关于真空开关管ODS清洗剂替代技术试验总结报告

按照ODS特别工作组拟定的工作目标，采用HEP-2和HT-1与原使用的CFC-113对真空开关管常用的7种零件和部件进行清洗对比试验。检测分析结果表明，HEP-2清洗效果优于CFC-113和HT-1。采用HEP-2清洗的波纹管(真空开关管的结构件)进行了耐腐蚀性和机械寿命试验，其结果与CFC-113无明显差异。采用HEP-2清洗的真空开关管零、部件进行了整管试验，其参数合格并按规定通过了型式试验。各项试验表明，HEP-2基本上可以作为目前CFC-113的主要替代品。     

真空开关管的辉光放电清洗

真空开关管的辉光放电清洗辉光放电清洗用于真空开关管，清洗真空开关管的内部零件的表面。采用一种在内电极和其周围的铜栅极之间产生辉光放电现象的新技术。图１示出了辉光放电清洗的实验安排，内电极直径为５０ｍｍ，曲率半径为１０ｍｍ，材料是高导无氧铜，外壳由玻璃...     

U形荧光灯生产线上玻管的清洗

本文对Ｕ形玻管常用的两种清洗方法进行了分析比较，并简要介绍了自动化生产线上玻管清洗烘干机的总体设计。     

X射线荧光光谱仪在真空开关管中的应用

介绍了X射线荧光光谱分析的原理、仪器特点以及在真空开关管用材料中的应用。着重讲述了EDX-700型能量色散型X射线荧光光谱仪的定性半定量分析的特点。     

用于真空电子器件的非ODS水剂清洗工艺

由于零件表面的污物组分复杂,真空电子器件,如ＣＰＴ、ＣＤＴ用的销钉、阳极帽等零件原来全部采用ＯＤＳ溶剂清洗,为获得极洁净的表面,本文介绍一种非ＯＤＳ水剂清洗技术。其清洗剂主要组分包括脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基醇酰胺等多种表面活性剂和助剂,符合对人无毒、对环境无毒、对臭氧层无损耗、不含磷酸盐及壬基苯酚乙基盐等综合要求。对清洗过的零件,进行常规检验和Ｘ射线能谱分析的结果表明,非ＯＤＳ水剂清洗工艺的清洗能力     

微波组件半水清洗工艺研究

从清洗剂、清洗温度、清洗时间等方面进行分析和试验,研究了一种新型半水清洗工艺,并且通过重新设计设备工装,最终能在同一个清洗腔内同时清洗大小不同、形状各异的低频电路组件、高频电路小模块和大壳体,并且不会对元器件和电路板造成损伤,大大提高了军工产品的清洗效率,满足军工科研生产单位"多品种、小批量"产品的清洗要求,从而有效替代传统的超声清洗工艺。     

彩色显像管压机管路系统及其配件的清洗

彩色显像管玻壳压机的管道系统是压机的重要组成部分，除了管道系统复杂难于施工以外，有一个特殊的要求，管道内壁非常清洁，否则在压机运行中，管道内有不洁物及其它杂质混入液压油内，将造成压机液压系统中的元器件的损坏，直接影响着它的正常运行，为此该厂在制造压机过程虽设计了一系列特殊的清洗工艺及清洗装备，成功地完成了此项制造任务。     

关于真空开关管ODS清洗剂替代试验总结报告

按照ODS特别工作组拟定的工作目标,采用HEP-2和HT-1与原使用的CFC-113对真空开关管常用的7种零件和部件进行清洗对比试验.检测分析结果表明,HEP-2清洗效果优于CFC-113和HT-1.采用HEP-2清洗的波纹管(真空开关管的结构件)进行了耐腐蚀性和机械寿命试验,其结果与CFC-113无明显差异.采用HEP-2清洗的真空开关管零、部件进行了整管试验,其参数合格并按规定通过了型式试验.各项试验表明,HEP-2基本上可以作为目前CFC-113的主要替代品.     

通信总配线架用固体放电管封接工艺的改进

介绍并讨论了固体放电管的真空封接工艺，以真空封接代替传统封接工艺，生产出满足行业标准YD／T940及YD／T694要求的固体放电管，大大降低了产品成本。     

净化管路内腔的工艺装备和环保型清洗工艺

系统的介绍了ZJL02型管路清洗机的构造、用途和使用方法，该工艺装备适用于铁路机车车辆、汽车、消防车、石油机械、化工设备等行业。投入使用后能使机械净化工艺创新，整体机械设备的内在质量能大幅度提高，有利于环保事业，性能价格比突出。     

硅研磨片超声波清洗技术的研究

介绍了硅研磨片清洗的重要性,分析了影响硅研磨片质量的主要因素,即金属杂质和各种污染物.重点分析了硅研磨片表面沾污的原因,并且通过大量的实验分析得到了活性剂和碱性清洗液、去离子水的最佳体积比是0.20:1.00:10.0,清洗的最佳时间为3 min～5 min和最佳温度范围为40℃～50℃.     

荫罩双层清洗黑化技术的开发及应用

着重论述了彩色显像管荫罩清洗黑化工序,如何通过改进设备,优化生产工艺,达到产量翻番的目的。     

陶瓷金卤灯电弧管用真空封排设备

本文通过比较常见的封接炉结构形式以及加热炉的种类,结合陶瓷电弧管封接特点,提出了陶瓷金卤灯电弧管用真空封排设备的设计构思。