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[D157] 电镀铜镍合金——添加硫代乙二醇酸(TGA) M.Ishikawa & H.Enomoto,Metal Finishing Vol.81,4(1983) 本文研究硫代乙二醇酸(TGA)的添加,对电镀铜镍合金的影响,特别是合金中铜和镍的成分比。电镀溶液配方:氯化镍0.08M,硫酸铜0.02M,焦磷酸钾0.3M和TGAO~0.01M;镀层含镍80%和铜20%。在电镀合金溶液中添加TGA,在所有的电流密度范围中,都可提高镀层中的含镍量,且镀层均匀平整而光亮。虽说二价铜离子与TGA和焦磷酸根的反应是有所不同,但TGA对整个电镀铜镍合金的影响,是可以解释为是由于TGA与铜离子和镍离子在阴极表面上 相似文献
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为提高印制电路板电镀铜的镀层均匀性,采用多物理场耦合的有限元方法构建电镀铜模型,探讨了阴极板间距、液面高度、阳极挡板对镀层均匀性的影响,并设计正交实验获得了优化的电镀铜工艺参数。结果表明,阴极板间距越小,镀层越均匀。较低的液面、增加阳极挡板,有利于获得均匀的镀层。采用优化的参数电镀铜,阴极COV(镀层均匀性)值为4.7%。这些结论为工业电镀铜工艺的优化提供了一定的理论与实践指导。 相似文献
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电镀铜技术在电子材料中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
电镀铜层具有良好的导电、导热、延展性等优点,因此,电镀铜技术被广泛应用于电子材料制造领域。本文概括了几种常用电镀铜体系的特点,重点介绍了在电子制造中应用较广的酸性硫酸盐电镀铜镀液的组成和各成分作用。简述了电镀铜在铜箔粗化、印制电路制作、电子封装、超大规模集成电路(ULSI)铜互连领域的应用,并对近年来电子工业中应用的几种先进电镀铜技术,包括脉冲电镀铜技术、水平直接电镀铜技术、超声波电镀铜技术、激光电镀铜技术等进行了评述。 相似文献
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酸性电镀铜是重要的电子互连制造技术之一。为解决其工业生产过程中,聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)和3-巯基-1-丙烷磺酸钠(MPS)稳定性欠佳,导致镀液老化,使添加剂监控失效、镀液均镀能力下降和镀层结瘤等问题,通过电化学实验、定量分析实验和电镀实验,研究了巯基丙烷磺酸络二铜(MA)作为电子互连中酸铜电镀加速剂的特性。结果表明,MA能够直接替代原配方中的SPS和MPS,作为酸铜加速剂使用,且工作浓度更低,具有更宽的CVS分析线性区间,能够提供更准确的定量分析结果,在微通孔保型电镀中表现出良好的均镀能力,并能实现微盲孔的超级填充,不改变铜镀层的金相织构等,展现出广阔的应用前景。 相似文献
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Cai Jiaqing 《精细化工原料及中间体》2014,(12)
正专利披露了铜电镀溶液组成物及其电镀方法,其将具有孔洞和导电层的基材浸入电镀液,并用电流电镀将电镀铜沉析于基材表面和孔洞中。电镀液包含含铜化合物,浓度3%~30%之间;至少一种从硫酸,甲基磺酸,酰胺硫酸,氨基醋酸,氟硼酸或它们的混合物中选择的酸,其浓度为1.5%~30%之间;以及浓度为0.001%~2%的抑制剂。利用电镀液实施电流电镀步骤可以得到基材的表面和盲洞厚度差异很大 相似文献
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电极电势是物理化学重要的基础性数据。在以往的实验中,我们发现铜的浓差电池电动势的测定值和理论值相差较大,为此,我们设计了一系列的实验来探讨影响铜的浓差电池电动势的因素,包括溶液浓度、电镀时间、电流密度等因素,以期为以后的物理化学实验提供有价值的参考数据。实验结果表明,25℃,采用20mA·cm-2的电流密度电镀铜电极2min的条件下,得到的φCu2+/Cu与文献值最为接近。而铜的浓差电池电动势在溶液浓度较小时实验值与理论值较为接近。 相似文献
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含铜电镀废水产生于电镀过程,作为废水中的主要污染物,铜离子不仅危害人体健康,还对环境造成无可预估的潜在危害。本文简单地综述了近几年含铜电镀废水的处理方法,并提出了含铜电镀废水处理的未来发展方向。 相似文献
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为了回收电镀污泥中的有价金属,提出了以含铜电镀污泥为原料,制备硫酸铜和氧化铁红的工艺流程,并确定了从含铜电镀污泥中回收铜和铁的工艺参数。试验采用硫酸浸取含铜污泥,铜和铁的浸取率分别为98.73%,97.91%;采用N902-磺化煤油-硫酸萃取分离体系萃取分离浸取液中的铜和铁,工艺条件为:水相pH为1.5~1.7,萃取剂体积分数为30%,相比O/A=1∶1,反萃液硫酸浓度为4 mol/L。试验结果表明,通过该工艺处理含铜电镀污泥,铜的回收率大于92%,铁的回收率达到88%以上。 相似文献