卫生瓷锆乳浊釉面针孔缺陷解决办法的探讨

主要从施釉工艺方面探讨如何减少卫生瓷锆乳浊釉釉面针孔缺陷。通过扫描电镜图片进行分析得出以下结论：施釉工艺对釉面效果有一定的影响;采用二次施釉工艺（底釉、面釉为组成相同但比重不同的釉浆）釉面针孔较一次施釉工艺明显减少,并且白度增加;采用化妆土做底釉的施釉工艺釉面效果较一次施釉工艺好,且化妆土的配方和比重都对釉面效果有影响。     

红坯陶瓷砖底釉的开发应用

以一次烧成后的陶瓷废渣为基料开发出了一种红坯陶瓷饰面砖用的底釉，将这种底釉施在砖坯上，不仅能减少面釉的消耗量，而且还能改善瓷砖和釉面的质量。     

釉面外墙砖底釉的研制与应用

釉面外墙砖要实现低温快速烧成的工艺，其坯体和釉面的相互结合极为重要。本文在生产釉面外墙砖时使用底釉，解决了坯体原料配方中因使用部份陶瓷生产过程产生的废料及过程原料沉淀池里的沉淀原料后，导致产品釉面产生针孔及吸污现象等问题，使用底釉不但改善了产品的表面质量，且在实现产品快速低温烧成、有效降低坯体配方成本及综合成本、实现节能增效目的方面起刮重要作用。     

铁钛拉丝花釉的研制

以Fe系黑釉为底釉,Ti系釉为面釉制备窑变拉丝釉.主要研究了底面釉的成分,高温粘度,釉层厚度和烧成制度等因素对拉丝釉釉面效果的影响.当底釉配方为:釉果67％,钾长石19％,氧化铁10％,石英4％;面釉配方为:钾长石29％,方解石12％,碳酸钡10％,氧化锌5％,烧滑石4％,高岭土8％,石英26％,氧化钛6％时釉面效果最佳.     

流纹艺术釉的研制

本文简单介绍了流纹釉的生产工艺流程。通过选用釉果、黑泥、长石、滑石、石英、苏州土等常用陶瓷原料作为底釉及面釉配方,经正交法和单因素法确定了最佳釉料配方及工艺参数。实验得到的流纹釉釉面与流纹交接处均不开裂,表面光滑平整,具有釉面强度高、热震性好和光泽度好等优点。     

彩釉砖底釉试验

一、前言 底釉也称化妆土。一次烧成的彩釉砖常使用底釉。在我国,大多数生产彩釉砖的厂家,砖坯中含铁等着色氧化物量较高,这种含铁量较高的坯料,虽然给砖坯提供了良好的烧结性能,但同时也给砖釉面质量带来了诸多不利因素,这就需要施以底釉加以消除。底釉介于砖坯与面釉之间,其主要作用有:(1)遮盖坯体固有的红色;(2)阻止坯体表面有害杂质与面釉发生不良反应;(3)有利于坯釉中间层的形成,促进坯釉结合牢固;(4)提高砖釉面的平整度。笔者多年来在对坯釉料配方试验与研究中,同时也对彩釉砖底釉进行了一系列试验,现介绍如下。     

读者信箱

问:仿古砖有哪些缺陷及解决方法?答:1变形与抛光砖相比,瓷质仿古砖多了一层涂料。所以,解决仿古砖变形的核心也要从仿古砖的坯釉热膨胀系数的匹配情况着手。一般情况下,要求热膨胀系数的匹配情况如下:COE坯体>COE底釉>COE面釉。并且要求热膨胀系数相差不要过分悬殊。否则会出现上翘或龟背变形,甚至釉面出现龟裂。仿古砖的釉料一般采用化工原料和精选的矿物原料制备,产生波动的可能性小。实际生产中一般都是由于坯体原料产生波动而引起坯釉热膨胀系数不匹配,导致     

绣花状黄金光泽结晶釉的研究

本实验主要以玻璃粉、铅硼熔块和氧化锌为原料,同时引入氧化铜、氧化铁和氧化镍等着色剂,按一定配比制备出一系列具有特殊艺术效果的金属光泽结晶釉,其釉面朵状大晶花边缘长有均匀针脚,宛如刺绣。     

硅灰石质耐热亚光窑变釉的研制

以硅灰石为主要原料制作的亚光窑变釉,其釉面细腻、光泽柔和,烧成温度范围较宽,烧成性能稳定。硅灰石质亚光窑变釉性能优良,符合我国日用陶瓷产品国家标准规定的性能要求和美国FDA关于铅、镉溶出量的限定要求,能够用于日用陶瓷、工艺美术陶瓷产品的生产。     

陶瓷马赛克陨石花釉的研制

主要研究了以棕褐色底釉与灰白色面釉组合而成的花釉,该釉烧成后其花纹和颜色犹如陨石效果,用于马赛克的生产。文中主要讨论了底面釉化学成分、着色氧化物的含量、烧成制度、釉层厚度等因素对陨石花釉釉面效果的影响。     

超耐磨高硬度全抛釉的制备研究

针对目前全抛釉砖产品存在的釉面耐磨性差、硬度小、坯釉结合性差及防污能力差的不足,通过采用成熟温度高的生料釉作为面釉和烧成温度低的熔块釉作为底釉制备了全抛釉。通过底釉和面釉釉料的配方组成优化和调整釉料熔融性能及制备工艺等,研制出超耐磨、高硬度的全抛釉,有效提升了全抛釉砖产品质量。     

