国内外碳化硅反射镜及系统研究进展

对几种常用反射镜材料的物理性能进行了比较,对最有发展前途的反射镜材料--碳化硅的诸多特点进行了归纳,详细介绍了国内外碳化硅反射镜制备、加工方面的研究进展以及碳化硅系统的研究现状,并对今后碳化硅反射镜及系统的发展做了简要评述.     

碳化硅反射镜轻量化结构优化设计

本文根据某型号碳化硅主反射镜的设计要求,对比了扇形、三角形、六边形轻量化孔对镜体静态、动态性能的影响,选择了综合性能较好的三角形轻量化结构方案,利用有限元方法进行参数建模,将对镜体力学性能和质量影响较大的镜体厚度、面板厚度、筋厚度等结构参数作为设计变量,运用零阶优化方法对镜体结构进行优化设计,得到了轻量化程度高、镜面变形误差完全满足设计要求的碳化硅反射镜体。     

碳化硅反射镜技术的研究现状

介绍了碳化硅作为最有发展前途的新型反射镜材料的特点,阐述了碳化硅反射镜的轻量化设计、坯体制备、涂层、镜面光学加工和光学检测技术的特点和国内外研究现状,以及世界各国SiC反射镜的应用.     

反射镜材料及轻型反射镜制作技术

人类探索遥远、暗淡的宇宙空间的科学规划、航天及军事科学技术的发展,促进了大型光学望远镜的发展。从陆地上应用到宇宙空间使用,要求有效地降低重量,因而提出了制作轻型反射镜的要求。为了提高分辨本领,一方面尽可能扩大望远镜直径,同时用     

SiC基陶瓷卫星反射镜研究进展

从各种卫星反射镜材料的性能和特性出发，得出SiC及其复合材料作为反射镜材料的性能最佳的结论，阐述了SiC反射镜制备工艺及方法特点，详细介绍了SiC陶瓷基卫星反射镜的国内外发展现状，最后对SiC基陶瓷卫星反射镜的发展提出了展望。     

大尺寸拼接式碳化硅反射镜的研制及环境模拟试验

随着空间技术的快速发展,对大尺寸空间反射镜部件的需求愈发强烈。本文从材料和制备技术角度分析了大尺寸碳化硅反射镜的发展趋势,并以Φ1.0 m口径常压烧结碳化硅拼接式技术验证镜研制过程为例,对拼接式反射镜的分块镜设计制备、连接、光学加工等过程进行了探讨。此外,结合实际的工程化应用需求,对1.0 m口径碳化硅拼接式技术验证镜进行了包括热真空、振动和抗辐照等在内的环境模拟试验。试验结果表明：通过合理的制备技术,Φ1.0 m口径的碳化硅拼接式技术验证镜光学加工后面形RMS达到了0.038λ (λ=632.8 nm),经历热真空和振动的环境模拟考核后,其面形RMS分别为0.037λ和0.036λ;此外,拼接式反射镜经过⁶⁰Co γ射线辐照测试后,反射率指标基本保持不变,显示了良好的工程应用前景。

     

φ410mm轻型熔石英反射镜

报道了φ４１０ｍｍ轻型熔石英反射镜的研制概况，首先分析了轻型反射镜对材料的要求，选择了熔石英作主反射镜材料。比较了熔石英反射镜轻量化技术途径的优缺点，选择了高温熔合物封接的技术方案，研究了封接材料和高温熔合物封接技术。     

φ200mm轻型石英反射镜的研制

本文报导了φ200mm轻型石英反射镜研制结果。研究分析了轻型反射镜对材料的要求,选择了石英做主反射镜材料;研究了具有高结合强度的封接材料及封接技术;研究了环辐型、多环型、井字型及六角型轻型结构,选择了多环型及六角型结构制成了φ150及φ200mm轻型石英反射镜;进行了高温、低温、一年时效、高能电子辐照、高能质子辐照及振动对轻型石英反射镜光学质量影响的研究,研究结果表明具有稳定的光学质量。可做为天文望远镜、卫星及激光系统主反射镜以及高稳定性的台基。     

反应烧结碳化硅反射镜表面改性技术

为了解决新型优质光学材料-反应烧结碳化硅(RB-SiC)由SiC和要Si两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了反射镜表面改性方案并且从加工工艺的角度介绍了改性工艺流程.以空间反射镜的使用环境为依据,对几种适用的RB-SiC改性材料进行了较为全面的分析比较.本文采用新的离子辅助沉积碳化硅(LAD-SiC)材料为改性层,对改性层的表面形貌及部分性能进行了测试,证明IAD-siC膜层能够满足改性要求.在厚度为(6±0.5)μm的IAD-SiC膜层表面进行了一系列抛光工艺实验,文中给出了超光滑表面抛光工艺参数和实验结果.对改性层进行精抛光后,100 mm口径样片的面形精度为0.033X RMS(λ=632.8 nm),表面粗糙度优于0.5mmRMS.结果表明,本方法不仅可以很大程度提高元件表面质量,还可以进一步精修面形,为超光滑,低散射RB-Sic反射镜的加工提供了一条可行途径.     

