日立公司最新电子枪技术

本文对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论。其超大椭圆孔的主透镜使有效直径比上一代电子枪提高了25％，电子束形成区实现最优化设计，不同电流下聚焦的稳定性提高，同时进入主透镜的电子束发散角在水平和垂直方向不同，实现与主透镜的最佳配合，充分发挥了主透镜中共同透镜为椭圆孔透镜的特点。聚焦对比实验也显示出日立公司新一代电子枪聚焦的优异性能。     

重叠型大口径电子枪的开发

NEC研制成功的高分辨率显示管用重叠型大口径电子枪(简称SFL电子枪),由于改进了聚焦特性和会聚特性,实现了大容量且高分辨率的高品质显示。 SFL电子枪采用降低象差的非对称预聚焦透镜,抵销自会聚偏转磁场所引起的电子束光点畸变的和重叠型大口径主电子透镜。     

扫描电子显微镜在半导体研究中的应用

一、简单原理与应用特点图1为扫描型电子显微镜(以下简称为扫描电镜)的结构概图。由电子枪发射的电子束被阳极加速后,经2～3段电子透镜聚焦,最终变成几百埃以下的电子束。当此电子束照射到被检样品时,则在受照部分产生信号(二次电子、反射电子、阴极发光,内部电势等),这些信号经检出、放大后成为显示用的阴极射线管亮度调节的输入功率。当电子束由偏转线圈在样品上产生的光栅扫描与阴极射线管的射线扫描同步时,则与电视成像原理相同,便得     

大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能分析

电子枪聚焦性能是由电极结构决定的。本文通过计算机模拟的方式对三种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的光点形貌进行了系统模拟。对各电子枪聚焦特性进行的分析和比较表明电子束形成区、主透镜结构对屏蔽中心、角部的着屏光点及不同电流下聚焦的稳定性都有较大的影响。     

一字型枪边束优化设计的新方法

在一字型彩色ＣＲＴ中,用Ｇ２、Ｇ３进行会聚电子束,在这样的电子枪系统中,边束电子束在预聚焦透镜处（在Ｇ２和Ｇ３电极之间）向轴向弯曲,此后,电子束倾斜进入主透镜系统。边束电子空过主透镜的正确位置,从而减小光点彗差,同时电子束随聚焦电压情况漂移。为了精确估计电子束在三维结构主透镜中的正确位置,提出了一种新的计算方法。     

场致发射阵列阴极电子枪的设计及模拟研究

讨论了微波管用电子枪的一般参数和要求，对于在微波管中应用场发射阵列阴极电子枪的情况作了分析，表明其中存在的主要问题是电子注散焦。通过比较场发射电子注聚焦的几种方法，利用传统电子枪整体聚焦的思想，初步设计了一个场发射阵列阴极电子枪模型，它包括场致发射阵列阴极，一个Whelnelt电极，一个聚焦电极和一个阳极。通过利用Mafia软件对电子注轨迹的模拟计算，对电子枪的聚焦部分进行了改进。     

电子枪的回收

前言一个电子束管报废了,它的电子枪也往往无辜受到了株连而与管子同归于尽。人们早已注意到回收利用废管电子枪有很大的经济价值,许多人为回收电子枪也作过不少尝试,但始终未能找到一种既简便易行,又能保证电子枪不变形的回收方法。回收电子枪的困难在于要把点焊在调制极园筒内壁的阴极压圈取出,换上新的阴极。电子枪的零件都是一些薄壁圆筒或圆片,组装起来的,取阴极压圈时很难避免电子枪变形。笔者经过反复摸索,设计出一种回收夹具,利用它可以很方便地把阴极压圈取下来而又不使电子枪变形。这种回收电子枪的方法已成功地用于1英寸视象管中。经过连续半年的批量生产证明,回收电子枪装管与新枪装管,在成品     

东芝大型高画质显像管

前言彩色显像管如图1所示,是由高压帽通过内部导电膜给电子枪阳极加入25～32kV的高压。在阳极和聚焦电极之间仅1mm 间隔形成产生17～23kV 电位差的电子透镜。由阴极发射的热电子,经过主透镜聚焦,焦点在荧屏上使荧光粉发光,在偏转线圈电流的作用下进行扫描。     

电子枪发射电流的数值计算

本文根据热电子发射的统计理论,运用无穷大平板二极管中考虑电子纵向热速度效应的电位状态与普通电子枪中阴极前面的电位状态相等效的处理方法,编写了电子枪的计算机程序,得到了计算的电子枪发射电流值与实测的电流值相一致的结果,文中还通过计算分析指出,在计算电子束管电子枪的发射电流时,必须考虑电子的纵向热速度效应,其计算的电流值比3/2次方定律的电流值大,且更接近实测结果;微波管强流电子枪中,电子纵向热速度效应在低工作电压下比在高工作电压下影响大些,但总的来说,比在电子束管中的影响小得多;电子纵向热速度效应对发射电流的影响随阴极的发射电流密度与阴极发射本领差别的增大而增加,但当这一差别大于一定值后,这种影响的大小趋于恒值。     

大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能分析

电子枪聚焦性能是由电极结构决定的，本文通过计算机模拟的方式对3种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的为形貌进行了系统的模拟，对各电子枪聚焦特性进行了分析和比较表明电子束形成区，主透镜结构对屏幕中心，角部的着屏光点及不同电流下了聚焦的稳定性都有较大的影响。     

真空电子器件焊接技术与特种焊接的应用研究(下)