硅灰石质耐热亚光窑变釉的研制

以硅灰石为主要原料制作的亚光窑变釉，其釉面细腻、光泽柔和，烧成温度范围较宽，烧成性能稳定。硅灰石质亚光窑变釉性能优良，符合我国日用陶瓷产品国家标准规定的性能要求和美国FDA关于铅、镉溶出量的限定要求，能够用于日用陶瓷、工艺美术陶瓷产品的生产。     

镁质亚光窑变釉的研制

以堇青石为原料,制作的镁质亚光窑变釉,其釉面细腻、光泽柔和,烧成温度范围宽广,烧成稳定,能够在辊道窑中快速烧成.镁质亚光窑变釉性能优良,符合中国日用陶瓷产品国家标准规定的性能要求和美国FDA关于铅、镉溶出量的限定要求.能够用于生产日用陶瓷产品.     

低温快烧炻器亚光釉的研究

借助于SEM、XRD等手段 ,系统研究了炻器亚光釉的形成机理和工艺条件。结果表明 :炻器亚光釉完全适宜于低温快烧的现代工艺制度 ,而影响釉面效果的主要因素有原料组成、粒度、配比、升温速度、保温时间、降温速率等。     

中温釉下彩料的研制

釉下彩是用釉下彩料或由其所制成的贴花纸,在精坯、素烧坯、釉坯的表面上进行彩饰,再覆盖一层透明釉,经高温烧制而成的装饰方法。本研究研制的中温釉下彩料适用于1 230~1 250℃的氧化气氛液化气梭式窑烧成。实验内容包括釉下彩料和透明面釉的研制,实验使用单因素实验法对基础釉进行调整,试制出一些性能好的透明釉。单色彩料有着深浅渐变的颜色;复色彩料则颜色丰富多彩,发色鲜艳,可满足中温陶瓷釉下装饰要求。试制出的透明面釉平滑光亮,透光性好,釉面质量好,无气泡、针孔、橘釉等缺陷。在制作过程中,严格控制透明面釉和釉下彩料的厚度,避免产生气泡和针孔缺陷。     

中温氧化双层花釉的反应过程研究

为研究中温氧化双层花釉的反应过程,本文通过体视显微镜和SEM/EDS对釉样表面及断面进行形貌观测和微区成分分析.结果 表明,当温度升至950℃时釉料开始熔融,底釉和面釉的扩散主要以化学浓度梯度和重力作用为推动力通过接触面进行,底釉中可以检测到P元素,而面釉中尚未检测到Fe元素.1 000℃时扩散作用加剧,着色氧化物Fe2O3开始熔融致使底釉由红色转变为黄色,釉中气泡的搅动促进组分扩散迁移,Fe和P元素在底釉与面釉中均有分布.1 100℃时大尺寸气泡冲散面釉破裂排出,底釉被带至釉表面回填气泡排出后的凹坑,形成面釉白色与底釉褐色相间的花釉图纹.双层花釉的反应通过组分扩散和气泡搅动进行,且釉面效果主要在升温阶段形成.     

陶瓷马赛克用蓝白斑点釉的研制

以长石、石英、高岭土、滑石等为主要原料,氧化钴为着色剂,抛光砖废料为发泡剂制备陶瓷马赛克用蓝白斑点釉。研究了抛光砖废料用量、烧成制度及釉层厚度等因素对釉面斑点效果的影响。结果表明:当着色剂的添加量为0.2%,抛光砖废料添加量为0.3%,底釉厚度0.4 mm、面釉厚度0.3 mm、烧成温度1240℃、保温时间20 min的条件下,可以获得艺术效果良好的蓝白斑点釉。     

一种显著减少抛釉砖釉面水波纹的工艺技术

本文介绍了釉面水波纹显著减少的抛釉砖的生产工艺流程,重点介绍了制备方法中的坯料化学成份、底釉和透明抛釉配方、施釉工艺、烧成制度及抛光工艺这五道关键技术,通过以上几个关键技术得到的拋釉砖产品釉面具备如下效果:釉面水波纹显著减少,平整度显著提高,釉面光泽度提高,图案立体感增强,防污性能优越。     

论刻瓷艺术四大工艺和技法的不同特点及运用

正刻瓷艺术基本工艺分为四种,即:点刻工艺、线刻工艺、面刻工艺和釉雕工艺。创作时根据瓷器釉面的颜色、使用工具、表现题材以及瓷质的不同,又将点刻工艺分为浅色釉面雕刻法和深色釉面雕刻法;线刻工艺分为浅色釉面雕刻法和深色釉面雕刻法;面刻工艺分为浅色釉面雕刻法和深色釉面雕刻法。点刻、线刻和面刻工艺雕刻后需要敷色显形,釉雕工艺则是在深色瓷器釉面上利用釉面层与白色胎体的色差,使用合金刀具分层雕刻出丰富、细腻的层次来表现立体形     

玲珑釉的制备工艺与研制

采用单因素实验及正交实验法制备出光泽度、坯釉适应性、釉面质量较好的玲珑釉,讨论了主要原料对玲珑釉性能的影响,确定了较好的配方组成和合适的素烧温度。