场强&分别为91和80.5kV/cm;疲劳测试表明两种薄膜均具有良好的抗疲劳特性,TiO2种子层的引入并没有降低BNT薄膜的疲劳特性;两种薄膜的漏电流密度均在10^-6-10^-5A/cm^2之间. 相似文献