四、电子束焊接 1.概述电子束焊接是50年代末期发展起来的新技术。主要用于原子能、航空、航天、精密仪器制造等部门。近年在汽车制造、电子工业,其中包括真空电子器件制造中也逐步得到应用。电子束焊的实质是由电子枪阴极受热发射电子,经直流高压电场加速,再被静电场与磁场聚焦成束后轰击工件,释放的动能转化为热能,使金属熔化形成焊缝。电子束焊的特点是束的穿透能力极强,     

实验研究

如上所述,整管结构示意图见签201。 后加速会聚透镜以下简称PDAL(post Dafleclion Aleeleration Lens) 为了研究方便,电子枪偏转板中心电压与阳极同电位,即没有辅助聚焦,电子枪阳极,编转板中心及PDAL低压电极①同电位为(?)A。PDAL电极②为调正电极,电位(?)J可调,PDAL电极③为高压电极,与屏同电位,电位UA2。电子枪的聚焦电压力VF。 一般电子束管中,电子束在发射系统中交叉,将此交叉截面作为聚焦透镜物。在屏上得到它的象,即光点。但是在本结构中,电子束在偏转系统出口处再次交叉,形成虚象,然后通过PDAL在屏上得到实象——光点。因此这是二次交叉类型管种。光学系统见签202。     

冷阴极X射线管关键部件的设计与仿真

利用CST粒子工作室软件设计仿真了一种高电子通过率冷阴极微焦点X射线管。重点分析X射线管阴极结构、栅网和聚焦极的结构与电压、阳极电压等关键因素对电子束聚焦束斑的影响,特别是设计了一种独特的阴极凹槽结构,使阴极电子束发射的散角减小了21.84°,并使电子枪通过率从54.3%增加至74.59%。在此基础上设计的碳纳米管X射线管在阳极电压为70 kV时,电子通过率可达到75%,电子束焦点约为56 μm,聚束比为5∶1,可为冷阴极微焦点X射线管的设计和加工提供参考。     

一种用于校正品字形偏转散焦的新方法

现已开发了一种用于校正屏周边红、兰散焦的新型电子枪,因其有施加的动态聚焦电压,该电子枪对红、兰电子束有正象散透镜作用。     

无磁不锈钢在电子束管中的应用

一、剩磁对电子束的影响电子束管的电子光学系统是由若干个金属电极组成的。管子工作时在这些电极上加以规定的电压,由此形成了特定的静电场,电场作用的结果使电子束按照既定的轨迹运动,从而在萤光屏上实现亮点的聚焦和偏转。传统的电子束管(示波管)的电子光学系统结构如图1所示。黑白及彩色显象管的聚焦透镜原则上与其相同。     

D波段行波管电子光学系统设计

提出一种用于D波段行波管的电子光学系统设计方案,包括电子枪和永磁聚焦系统,并进行了验证。电子枪采用经典皮尔斯电子枪结构,阴极发射面的外层设置阴极套壳,抑制阴极边缘杂散发射;采用圆柱形控制极替代锥形控制极,同时在聚焦极加负偏压,调节电子注的压缩状态。所设计电子枪工作电压为19 kV,提供电子注电流57 mA,注腰半径为0.068 mm,射程为14.9 mm。为在半径0.15 mm的电子通道中稳定地聚焦和传输电子注,永磁聚焦系统采用周期永磁聚焦系统。峰值磁场为布里渊磁场的2.9倍,增加了电子注刚性。模拟结果显示,传输的电子注最大波动半径小于0.1 mm。按所设计的电子光学系统加工组装了试验流通短管,测试结果显示电子注电流为49.83 mA,收集极电流为49.6 mA,对应电子注流通率达到99.5%,实现了设计目标。     

XEA枪聚焦性能研究

日立公司的EA—UB电子枪是比较成熟的产品，形成了EA—UB枪、SDF枪、AF枪等系列产品，用于大屏幕彩管。为了进一步改进电子枪的聚焦性能，保证大屏幕纯平面彩管的品位，日立公司最近开发出新一代XEA电子枪。本文对XEA电子枪电子束形成区、主透镜等进行了计算机模拟，对该枪优异性能的内在原因进行了分析和研究。     

强流静电会聚电子枪系统计算机模拟研究

轻、小型层流电子枪在电子束焊接,微波器件等方面具有广泛的应用,希望得到稳定的、环形分布且会聚良好的电子束.但传统电子枪的聚焦系统如磁聚焦或电磁混合聚焦存在结构复杂、重量大的缺点.我们采用具有优异电子发射和抗中毒能力的LaB6作为阴极材料,纯静电聚焦的方式进行仿真、设计.经过理论探讨和计算机模拟仿真,在5 000 V总电压下,输出300 mA强流电子束,导流系数达到了3.35 μA/V3/2.为下一步具体的结构设计提供了可靠依据.     

XEA枪聚焦性能研究

日立公司的EA—UB电子枪是比较成熟的产品，形成了EA—UB枪、SDF枪、AF枪等系列产品，用于大屏幕彩管。为了进一步改进电子枪的聚焦性能，保证大屏幕纯平面彩管的品位，日立公司最近开发出新一代XEA电子枪，本文对XEA电子枪电子束形成区、主透镜等进行了计算机模拟，对该优异性能的内在原因进行了分析和研究。     

一种新型CDT用电子枪的研制

一种具有新的非对称的束形成区和主透镜系统的新型电子枪已经开发出来,这种电子枪已用于４０ｃｍ０．２８ｍｍ ＣＤＴ显示管中。在阴极电流Ｉｋ＝０．２ｍＡ时,屏中心１０％处垂直电子束光点直径为０．６５ｍｍ;在Ｉｋ＝０．２￣０．５ｍＡ时,电子枪的聚焦电压差小于３００伏,而且其它性能均能满足显示管各方面的显示要求。