碳化硅光催化剂研究进展

许多文献报道了光催化材料的设计合成及其在环境污染防治与资源循环利用中的应用。然而,大多数光催化材料含有过渡金属离子,其浸出的环境风险限制了催化材料的应用。碳化硅作为第三代半导体材料的代表,由于不含有过渡金属离子、耐高温酸碱、稳定性强等特性使其在环境污染防治工作中具有良好的潜在应用前景。近年来,一些文献报道了碳化硅的合成、改性及其作为光催化剂在环境与资源循环利用中的应用研究,然而很少有文献综述碳化硅光催化剂的应用研究进展。针对以上现状,围绕碳化硅光催化剂合成方法、掺杂改性及应用等方面,综述了国内外近年来在碳化硅光催化领域取得的进展,并对该光催化剂体系的前景进行了展望。     

碳化硅晶须发展及应用概况

综合论述了ＳｉＣ晶须的高强，高硬，高化学稳定性以及其耐磨耐腐蚀和良好的抗高温氧化性等特点；评述了ＳｉＣ晶须的各种合成方法和国内外发展应用状况。     

晶硅切割废料在碳化硅及其复合材料中的应用进展

光伏产业晶硅切割废料的传统回收工艺复杂且高纯硅的分离难度大、回收率低.而将废料提纯后直接制备碳化硅及其复合材料不仅方法简单、有效避开了硅难于分离的问题,且废料利用充分、制品多样化.从利用废料制备碳化硅粉体、碳化硅致密陶瓷、碳化硅多孔陶瓷、碳化硅/氮化硅复合材料、碳化硅基高温红外发射涂料以及碳化硅颗粒增强合金等方面综述了这一方向的研究进展,并基于该领域存在的一些主要问题,对未来的研究提出了几点建议.     

SiC陶瓷增韧的研究进展

碳化硅陶瓷以其优异的性能被广泛利用于各种领域，但其脆性限制了其性能的发挥，因此其增韧技术得到广泛研究并取得良好效果。综合评述了碳化硅陶瓷增韧机理和增韧方法的研究进展，包括晶须或纤维增韧、颗粒弥散增韧、表面改性技术增韧、自增韧、层状结构复合增韧的增韧机理和方法进。     

反应烧结碳化硅的研究与进展

反应烧结碳化硅以其适中的机械性能、抗氧化性能和相对较低的造价而日益受到重视.本文对反应烧结碳化硅的类型、当前研究热点及反应烧结机理进行了综合评述.     

碳化硅晶片的制备技术

论述了碳化硅晶片作为补强增韧材料的优点，阐述了其制备机理和国内外的各种制备技术以及碳化硅晶片的提纯方法，并对碳化硅晶片的研究重点和发展趋势作了简要的评述。     

亚微米碳化硅粉末的制备

采用硅酸乙脂和酚醛树脂为原料,合成了具有高混合度的Ｃ／ＳｉＯ２混合物。高温碳热反应后,得到亚微米级的球状粉末,并且粉末粒度分布范围小。本文对碳热反应中一氧化硅的损失作了定量分析。结果表明,较高Ｃ／ＳｉＯ２比导致较低一氧化硅损失和较高的碳化硅产量。在１５００℃反应后,Ｃ／ＳｉＯ２＝３时,一氧化硅的损失达约２０％。而当Ｃ／ＳｉＯ２＝５时,损失＜５％。较高的Ｃ／ＳｉＯ２比对碳化硅的形成速度有明显的促进作     

Corrosion Characteristics of Silicon Carbide and Silicon Nitride

The present work is a review of the substantial effort that has been made to measure and understand the effects of corrosion with respect to the properties, performance, and durability of various forms of silicon carbide and silicon nitride. The review encompasses corrosion in diverse environments, usually at temperatures of 1000 °C or higher. The environments include dry and moist oxygen, mixtures of hot gaseous vapors, molten salts, molten metals, and complex environments pertaining to coal ashes and slags.