含氮聚硅氧烷配位体及其Cu^2＋络合物的介电性能

研究了ｎ－β（氨乙基）－γ（氨丙基）三乙氧基硅烷（ＮＨ２（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＥｔ）３）与二甲基二乙氧基硅烷（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＥｔ）２）共水解，制备含（ＣＨ２）３ＮＨ（ＣＨ２）２ＮＨ２功能基的聚硅氧烷配位体，用ＩＲ，＾１ＨＮＭＲ和元素分析法对水解产物分析证明，ＮＨ２（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＥｔ）３与（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＥｔ）２进行了共水解反应，而且水解程度随ＮＨ２（ＣＨ     

纳米级ZnO—TiO2复合粉体的制备及其性能表征

利用ＺｎＳＯ４和Ｔｉ（ＳＯ４）２为原料,在合成纳米ＴｉＯ２粉体的基础上,将ＴｉＯ２微粉分散在（ＮＨ４）２ＣＯ３溶液中,进一步将ＺｎＣＯ３的形成沉淀出来,于３００℃煅烧２ｈ,即可制得纳米级ＺｎＯ－ＴｉＯ２复合粉体,其粒径约３０－９５ｎｍ。     

在p-Si(100)上溅射法生长ZnO的结构和光学特性

室温下在ｐ－Ｓｉ（１００）上采用直流反应磁控溅射法外延生长了ＺｎＯ薄膜。ＸＲＤ测量表明了ＺｎＯ是高度ｃ轴单一取向生长的,ＸＲＣ测量则表明了ＺｎＯ的高质量在室温下的ＰＬ测量中见到了带边发射,其强度与晶体质量有关。     

马来腈二硫纶和邻菲咯啉二酮镍(Ⅱ)、铜(Ⅱ)、锌(Ⅱ)配合物的分子内荷移跃迁和光敏性研究*

研究了标题配合物Ｍ（ｍｎｔ）（ｐｈｅｎ－５,６－ｄｉｏｎｅ）的电子吸收和发射光谱,经分子力学（ＭＭ＋）几何优化再用ＺＩＮＤＯ／Ｓ方法进行了多组态的ＲＨＦ－ＳＣＦ－ＣＩ计算,研究了配合物的激发态。探讨了用配合物掺杂及未掺杂 ＣｄＳ－ＰＶＡ膜的暗电导、光电导和光敏性。发现配合物的光敏性按金属离子顺序Ｃｕ２＋＜Ｎｉ２＋＜Ｚｎ２＋依次增强,并与金属离子对ＬＬ’ＣＴ的影响基本一致。     

新型阳离子胺甲基甲叉基聚丙烯酰胺共聚物的合成

在（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８－Ｎａ２ＳＯ３引发体系中，用丙烯酰胺与Ｎ，Ｎ＇－甲叉双丙烯酰胺（ＢｉＳ）进行共聚，得甲叉基聚丙烯酰胺（ＭＰＡ），将ＭＰＡ进行Ｍａｎｎｉｃｈ反应，生成胺甲基甲叉基聚丙烯酰胺（ＣＭＰＡ）。对反应物料配比、温度及时间对其分子量、胺化度的影响进行了初步探索。     

用半微分阳极溶出伏安法测定锌－ATMP锌－半胱氨酸配合物组成及条件生成常数

应用类似于配位剂滴定锌的安培滴定法来测定Ｚｎ－ＡＴＭＰ、Ｚｎ－ＣｙＳ配合物的组成及条件生成常数，其滴定曲线是用半微分阳极溶出伏安法检测未反应的锌而获得，所得结果满意。     

电镀Zn－Co合金钝化膜的X光电子能谱分析

Ｘ光电子能谱（ＸＰＳ）分析表明，电镀Ｚｎ－Ｃｏ合金钝化膜与电镀锌钝化膜一样，均由ＣｒＯ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｚｎ（ＯＨ）_２、ＺｎＯ及Ｈ_２Ｏ等组成，但Ｚｎ－Ｃｏ合金钝化膜中高价铬含量较高，且在钝化膜的较深层处有原子态钴存在，这是该合金钝化膜具有高耐蚀性的主要原因。     

电镀Zn—Co合金钝化膜的X光电子能谱分析

Ｘ光电子能谱（ＸＰＳ）分析表明，电镀Ｚｎ－Ｃｏ合金钝化膜与电镀锌钝化膜一样，均由ＣｒＯ３，Ｃｒ２Ｏ３，Ｚｎ（ＯＨ）２，ＺｎＯ２及Ｈ２Ｏ等组成，但Ｚｎ－Ｃｏ合金钝化膜中高价铬含量较镐，且在钝化膜的较深怪处有原子态钴存在，这是该合金钝化膜具有高耐蚀性的主要原因。     

