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随着激光设备的不断发展,自动化程度的不断提高,它对人眼及各种电子装置的干扰、损伤等的威胁也越来越大,激光防护越来越受到各国的重视。报道了激光防护共轭功能高分子的分子设计,合成系列共轭高分子,采用FT-IR、^1H NMR、UV、GPC和TGA对分子结构和热性能进行表征,测试了高分子的光限幅和非线性光学性能,讨论了高分子材料热性能增强与光限幅产生的机理以及分子结构与高分子光学性能之间的关系。 相似文献
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报道了一种聚丙烯酰胺(PAAM)-植酸(PA)-聚多巴胺(PDA)导电分子印迹膜(PAAM-PA-PDA MIP)化学修饰电极的制备、表征及其在电化学定量检测食品添加剂胭脂红(P4R)中的应用。即通过原位电聚合和碱液洗脱的方法在玻碳电极(GCE)表面制得具有分子识别作用的导电分子印迹膜(PAAM-PA-PDA MIP)化学修饰电极,并利用SEM、循环伏安法(CV)及交流阻抗法(EIS)对该导电分子印迹膜化学修饰电极的表面形貌和电化学性能进行表征。研究结果表明该方法所制备的导电分子印迹膜化学修饰电极具有良好的电化学检测性能和应用前景,其对P4R的线性检测区间为10~200 μmol/L,灵敏度为0.085 A/mol/L,检测限可达23.6 nmol/L,并可有效地应用于P4R实际样品的分析检测。 相似文献
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使用二环己基碳酰亚胺(DCC)和N,N-二甲基吡啶(DMAP)催化酯化合成了非线性取代炔化合物3-{4-[4′-硝基-偶氮苯-4-[N-甲基-N-亚乙氧基羰基]苯氧基]-1-丙炔(PBNAA),在金属铑催化剂作用下制备出偶氮取代功能聚炔.用紫外、红外、核磁和元素分析对材料的结构进行表征,并测定了其光限幅性能.发现高分子溶液对脉宽40ps波长1064nm激光,在低入射激光光强时,透射光强度随入射光强度增加而增加;对浓度为0.6×103mg/L溶液当入射光强度达105.4GW/cm2透射光强开始偏离线性光限幅阈值,随着入射光强进一步增加到491.2GW/cm2时,透射光强逐渐达到一个饱和值(197.8GW/cm2).并发现随着溶液浓度增加,光限幅性能增强.对光限幅机制的分析显示,材料对1064nm波长激光的限幅机制主要是双光子吸收机制. 相似文献
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2-炔丙基-4-[4-N,N-二乙基苯偶氮基]苯甲酸酯的合成、表征及光限幅性能 总被引:4,自引:0,他引:4
使用二环己基碳酰亚胺(DCC)和N,N-二甲基吡啶(DMAP)催化合成了非线性生色化合物2-炔丙基-4-[4-N,N-二乙基苯偶氮基]苯甲酸酯(PBAB)。与酸催化等法进行比较,DCC/DMAP催化法具有反应条件温和、产率高的优点。用紫外、红外、核磁和元素分析对化合物结构进行表征。测定了其光限幅性能,在低入射激光光强时,透射光强度随入射光强度增加而增加:当入射光强度达151.4GW/cm^2透射光强开始偏离线性,呈现非线性光限幅效应。对其限幅机制进行了分析,结果显示产物对1064nm波长激光的限幅机制主要是双光子吸收机制。 相似文献