WO3/Ni(OH)2·xH2O电致变色薄膜的电色互补性研究

对WO3和Ni(OH)2·xH2O这两种电致变色薄膜的电色互补性原理及其电色特性进行了研究,发现利用三氧化钨和氧化镍薄膜的电色互补性能够较好地改善双层膜的电色特性.为灵巧窗等电色器件的应用奠定了理论基础.     

温度对互补WO3—普鲁士蓝电致变色系统的作用

由阴极着色三氧化钨膜和阳极着色普鲁士蓝(PB)膜组成的电致变色装置可用作汽车的“灵巧窗”.这些窗可望能减少太阳热造成的空调系统的负载及用作为汽车的保密涂层.这种窗必须在高温下有很好的稳定性.本文讨论了25到80℃的温度范围内.互补WO_3-PB装置的热稳定性和电致变色开关特性.这种装置在温度高达80℃时仍具有很好的热稳定性.在高温下.电致变色开关特性加快.     

溶胶-凝胶法制备WO3薄膜

以金属W粉为无机原料,采用多步溶胶一凝胶技术结合浸渍镀膜方法制备出WO3薄膜,借助化学刻蚀、可见光分光光度计、椭偏仪等仪器测量了薄膜的特性。实验表明：采用本方法,可使薄膜的折射率增大(从1．76增加至1．89),同时保持了薄膜良好的电致变色性能,增强了薄膜的稳定性。     

用光散射法研究WO3膜的微粗糙结构及其对变色特性的影响

本文使用光散射空间分布自动测量系统对由热蒸发得到的电致变色层ＷＯ３的散射及微粗糙结构分析作了测量和分析。依据实验结果探讨了该结构与其变色特性的关系。     

sol-gel法制备WO3电致变色薄膜的工艺研究

采用sol-gel法制备了WO3电致变色薄膜,通过工艺参数的优化,对WO3薄膜的电致变色性能、表面结构和物相进行比较研究。结果表明:陈化3d的前驱体溶液,以5cm/min的提拉速度在ITO导电玻璃基体上镀膜,经250℃保温60min热处理的薄膜在着色态、褪色态下的透射率之差达到50%以上,电致变色可逆性能较好。     

NiOxHy薄膜电致变色研究

运用直流磁控反应溅射技术，在不同的氧气压强下，沉积ＮｉＯｘ薄膜，随后在１ＭＫＯＨ电解溶液中处理成ＮｉＯｘＨｙ．测量了ＮｉＯｘＨｙ薄膜的电化学性质，在０．３５－２．５μｍ波范围内测定了ＮｉＯｘＨｙ薄膜漂白态与着色态的垂直透过率与近于垂直的反射率，导出了这两种状态的平均可见光透射率，反射率，吸收率与溅射氧压强关系，给出了近于最佳参数样品的吸收系数曲线，对电致变色机理作了讨论。     

脉冲电泳沉积制备电致变色WO3薄膜

采用正交设计法优化了脉冲电泳沉积制备WO3薄膜的工艺参数,并通过分析薄膜的微观结构、透射光谱和循环伏安曲线等研究了最佳工艺条件下制备的WO3薄膜的电致变色性能.结果表明,脉冲电泳沉积制备WO3薄膜的最佳工艺参数为平均电流密度0.2×10-3A/cm2,沉积时间6 min,占空比75%,脉冲周期10 ms.最佳工艺条件下...     

sol-gel法制备WO3电致变色薄膜的研究

采用正交实验设计方法,优化了钨粉过氧化聚钨酸sol-gel法制备WO3薄膜的配方,并且通过测定薄膜的物相结构、光透过率和循环伏安特性等研究了薄膜的电致变色性能。结果表明,制备WO3薄膜的最优配方为:钨粉(纯度为99.5%)6g、浓双氧水20mL、无水乙醇22mL、冰醋酸6mL。该配方所制备的薄膜具有非晶态结构,且薄膜在着色态、褪色态下的透过率之差达到50%以上。     

