含 Sm 聚合物的制备及荧光性质

用 Sm_2O_3制备了甲基丙烯酸钐和辛酸钐。通过添加或交联制得了含 Sm 的甲基丙烯酸和甲基丙烯酸甲酯共聚物。测定了 Sm 盐的元素分析、IR、TG、DTA 和它们在溶液中的荧光性质。研究了含 Sm聚合物的力学性能和荧光性质。     

稀土铕离子掺杂聚合物基荧光材料的研究进展

对稀土铕离子掺杂聚合物基荧光材料的制备方法进行了分析归纳,介绍了稀土离子配位数及离子簇的存在对发光性能的影响,同时列举了聚合物基荧光复合材料在农业、生物医学、防伪鉴别等方面的应用.针对实践应用对物理性能的要求,分析提出了传统方法制得的材料在应用中存在的问题并对具有综合特性的方法进行了展望.总结认为针对不同应用制备镶嵌荧光物质的前体作为复合材料两相的桥梁这一框架方法,具有极大的应用前景.     

稀土铕荧光聚合物的制备及与DNA的相互作用

含稀土金属的聚合物既保留了稀土金属的独特性质,又具有聚合物的优点,成为材料科学领域研究的热门之一。文中用含铕稀土配合物单体Eu(AA)3Phen、2-甲基丙烯酰氧乙基-三甲基氯化铵、N-异丙基丙烯酰胺成功合成出阳离子型稀土荧光聚合物,并用核磁共振谱、凝胶渗透色谱、荧光光谱、琼脂糖凝胶电泳、Zeta电位及粒径分析、透射电镜等对其结构、性能进行了表征。结果表明,产物结构明确,在594 nm和618 nm处的具有特征荧光发射,与DNA能够通过静电作用相互结合,特征荧光发射强度不断增强,形成的复合物粒径从246.8 nm逐渐增大到579.7 nm;而Zeta电位逐渐从41.2 mV降低到-12.8 mV,并能使DNA在琼脂糖凝胶电泳中的运动受到阻滞。     

稀土铕高分子荧光配合物的制备及性能研究

稀土配合物作为发光材料已广泛应用于众多领域,为了使材料获得更稳定更持久的发光性能,本文以N-乙烯基甲酰胺(NVF)和丙烯酰胺(AM)为共聚单体,水为溶剂,在高温、引发剂条件下经自由基溶液聚合制备出含有氨基、羧基等多种配位官能团的水溶性高分子聚合物两性聚乙烯胺(PVAm),并以此作为高分子配体,再辅以1,10-邻菲咯啉(phen)作为第二配体,用三价稀土离子铕(Eu)的盐溶液与之配位,制备出具有优良荧光效应的稀土配合物Eu(PVAm)_3phen荧光粉。对高分子配体PVAm进行IR、NMR等分析,找出配位官能团,并对稀土配合物的外观形貌进行荧光显微镜等观察分析,对配合物的结构进行XRD等表征,并分析其紫外光谱、荧光光谱、荧光余辉亮度。配合物在220～275 nm范围内对紫外光有较强的吸收,最大吸收峰在260 nm处。配合物在580、593、614、650 nm的4处有明显的荧光发射峰。     

{[Tb(L)2(H2O)2](Hdmpy)(H2O)2｝∞/丙烯酸酯类聚氨酯稀土高分子材料的制备及性能研究

以9,10-双蒽酸(H2L)和2,6-二甲基吡啶(Hdmpy)为配体,合成了一个二维结构的稀土配合物{[Tb(L)2(H2O)2] (Hdmpy) (H2O)2｝∞;用原位聚合法将该稀土配合物与丙烯酸类聚氨酯大分子单体复合,制备出{[Tb(L)2(H2O)2](Hdmpy)(H2O)2｝∞/丙烯酸酯类聚氨酯稀土高分子材料,并研究了稀土配合物在材料中的分散及材料的热稳定性、荧光性能等.研究结果表明,配合物在稀土高分子材料中主要以200～500nm颗粒均匀分散;且该材料具有良好的热稳定性能(＞300℃),在波长372nm的激发光下,材料在440nm出现最大荧光发射峰,有望应用于发光材料领域.     

