一般生物洁净室在医院制剂的应用和讨论

从洁净室的土建设计、空调净化系统的设计施工及加强洁净室运行维护、技术管理等方面,介绍某生物洁净室投产后取得较好效果。     

生物洁净室的污染控制

生物洁净室的目的是控制细菌污染。通过对细菌特性、来源及污染途径的分析,确定了全方位、全过程控制的基本思想,即污染源控制,污染传播过程控制和交叉污染控制,通过分析微粒的运动特性,提出了空气途径污染的主要手段是气流流动控制和表面污染控制,最后分析了交叉污染的形成原因及其防治措施。     

为饮水机开发消毒灭菌功能

为了保证健康,很多家庭都购置了饮水机,但饮用水市场的水质参差不齐,且长期饮用对普通用户也是一笔不小的开支,为经济、健康,本文介绍一种为饮水机增加消毒灭菌装置的方法。一、饮水机工作原理饮水机的结构如附图所示。一般由蓄水箱A与加热水箱B、聪明座及矿泉水瓶等组成。当将矿泉水瓶装在饮水机上后,由于重力作用,水经聪明座流至水箱A,经C管到达加热箱B,而B     

空心彩钢石膏板在生物洁净室中的应用

空心彩钢石膏板各项性能均较为优异，应用在生物洁净室中，除作为房间隔断及吊顶板外，更可以作为布置工艺管道及电缆管线的夹道，以及空调系统的回风夹道。     

对制药洁净室空气洁净度等要求的分析

从洁净室设计的角度,对有代表性的有关世界组织及国家的药品生产质量管理规范（ＧＭＰ）或其指南中有关设计灭菌药品生产的洁净室（区）空气洁净度要求及气流形式、风速和换气次数等规定的差异进行对比分析。     

空气消毒杀菌用灯及发展

非典型肺炎主要是通过空气传染的，本文介绍了对空气进行消毒杀菌用的臭氧灯和紫外线灯，对两类杀菌器材的杀菌效果作了比较，提出了防止交叉感染的消毒方法和建议。     

超级洁净室的设计

当前国外集成电路发展的特点是: 1、对洁净度的要求越来越严格。净化控制的粒子1960年是0.5μm,以后是0.3μm,现在是0.1μm甚至更小。 2、工艺设备一般3～5年就需更新一次。     

生物洁净技术与生物安全

一、概论 当现代先进技术如宇航、精密电子、生物工程等倔起并得到广泛应用的时候,一般的<工艺卫生>技术已经不能满足需要,于是洁净技术便应运而生了。出于加速本国电子工业和宇航工业的迅速发展,1963年美国制定了空气洁净技术应用工程(洁净室)的第一个军用部分的标准209(FS209),随后在     

用臭氧管和紫外线灯进行消毒除臭的新进展

本文介绍了臭氧发生管和紫外线灯在居室和电冰箱内的消毒除臭方法，也介绍了一些新的消毒除臭方法。     

臭氧气发生管及其在消毒领域中的应用

臭氧气广泛用于医院、旅馆、工厂和公用场所的室内消毒、杀菌、除臭和净化空气，用于对医疗器具、餐具、茶具的消毒和食品保鲜。臭氧气处理装置能对矿泉水、自来水消毒和水净化。本文介绍了臭氧气制造方法及其在空气消毒、电冰箱除臭和水消毒中的应用。     

洁净厂房的送风模式

本文从分析洁净厂房的三种主要送风模式着手,指出近年来在我国大量采用的风机过滤器机组（FFU）的模式未必最佳,如果不是根据具体情况合理选择,而是盲目跟从,势必给投资,运行和管理带来负面影响。     

中小型洁净室技术改造的实用方法

针对中小型洁净室的技术改造提出了一种实用的方法，利用普遍空调机向洁净室空气主流区直接送冷风，减少了风管和阀件，可节约投资，提高制冷效率。该方法结构简单，施工和使用都很方便，对企业的挖潜增效有现实的指导意义。     

《洁净厂房设计规范》主要修改内容简介

介绍国家标准GB50073－2001的修订的主要内容和规范条文修改简介。     

洁净手术室净化空调系统设计探讨

洁净手术室空调设计是手术室洁净度，温湿度和压差的重要保证。本文着重从洁净手术室净化空调系统热湿处理方面对四种空调系统进行了粗浅的探讨和分析。     

对不同洁净室测试规范中条文差异的探讨

本文根据有关国家标准和行业标准，结合工程测试实践，对洁净室洁净度测定中必要测点数及每个测点的必要采样次数等问题进行探讨。     

洁净厂房压差控制问题探讨

针对药品生产厂房要求压差控制的多级性及稳定性。洁净室压差控制中设定值的选取，应从保证洁净度及节能两方面考虑。就实际应用中出现的问题，讨论了从设计、安装、调试、运行等多方面来保证压差控制稳定的方法。     

某100级计算机磁头生产厂的洁净空调设计

本文介绍磁头生产厂洁净空调系统设计的有关内容，给出了洁净空调主要设计参数、空调系统型式。工程通过美国NEBB测试。系统经过两年半的运行，情况正常，符合产品生产的要求。     

关于医院手术室净化空调设计方法的研讨

针对局部集中送风情况,提出了确定Ⅱ、Ⅲ级手术室送风温差及送风量的方法,采用集中新风系统,让循环风走干工况,最符合手术室对空调系统的要求。     

Wafer distribution system for a clean room using a novel magneticsuspension technique

A linear transport system, which is capable of reducing the weight of a moving carrier by separating power-supplying devices, is developed by using a new magnetic levitation technique. This system is designed to distribute a wafer between semiconductor fabrication process modules in clean rooms, because it can eliminate particles and oil contamination that normally exist in conventional transporter systems due to rubbing of mechanical components. The transport system consists of a wafer carrier, two levitation tracks, two stabilization tracks, and a propelling system. Levitation is achieved by using opposing forces produced between electromagnet tracks and permanent magnets. Stabilization is achieved by using a simple feedback control. The continuous propelling force is obtained by sending specific current patterns to the propulsion coils. The dynamic model of the transport system is presented, and it is verified by experiment. The system performance is experimentally investigated