闹中也能取静——迷你阵列麦克风（SAM）

语音处理技术正成为与人们日常生活紧密联系的关键技术。无论是计算机、智能电话还是汽车，和语音通信相关的功能已成为每天生活的一部分。对于这些应用，倘若要使用者有高质量的体验，获得一个完全清晰而没有噪声干扰的语音信号显得至关重要。这样，语音接口成为关键。随着通信产品体积的不断小型化，对系统的成本和空间限制也越来越多。扬声器的体积变得越来越小，麦克风与扬声器之间的距离不断缩短，这些使得通信中的回声愈发难以消除。在商业区、汽车、地铁等复杂的使用环境中，环境噪声也严重影响了通话质量。如何在PDA、笔记本电脑、免提手机等小型系统中实现全双工免提功能，并保证足够大的音量，已经成为一个难题。     

迷你阵列麦克风为移动通信提升音质

在日前举办的"富迪科技无线通信应用与服务技术研讨暨展示会"上,富迪科技展示了一款特别的迷你阵列麦克风(Small Array Microphone)FM1073V23,其集成的DSP可完全免除回声和噪音干扰,该方案已经被用于日本DoCoMo的手机RakuRaku PHONEⅢ.     

闹中亦能取静——索尼NW-S700F降噪型MP3

索尼的MP3自从惨败给苹果的iPod后,一直想抢回失地,无奈iPod实在凶猛,索尼始终无法在MP3领域中和苹果比肩。不过索尼如果就此认输的话就不是索尼了,去年底推出了WalkmanNW-S700F(图1～图6)系列数字音乐播放器,主打的亮点,一是克服MP3的疑难杂症——降噪,二是音质,另外,兼备清晰重低音、彩色OEL显示     

基于迷你阵列麦克风技术的手持通信产品设计

手持产品结构的空间限制越来越多,扬声器越来越小,要求的声音越来越大,抑制各种各样的噪声和回声(视频免提通话时的线性、非线性回声),在噪声环境下实现清晰的语音通信,是一个面临解决的问题.     

闹中亦能取静——索尼NW—S700F降噪型MP3

索尼的MP3自从惨败给苹果的iPod后，一直想抢回失地，无奈iPod实在凶猛，索尼始终无法在MP3领域中和苹果比肩。不过索尼如果就此认输的话就不是索尼了，去年底推出了Walkman　NW—S700F（图1-图6）系列数字音乐播放器，主打的亮点，一是克服MP3的疑难杂症——降噪，二是音质，另外，兼备清晰重低音、彩色OEL显示屏、长时间电池寿命的优点。     

精巧 也能如此精彩 Acer Aspire Revo迷你台式机

面对着臃肿庞大的机箱和日渐紧张的桌面空间，能够拥有一台机身轻巧但使用起来又八面玲珑的机器是许多人的梦想。现在好了，Acer Aspire Revo可以帮您轻松实现，仅需一个显示器的面积空间即可充分畅享各种实用乐趣体验。     

树立迷你组合新标准Denon(天龙)CX3迷你组合音响

不想要那些又大又重的分体式器材,但又想要真正的Hi-Fi享受?很多厂家的产品,像Arcam(雅骏) Solo、Linn(莲)Classik、Primare (翩美)CDI10都是其中的突出代表。但天龙的作法与这几家不同,它坚     

迷你、时尚、便捷——Samsung(三星)SP-P310ME LED迷你投影机

拥有大画面的视听享受是每一个影院爱好者所追求的目标,但前提条件是必须要有足够大的家庭空间。而对于居住环境相对窄小的朋友而言往往是一件遥不可及的事情。话虽如此,最近有些公司似乎了解到这部分人的需要,开始推出迷你型的投影机,例如之前Panasonic(松下)公司推出过一款型号为PT-P1SD的投影机。目的就是针对狭小空间的问题,并且能适应各种不同类型的环境。在这里向大家评价另一台由Samsung     

线阵列综述(二)

竞争者的资料制造商:JBL系统:VerTec型号:VT4889驱动器:3×3.81cm(1.5in),4×20.32cm(8in),2×38.1cm(15in)单个音箱重量:69kg最大阵列长度:16不同之处:当要开发新驱动器及使用新材料时,JBL可能是最有实力的一个。他们做出来的东西极富创意。例如,VerTec从表面上看与V-DOSC很相似,但它把重点放在箱体的重量及功率上。为了解决高频叠加的问题,JBL开发出了自己的Wave-Former波导。此外JBL的辐射边界合成器(RadiationBoundaryIntegrator,RBI)是可以“覆盖”中频单元的组件,其目的是消除所有(在高频及中频单元之间的)互调失真。吊…     

线阵列综述(一)

《电声技术》自2002年下半年开始，围绕“线阵列”这一主题作了介绍和讨论，对广大读者(也包括撰文的作者)了解“线阵列”这一新型的扬声器系统，无疑是很有帮助的，在读者中引起了很大反响。下面给读者推荐一篇题为“Line Array Round Up”(线陈列综述)的文章。文章记述了作者Christopher Holder对国际著名线阵列品牌的设计师和声学专家的访谈。访谈中，这些设计师和声学专家结合自己的设计体验，就线阵列的发展历程、线阵列原理、实现线阵列产品的多种技术与结构途径(即各自的专利技术)，不同品牌产品特点以及线阵列扬声器系统在整个扬声器产品中的“地位”进行了讨论。通过这篇文章，读者可从另一个层面更进一步地了解“线阵列”。总之，从这篇译文的内容来看，可以作为“线阵列”主题讨论的一个阶段性的总结。今后，《电声技术》仍将继续跟踪“线阵列”的发展动态，并及时报道线阵列的最新进展。     