共沉淀法制备掺杂氧化锌压敏陶瓷粉料热力学分析

本文通过对Ｍｅ^ｎ＋（Ｚｎ^２＋;Ｃｒ_３^＋,Ｍｎ^２＋;Ｓｂ^３＋,Ｂｉ^３＋,Ｃｏ^２＋）－ＮＨ_３－ＣＯ_３^２－－Ｈ_２Ｏ体系进行热力学分析的基础上,获得了Ｍｅ－ＮＨ_３－ＣＯ_３^２－Ｈ_２Ｏ体系中的ｌｇ［Ｍ］_T－ｐＨ关系图,得到了用ＮＨ_４ＨＣＯ_３和ＮＨ_３·Ｈ_２Ｏ作沉淀剂,用共沉淀法制备掺杂氧化锌压敏陶瓷粉料时,最佳共沉淀ｐＨ为７．０左右．     

配合物[Mn(phen)_2]~(2 )修饰的MCM-41的合成与表征

分别以γ－氨丙基和甲基丙烯酸丙酯基修饰介孔分子筛ＭＣＭ－４１内孔壁,将引入的有机官能团与金属配位离子［Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２Ｃｌ］＋通过配位健成键首次合成了锰（Ⅱ）配位化合物修饰的ＭＣＭ－４１（ＭＣＭ－ａｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２,ＭＣＭ－ｍｐ－Ｍｎ（Ｐｈｅｎ）２）．通过ＸＲＤ、ＦＴＩＲ、７７Ｋ氮气吸附－脱附、ＵＶ－ＶＩＳ漫反射光谱和Ｍｎ２＋电子顺磁共振谱（ＥＳＲ）表征了复合物ＭＣＭ－ａｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２和ＭＣＭ－ｍｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２由于有机基团对ＭＣＭ－４１孔壁的修饰,使复合物的结晶度降低,增加的有机基因和配合物使红外光谱有所改变;ＢＥＴ比表面积,孔容和最可几孔径均下降;γ－氨丙基或甲基丙烯酸丙酯基与Ｍｎ２＋的配位而使其ＵＶ－ＶＩＳ漫反射吸收光谱在短波长的吸收加强;室温下 Ｍｎ２＋电子顺磁共振表明 Ｍｎ（Ⅱ）配位环境几乎没有变化．     

化学沉积法多晶硫化锌薄膜研究

本文报道在一定浓度范围的ＮＨ３－ＮＨ４ＡＣ－ＣｄＡＣ２－（ＮＨ２）２ＣＳ水溶液体系中５０～１００ｎｍ厚的器件质量硫化镉多晶薄膜的生长条件研究．透明高密度的ＣｄＳ薄膜沉积的最佳条件已经获得．ＳＥＭ分析表明硫化镉膜晶粒大小为５０～１００ｎｍ二在玻璃上和ＳｎＯ２：Ｆ／玻璃上的ＣｄＳ膜具有强的定向选择晶面．８０ｕｍ厚的硫化镉膜暗电阻率是１０３～１０４Ω·ｃｍ数量级，光电导比是１００～２００范围，光禁带宽度是２．４４ｅＶ．同时对水溶液中硫化镉成膜条件作了研究．     

Si及α－Al_2O_3超细粉对Al_2O_3－ZrO_2－C系材料显微结构的影

本文探讨了Ｓｉ及α－Ａｌ２Ｏ３超细粉对Ａｌ２Ｏ３－ＺｒＯ２－Ｃ系材料显微结构的影响．认为在Ａｌ２Ｏ３－ＺｒＯ２－Ｃ系材料中同时加入Ｓｉ和α－Ａｌ２Ｏ３超细粉，Ｓｉ粉除了与Ｃ生成了ＳｉＣ纤维外，其反应产物ＳｉＯ２还与α－Ａｌ２Ｏ３超细粉及ＺｒＯ２生成了莫来石（Ａ３Ｓ２）和Ａｌ２Ｏ３－ＺｒＯ２－ＳｉＯ２（ＡＺＳ）固溶体，这些新生成的矿物相对试样的显微结构产生重要的作用．     

聚苯硫醚涂层／金属基体的界面研究

用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）研究了聚苯硫醚（ＰＰＳ）在高温下的化学反应和ＰＰＳ与不锈钢、铸铁、Ａ３碳钢的结合机理。结果表明，ＰＰＳ在３００℃以上发生了氧化交联和氧化反应，反应中有Ｃ－Ｏ－Ｃ、Ｐｈ－ＳＯ－Ｐｈ和Ｐｈ－ＳＯ２－Ｐｈ基团生成，涂层界面的Ｐｈ－Ｓ－Ｐｈ中的Ｓ有２３％生成了Ｐｈ－ＳＯ－Ｐｈ和Ｐｈ－ＳＯ２－Ｐｈ。同时初步解释了ＰＰＳ涂层与金属界面的结合是由于ＰＰＳ中Ｓ原子的孤对电子和金属基体的     

