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《固体电子学研究与进展》1995,(2)
封面介绍S、C波段相控阵T/R组件S、C波段相控阵T/R组件,采用MMIC芯片和小型化MIC电路混合形式,运用微组装工艺制作而成。其中LNA,SPDT等使用了5片MMIC芯片;限幅器、移相器等电路则采用二极管芯片组装完成。功率放大器输出级是大功率FE... 相似文献
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INFORMATION FOR AUTHORS 总被引:1,自引:0,他引:1
《半导体光子学与技术》1996,(1)
INFORMATIONFORAUTHORS¥//SEMICONDUCTORPHOTONICSANDTECHNOLOGY(SPAT)ispublishedquarterlywiththepurposeofprovidingthepublicationo... 相似文献
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多芯片MMICC波段T/R组件 总被引:1,自引:0,他引:1
钱万成 《固体电子学研究与进展》1995,(2)
多芯片MMICC波段T/R组件钱万成(南京电子器件研究所,210016)Multi-MMICC-BandT/RModules¥QianWancheng(NanjingElectronicDevicesInstitute,210016)研制的C波段固态... 相似文献
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低压低能耗应用的InGaAs/AlGaAsPHEMT单片微波SPDT开关 总被引:2,自引:1,他引:1
陈效建 《固体电子学研究与进展》1995,15(3):244-251
提出了微波频率下PHEMT在作开关运用时一种简化的等效电路模型,其模型参数可从对实际PHEMT芯片的在片微波测试方便地确定。对于电路中元件采用不同尺寸组合情形下所进行的开关性能(插入损耗,隔离度,输入及输出反射损耗)的模拟计算表明,与实验结果符合良好。在对串/并联PHEMT型SPDT开关的CAD优化设计基础上进行了InGaAs/AlGaAsPHEMT单片SPDT微波开关的实验研制。从研制的MMIC芯片上在片测试得到的结果为:对应新的个人通信频段的应用,在0~2GHZ范围内,插入损耗<1.0dB,隔离度>50dB,输入及输出反射损耗均优于24dB。研制的这种高性能单片开关还可在低至-2.0V的控制电压下工作。 相似文献
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介绍了GaAs MMIC RF开关的设计方法,在这种方法中,把MESFET当作一个两端口网络处理,直接提取开与关两种状态下网络的S参数,应用S参数进行开关电路的CAD。这种设计方法更准确,更简单,容易实现。文中还给出了GaAs MMIC RF开关的研制结果。 相似文献
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曲兰欣 《固体电子学研究与进展》1994,(4)
75~110GHzInGaAs/GaAsHEMT高增益MMIC放大器毫米波InGaAs/GaAsPHEMT已在通信、雷达、灵巧武器、电子战和辐射测量系统等方面获得广泛应用。近来,以PHEMT为基础的工艺技术已取得令人瞩目的进展,因而能在兼顾高性能的情... 相似文献
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曲兰欣 《固体电子学研究与进展》1995,(3)
采用图像抑制有源HEMT混频器的60GHzMMIC下变频器(lEE1994MicrowaveandMM.W。Monol.Clrc.Symp.)报道,日本TamiaSaito等用AIGaAs/GaAsHEMT工艺技术设计、制作出一种V波段单片下变频器。... 相似文献
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曲兰欣 《固体电子学研究与进展》1996,(2)
控制场效应晶体管(CFET)──一种新型的MMIC控制器件据《IEEE1995M.&MM.W.Monol.Circ.Symp》报道,DavidJ.Seymour等研制成一种微波单片控制电路用的新型GaAs器件──控制场效应晶体管(CFET)。为了降低... 相似文献
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曲兰欣 《固体电子学研究与进展》1996,(3)
T/R组件的高密度微波封装据《1995IEEEMTT-sDigest》报道,休斯飞机公司的JohnWooldridge开发出一种X波段有源阵列雷达用T/R组件的低成本三维高密度微波封装(HDMP)技术。该项目主要集中在多层氮化铝(AIN)衬底的设计、... 相似文献
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孙再吉 《固体电子学研究与进展》1994,(4)
GaAsFET高输出放大MMIC据日本《电子技术))1994年第6期报道,日本三菱电机公司开发了高效率的MMIC,用于模拟便携电话的发射系统。由GaAsFET两级放大器构成,在3.4V低压情况下,输出功率为31dBm(典型),效率达60%(典型),其... 相似文献
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本文给出了一种利用GaAs MESFET负阻特性实现的微波单片有源滤波电路,并考虑到MMIC工艺兼容性,提出了一种GaAs MESFET变容管结构,从而实现了滤波器的压控功能。 相似文献
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高压RESURF LDMOSFET的实现 总被引:6,自引:0,他引:6
利用RESURF技术,使用常规低压集成电路工艺,实现了适用于HVIC、耐压达1000V的LDMOSFET。本文介绍了该高压LEMOSFET的设计方法、器件结构、制造工艺测试结果,此外,本文还从实验和分析的角度探讨了覆盖在漂移区上面的金属栅-金属栅场板长度LF对RESURF器件耐压的影响。 相似文献
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