Eu0.5Tb0.5(TTA)3Bipy/PMMA的制备及发光性能

合成了一种新型的稀土配合物Eu0.5Tb0.5(TTA)3Bipy,并采用原位乳液聚合法制备了Eu0.5Tb0.5(TTA)3Bipy/PMMA稀土聚合物材料.利用红外光谱仪(IR)、电子探针X射线能谱仪等对稀土聚合物发光材料的结构进行表征,并利用扫描隧道电子显微镜(SEM)、荧光光谱仪(FS)等分别研究了该发光材料的微观形貌,探讨了其发光性能.结果表明,Eu0.5Tb0.5(TTA)3Bipy/PMMA仍保持Eu0.5Tb0.5(TTA)3Bipy原有的发光特性;在365nm紫外光的激发下,产生发光峰在612nm附近、谱线带宽为10.4nm的红光发射,发光亮度高,色纯度高,是性能优良的稀土聚合物发光材料.     

ATP/CaF_2∶Ln~(3+)(Ln∶Eu,Tb,Ce/Tb)纳米粒子的制备及其荧光性能

采用两步法制备了三磷酸腺苷二钠(ATP)修饰的ATP/CaF_2∶Ln~(3+)(Ln∶Eu,Tb,Ce/Tb)纳米粒子。采用红外光谱(IR)、X-射线衍射分析(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对所合成的纳米粒子进行结构表征,并通过荧光光谱(FS)研究了纳米粒子的荧光性能。结构研究结果表明,ATP成功地包覆在纳米粒子的表面,纳米粒子的晶相为CaF_2的立方结构,ATP/CaF_2∶Eu~(3+)、ATP/CaF_2∶Tb~(3+)、ATP/CaF_2∶Ce~(3+)/Tb~(3+)纳米粒子的平均粒径分别约为14nm、15nm、11nm。荧光性能研究表明,ATP/CaF_2∶Eu~(3+)、ATP/CaF_2∶Tb~(3+)纳米粒子基本不发射稀土离子的特征荧光,而发射出修饰剂ATP的荧光,由于Ce~(3+)对Tb~(3+)的敏化作用,ATP/CaF_2∶Ce~(3+)/Tb~(3+)纳米粒子发射出Tb~(3+)的特征荧光。     

稀土(Y、Pr、Tb)希夫碱配合物的合成、结构及荧光性质

以水杨醛苯甲酰腙为配体(H2L),采用溶剂热法,合成了3种稀土[Y、Pr、Tb]配合物。通过红外光谱、热重分析、元素分析、紫外及荧光光谱对其进行了表征,并用X单晶衍射测定了钇配合物的结构。其结构以4个对称的金属核为骨架,每个金属核上带有2个配体,属于四方晶系,P4/ncc空间群,a=2.1656(2)nm,b=2.1656(2)nm,c=2.6668(4)nm,α=90°,β=90°,γ=90°,V=12.507(3)nm3,Z=16。荧光光谱表明,钇配合物在473nm处有强的荧光发射,铽、镨配合物都表现出良好的特征荧光发射,其光致发光性能良好,有望在光学材料方面得到应用。     

光致变色聚合物的光学性能与应用

综述了光致变色聚合物的光学性能及应用的近期研究进展，首先，介绍了光诱导双折射及双色现象形成机理及实验方法，并讨论了分子结构与外部条件对上述现象的影响。其次，介绍了光致变色聚合开关线性光学性能和应用。如由光助极化和全光极化形成的光开关现象将有可能引起数字存储或光-光开关等新装置的出现，最后，简单说明了光诱导表面光栅在近几年的研究情况，并分析了它们在全息图像存贮，光学过滤器及共振电偶中的潜在应用。     

带发色侧基的非线性光学聚合物的合成、极化和稳定性的研究

报道了一种含发色侧基的聚氨酯及一种含发色侧基的甲基丙烯酸甲酯共聚物的合成，考察了电晕极化的最优条件。在一维刚性取向气体模型的基础上，用可见光谱法测得的极化膜的序参数φ，估算了它们的有效倍频系数ｄ３３，同时考察了极化膜在室温和９０℃的稳定性。计算所得含发色侧基的聚氨酯的ｄ３３可达１．２６×１０－７ｅｓｕ，序参数φ在９０℃放置６００ｈ仍能保持初值的９０％以上。     