过硫酸钾—脲氧化还原引发的甲基丙烯酸乙酯基三甲基氯化铵反…

研究了以ｓｐａｎ－８０为乳化剂和过硫酸钾－脲引发体系下，甲基丙烯酸乙酯基三甲基氯化铵反相乳液聚合的动力学，得出在「Ｋ２Ｓ２Ｏ８」为１２．３－７３．８μｍｏｌ．Ｌ＾－１．「ＣＯ（ＮＨ２）２」ｏ为０－０．９５ｍｍｏｌＬ＾－１，乳化剂为４１．７５－６６．８０ｇ．Ｌ＾－１范围内的聚合速率表达式：Ｒｐ＾∞「ＤＭ．ＭＣ」＾１．７１「Ｋ２Ｓ２Ｏ８」＾０．２８「ＣＯ（ＮＨ２）２」＾０．０１「３」＾－１．１８，ＢＣ     

Si及α—Al2O3超细粉对Al2O3—ZrO2—C系材料显微结构的影响

本文探讨了Ｓｉ及α－Ａｌ２Ｏ３超细粉对Ａｌ２Ｏ３－ＺｒＯ２－Ｃ系材料显微结构的影响。认为在Ａｌ２Ｏ３－ＺｒＯ２－Ｃ系材料中同时加入Ｓｉ和α－Ａｌ２Ｏ３超细粉，Ｓｉ粉除了与Ｃ生成了ＳｉＣ纤维外，其反应产物ＳｉＯ２还与α－Ａｌ２Ｏ３超细粉及ＺｒＯ２生成了莫来石（Ａ３Ｓ２）和Ａｌ２Ｏ３－ＺｒＯ２－ＳｉＯ２（ＡＺＳ）固溶体，这些新生成的矿物相对试样的显微结构产生重要的作用。     

丙烯酸/尼龙-6接枝膜的合成与表征

采用（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６／Ｈ２ＳＯ４这一水溶性高效引发体系发引尼龙－６膜与丙烯酸的接枝共聚合反应。合成了一系列不同的接枝率的接枝膜,其中接枝率最高可达３１２％。这一数值是文献报导的接枝率的４倍多。     

锌镍合金镀层盐雾腐蚀行为的研究

研究了锌镍合金电层的盐雾腐蚀行为，结果表明，１２％－１６％Ｎｉ镀层不仅５％红锈出现时间长，红锈扩展慢，而出现腐蚀增重。ＳＥＭ、ＥＰＭＡ、ＡＥＳ和ＸＲＤ分析表明，锌镍合镀层的高耐蚀性和腐蚀增重与生成粘附力强、绝缘性好的腐蚀产物ＺｎＣｌ２．４Ｚｎ（ＯＨ）２和２ＺｎＣＯ３．３Ｚｎ（ＯＨ）２有关，腐蚀产物还密积堵塞了镀层在腐蚀过程生成的大量微裂纹。     

淀粉在CS2/H2O2体系中与烯烃接枝共聚

采用ＣＳ２／Ｈ２Ｏ２体系在碱性条件下引发玉米淀粉与丙烯酰胺,苯乙烯接枝共聚,系统研究了ＮａＯＨ、ＣＳ２和单体的浓度、ＣＳ２／Ｈ２Ｏ２的摩尔比及反应温度等与接枝效应关系。结果发现在适宜条件下,室温（２５－３５℃）接枝反应０．５－１．０ｈ,单体转化率和接枝效率可达９６％以上。     

湿法制备羟基磷灰石生物活性陶瓷粉末的热力学分析

本文对制备羟基磷灰石的Ｃａ（ＮＯ３）２－（ＮＨ４）２ＨＰＯ４－ＮＨ４ＯＨ－Ｈ２ＯＬ体系进行热力学分析。计算求得ＨＡ沉淀最宜ｐＨ条件为１０．６－１２．４，热力学计算与实验结果和文献报告数据结果一致。     

常压CVD法制备Si-N-O薄膜及其电性能

本文利用常压ＣＶＤ设备在较低温度（＜７００℃）下制备得到了Ｓｉ－Ｎ－Ｏ薄膜,探讨了反应温度、反应时间、ＮＨ３中杂质水汽对薄膜生成的影响。制得的薄膜具有较大的体积电阻