脉冲电沉积法制备掺钴WO3薄膜

利用脉冲电沉积法制备了掺钴氧化钨电致变色薄膜,并探讨了该方法的机理。利用后续退火处理使之结晶。测定了掺钴和不掺钴ＷＯ_３薄膜的结构特性、电化学特性及透射光谱,并研究了金属钻的掺杂对这些特性的影响。     

电子束蒸发制备MoO3薄膜及其电致变色特性

在三种条件下采用电子束蒸发方法制备钼氧化物薄膜。从烧结靶淀积出的薄膜为多晶状态；从粉末压结靶淀积出非晶态薄膜。在ＬｉＣｌＯ４－ＰＣ电解质中测试各种薄膜的循环伏安特性和阶跃电压下的电流响应和光透射响应，表明２．５×１０＾－２Ｐａ氧分压下压结靶淀积的薄膜具有较好的电色性能；ＸＰＳ分析该种薄膜为ＭｏＯ３组份，Ｌｉ＾＋注入使Ｍｏ３ｄ和Ｏ１ａ的结合能降低。     

反应溅射制备NiOx薄膜及其电致变色特性

在适当氧压下二极管式反应溅射镍靶制备NiOx薄膜，该薄膜无需长时间活化而直接在液体电解质KOH—H2O与LiCIO4-PC中均有稳定的电色性和牢固性，XPS分祈表明，O10具有两种结合能状态对应于Ni^2 和Ni^3 .     

铁电PLZT薄膜退火工艺的研究

在无氧气氛下，采用射频磁控溅射法制备了ＰＬｚＴ系列薄膜，对原位溅射薄膜进行了快速退火及常规退火处理，深入研究了退火工艺对铁电薄膜结构与性能的影响。认为采用常规退火工艺处理无氧溅射的薄膜时，铁电薄膜具有更好的晶体结构和铁电性能。     

氧化钼掺杂氧化钨电致变色薄膜的显示特性

采用电子束蒸发工艺研究氧化钼掺杂氧化电致变色薄膜的显示特性。对氧化钼掺杂氧化钨电致变色薄膜的光谱特性、响应特性和循环伏安特性等显示特性进行了测试。     

电化学沉积非晶NiO_xH_y膜的电致变色特性及其机理

研究了用电化学方法在 Sn O2 基底上沉积的 Ni Ox Hy 膜电致变色特性 ,该膜是一种富氧结构 ,具有优良的变色特性 ,其透射式光密度ΔOD在可见光区可达 1以上 .Ni Ox Hy 膜在 KOH电解液中的电致变色行为是由质子的注入或萃取所决定 .H+注入并占据 Ni空位 ,会使一部分 Ni3+转化为 Ni2 + ,Ni3+的减少将导致光透性增强 ,这是因为Ni的 d电子能级在 Ni O6 八面体晶场中被分裂为 t2 g和 eg 能级 .H+的注入使 Ni3+的 t2 g能级被电子填满 ,变为 Ni2 + ,导致光学透明 .反之 ,H+ 的萃取使 t2 g能级出现空穴 ,即形成 Ni3+ ,导致光吸收     

YMnO_3薄膜的铁电性能及其应用

对金属 -铁电体 -半导体场效应晶体管器件而言 ,具有六方晶系结构的稀土锰酸盐 ( Re Mn O3)是性能优良的薄膜材料 ,它们的介电常数低 ,仅仅只有单一的极化轴 ,没有挥发性的元素 Pb、Bi等。本文作者对 Re Mn O3材料的结构特征、制备方法及其铁电性能等进行了介绍 ,并指出存在的困难及其发展方向。     

电致变色NiO_x薄膜及其研究现状

介绍了阳极电致变色氧化镍薄膜的研究现状，制备条件对薄膜形貌、晶粒结构和化学计量比的影响，以及微观结构与薄膜的动态致色范围、致色效率、响应时间的关系，分析了离子注入问题以及电致变色机理。