新型聚省醌自由基高聚物的电磁性能

通过共缩聚合成了几种新型的，压阻系数很高的聚省醌自由基高聚物（ＰＡＱＲ）实验发现：在直流电导率对数与外界压力（０．０１～１．０ＧＰａ）平方根的线形关系上有一个转折点（约０．１１ＧＰａ）Ｍｏｔｔ－Ｔ＾１／４规律的适用范围可延伸至高温区（２９８～４８６Ｋ）直流电导率自旋浓度，ｇ因子和峰一峰线宽之间与共缩聚时个入的六氟二酐的物质的量比存在类似的变化趋势，在不同温度下介电系数的对数与压力平方根的线性关系图     

纳米复合聚合物电解质的新型制备方法及其性能

以含有纳米SiO₂ 的聚乙二醇二丙烯酸酯( PEGDA) 为单体, 加入液态电解质, 通过紫外光辐射固化制备了凝胶态纳米复合聚合物电解质(NCPE) 。含有纳米SiO₂ 的PEGDA 单体是以水性硅溶胶为原料, 通过一个溶剂交换过程制备的, 与此同时纳米SiO₂ 的表面通过加入甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷(MAPTMS) 进行改性, 使其表面具有可以参与光固化的丙烯酸酯基团。与用不含纳米粒子的PEGDA 单体制备的凝胶态聚合物电解质相比, 纳米复合聚合物电解质的电导率更高, 尤其是电化学稳定性和界面稳定性有明显提高。      

反应挤出技术在高聚物制备中的应用

介绍了反应挤出技术的主要特征,反应类型,工程基础及在制备 中的应用情况,展望了反应挤出技术的发展趋势。     

异戊二烯/丙烯腈嵌段共聚物的合成和性能研究

首次采用三元稀土催化剂[Nd(P204)3-Al(i-Bu)3-BrCH2CH2Br]以顺序聚合法合成异戊二烯－丙烯腈嵌段共聚物。研究了共聚合反应特征。用红外光谱和差示扫描量热分析等表征嵌段共聚物，它有两个玻璃化转变温度（Tg:-75.6℃，96.5℃），有优良的耐溶剂性和较好的力学性能。含28．2％丙烯腈的嵌段共聚物（生胶）的断裂强度为0．53MPa，屈服强度为0．50MPa，断裂伸长率为261％，弹性模量为1．86MPa。     

热致性液晶聚合物的种类对环氧树脂共混物的结构和性能的影响

通过静态力学、动态力学实验方法,研究了热致性液晶聚合物(LCP)的种类对环氧树脂共混物在不同温度下的拉伸强度和应力-应变曲线的影响,通过TEM观察了共混物的相形态结构。结果表明,反应型液晶聚合物(LCPU)比其它种类的液晶聚合物对环氧树脂的改性效果更好;在不同温度下,其拉伸强度和应力~应变行为均比其它材料优越;固化物的动态力学结果表明,反应型的液晶聚合物键入了固化网络,出现新的松弛。TEM结果表明,反应型的液晶聚合物在基体材料中形成大小在纳米数量级的液晶聚集微区,没有反应基团的液晶聚合物PHBHT在10%的加入量下,与环氧的共混物结构也有液晶聚集微区产生,但是聚集区大小在微米量级。     

分子印迹聚合物的设计与制备

对分子印迹聚合物的设计、制备及其特性以及分子印迹技术的未来发展方向进行简要评述。过程及方法：概述了分子印迹技术的原理和特点，重点介绍了分子印迹聚合物的制备和特性，最后分析了分子印迹技术目前存在的一些突出问题。结果及应用范围：作为一种制备具有亲和性和选择性高、稳定性好的分子印迹聚合物的技术，分子印迹以其简便、通用和高效等特点吸引了研究者的广泛兴趣。分子印迹聚合物在分离分析、仿生传感器和模拟酶催化等领域将具有重要的应用前景。