微型迷你唱片(MD)——光学唱片家族的新贵

随着磁技术、光技术及电子技术的不断发展,迄今消费类电子产品正以日新月异的新姿展现在当代人的面前。音响类娱乐产品就是其中的姣姣者。音响载体媒介的多样化、小型化与数字化,媒体门类与品种的琳琅满目丰富了音响产品市场,     

(数据能信讲座之二) 数据调制解调器(中)

二、传统话带Modem 早期的话带Modem一般采用分立元件实现,传输速率低(1200bps以下),通常采用异步传输方式,设备体积庞大、笨重,功能较简单,接口不全,接口控制关系也不规范。但它的出现和应用毕竟在一定程度上满足了当时数据传输的需要。70年代后期,随着LSI和数字信号处理技术的飞跃发展,特别是自适应均衡技术和回波消除技术被引入到Modem中,Modem的传输速率和质量有     

发光二极管——发光二极管也能自制

发光二极管为什么会发光？ 我们知道,白炽灯是通过加热一根电阻丝到很高的温度来产生光的,所以点亮的灯泡表面通常都很烫。这表明电能除了转化成可见光以外,还有很大一部分转化成了不可见的热能（红外光）。     

音质令人惊喜的迷你Hi-Fi JRing(君聆) JMA系列迷你音响

JRing是一个很有特色的Hi-Fi音响品牌。它之所以有特色,是因为它所生产的音响外形都非常迷你,但产品的定位又不像一般的时尚迷你音响,而是向发烧音响的方向看齐。本文要介绍的JMA则是JRing第-款主打的放大器。JMA迷你音响由PA10前级搭配A70后级组合而成。虽然这两款产品的体积不大,但设计上都符合发烧音响的设计原则。     

焊球阵列封装(BGA)中吸水性测量概述

塑料焊球阵列封装(PBGA)对爆米花裂纹的抵抗力较小,一旦因焊接产生的高温使水汽迅速地扩展,就会发生此种现象。在粘片胶处发生爆米花现象,因此,必须研究在粘片胶附近发生的吸水性和解吸现象。本文主要讨论BGA中爆米花裂纹产生的机理,特别是对吸水性分布情况的探讨。用重水进行模拟分析,因为重水与水的吸收性比较接近。采用飞行时间次级离子质谱分析法(TOF-SIMS)来测量重水吸收性分布。弄清BGA封装主要是通过模塑包封部分的上部吸收水分的,由基板吸收的水分是少量的。因BGA基板具有叠层结构,水分不能首先透过基板。应优化BGA封装系统的设计,使其不易产生爆米花裂纹。     

迈进数字拾音时代——数字麦克风和阵列拾音技术的应用

随着数字信号处理技术的发展，使用数字音频技术的电子产品越来越多。数字音频接口成为发展的潮流，采用脉冲密度调制（PDM）接口的ECM和MEMS数字麦克凤也孕育而生。目前，ECM和MEMS数字麦克风已经成为便携式笔记本电脑拾音设备的主流。数字ECM或MEMS麦克风和传统的ECM麦克风相比，有着不可取代的优势。     

独立磁盘冗余阵列(RAID)控制器

从大型的数据中心到小型的办公室／家庭计算办公环境，RAID正变得无处不在。这项技术不再只是为世界500强企业而服务。同时，RAID新的体系结构允许将更多的模块用于数据存储，为用户提供类似于单一数据中心存储器的功能。     

扬声器线阵列测量技术(续完)

3 线阵列扬声器系统的测量 3.1室外自由场环境测量 线阵列扬声器主要是提供较大声压级和较强指向性以及较好的语音清晰度,而且使用的场合一般为较大的场馆或厅堂,因此阵列本身尺寸较大,质量重,一般使用时都吊装在高处或者堆叠在舞台前方,投射10 m甚至几十米外的听众区.线阵列扬声器系统的这些特点决定了它无法使用单个扬声器单元的测量方法,而且能反映线阵列扬声器系统的特性参数也与基于单个扬声器单元定义的特性参数有所不同.     

扬声器线阵列测量技术(待续)

有关扬声器线阵列测量目前并无统一的规范及方法。介绍了现有扬声器线阵列的测量技术及方法。指出在实验室环境下依据少量单元的声学测量预测扬声器大阵列声学辐射特性是未来研究的趋势。     

TFT-LCD阵列腐蚀性缺陷分析(英文)

在TFT-LCD的生产过程中,阵列金属被腐蚀是造成TFT-LCD产品缺陷(亮线、薄亮线等)的常见原因。文章对实际生产过程中阵列基板的一种典型腐蚀性缺陷,应用扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束(FIB)和能谱仪(EDS)等工具,并且结合BO(Business Objects)、CIM(Computer Integrated Manufacturing)等数据统计软件进行了分析。确定了造成缺陷的原因是栅金属暴露在含氯元素的酸性气体中被腐蚀,还确定了酸性气体的泄露源,并且推断出其形成机理:腐蚀发生在栅金属刻蚀(Gate Etch)工艺和多层膜沉积(Multi-Deposition)工艺之间,随后的多层膜沉积工艺的抽真空过程促进了缺陷的进一步形成。另外,针对发生此种缺陷时的应急措施进行了探讨。