日联科技产品介绍（semicon china）

日联科技成立于2002年，最初以研发生产电子装配行业的特种清洗机与自动光学检测设备为主营业务。2007年以市场为导向凭借勇于创新的精神和雄厚的实力突破微聚焦 X 射线检测技术，填补国内多项技术空白，成为国内首家微聚焦X 射线精密检测设备制造商。目前日联科技已成为国内集微聚焦 X 射线研发、生产、销售与服务为一体的高端检测装备国家级高新技术企业。研发生产的设备广泛应用于锂电池、电子制造（EMS）、集成电路、半导体、太阳能光伏、LED、连接器、汽车零部件、航天、军工等高端行业。     

热烈庆祝日联科技深圳新工厂 乔迁典礼胜和举行

2013年5月18日，日联科技深圳新工厂的乔迁典礼在一片热闹喜庆的庆贺声中圆满结束! 日联科技是国内从事精密x射线技术研究和X射线检测装备开发制造的高新技术企业。日联科技拥有中外从业多年的资深专业研发团队，承担了“国家重大科技02专项”的项目攻关，并和中科院、清华大学等科研机构联合突破射线影像的核心技术，目前已经取得40多项专利。产品有微聚焦X—RAY影像检测设备、图像线阵扫描设备、特种清洗装备、3D厚度测试仪以及专用非标自动化设备。     

X射线反射镜NiP芯模超精密车削技术研究

以聚焦型X射线反射镜的镍磷合金芯模为研究对象, 研究了单点金刚石超精密车削的切削深度、主轴转速、进给量等工艺参数对表面粗糙度的影响关系。结果表明,进给量对加工表面粗糙度影响相对最大,主轴转速、切削深度的影响呈弱相关关系。开展了NiP合金超精密车削工艺试验,得到切削深度、主轴转速、进给量的优化工艺参数,并初步建立了表面粗糙度预测模型。在此基础上,对Φ110 mm×140 mm的X射线反射镜镍磷合金芯模进行加工验证,获得了PV61.37~83.47 nm、RMS7.952~10.326 nm、Ra6.379~8.332 nm的表面粗糙度,圆度误差0.39 μm、斜率误差均方根值0.42 μm,满足X射线反射镜对芯模超精密车削需求,为后续大规格X射线反射镜超精密制造奠定了技术基础。     

X射线准分子激光的实用化研究

日本理化学研究所致力于X射线准分子激光器的实用化研究，从物理、生物学的基础研究到工程领域，指望用这种器件获得广泛用途。X射线激光作为蛋白质的精密结构分析和超大规模集成电路制造用的光源，它的实用化将指日可待。     

超快激光精密制造技术的研究与应用

超快激光以其超短的激光脉冲、超高功率密度、较低的烧蚀阈值、加工超精细及可实现冷加工等特点,近年来受到国际学术界和工程界的广泛关注。本文梳理了超快激光精密制造技术的发展历史,综述了超快激光精密制造技术在表面加工及三维加工领域的工艺研究及应用进展,并介绍了超快激光精密制造装备在国内外的研制情况,对今后超快激光精密制造技术研究的发展趋势进行了探讨和展望。     

盛美半导体设备(上海)有限公司

正盛美半导体设备(上海)有限公司是一家专注于集成电路制造产业中先进的湿法清洗及铜互连制程技术装备及工艺研发与生产的半导体装备公司,是中国少数几家具有世界领先技术及工艺的半导体装备制造商之一。公司立足于自主研发、精密制造和全球销售及服务,为芯片制造厂商提供最先进的装备及工艺。盛美半导体设备(上海)有限公司自主研发的空间交变相位移兆声波清洗技术解决了单片兆声波清洗能量分布均一性的技术难点,获得了优异的晶圆清洗效果,产品已销往韩国、中国台湾以及国内的主流集成电路制造公司。     

盛美半导体设备(上海)有限公司

正盛美半导体设备(上海)有限公司是一家专注于集成电路制造产业中先进的湿法清洗及铜互连制程技术装备及工艺研发与生产的半导体装备公司,是中国少数几家具有世界领先技术及工艺的半导体装备制造商之一。公司立足于自主研发、精密制造和全球销售及服务,为芯片制造厂商提供最先进的装备及工艺。盛美半导体设备(上海)有限公司自主研发的空间交变相位移兆声波清洗技术解决了单片兆声波清洗能量分布均一性的技术难点,获得了优异的晶圆清洗效果,产品已销往韩国、中国台湾以及国内的主流集成电路制造公司。     

达格推出新型高功率X射线管

诺信公司旗下X射线检测技术供应商达格精密工业宣布推出其高功率X射线管。     

中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室真空紫外—软X射线光学研究组简介

应用光学国家重点实验室建立以来.真空紫外一软X射线光学研究一直是该实验室的重点发展学科之一,其研究基础深厚、特点鲜明、研究水平处于国际前沿地位,主要从事真空紫外一软X射线光学的基础研究和应用基础研究,已形成从理论到实验.从光源、光学元件和探测器研究到实用仪器开发研制的研究体系,装备有国内先进的真空紫外一软X射线波段光谱测试和光学元件及系统的加工、检测设备,具有真空紫外一软X射线光学的综合研究能力.近期的主要研究方向包括软X射线多层膜技术研究;软X射线显微成像及投影光刻技术研究;真空紫外     

硅片超精密磨床的发展现状

硅片超精密磨床是半导体集成电路(IC)制造中的关键装备,主要应用于IC制程中的硅片制备加工和IC后道制程中图形硅片的背面减薄。国外硅片超精密磨床制造技术发展很快,具有高精度化、集成化、自动化等特点。介绍了超精密磨床在大尺寸(≥φ300mm)硅片超精密加工中的应用状况,详细评述了国外先进硅片超精密磨床的特点,并指出了大尺寸硅片超精密加工技术的发展趋势。     

精密光学零件加工技术的新进展

本文综述近十年来精密及特种光学零件光学制造领域出现的新工艺、新技术及其新型工艺装备的概况,反映了国外的最新进展与水平,同时也评述国内的现状。     

绘制亚微米离子束图形新法

日本某公司报道,它研究出一种绘制精密亚微米图形的基础技术.应用这项技术,在实验室条件下用聚焦离子束可绘出0.2微米宽的图形.新技术可望应用于容量大于4兆位的存贮器制造. 此技术需要提供100～300千伏电源输出和百分之0.07微米以下的聚焦镓离子束,图形的形成采用X射线、电子束和离子束.目前存在的缺点是精度还不     

光学光刻技术进展预测

<正>据《Solid State Technology》1991年12月报道,IEEE 1991年亚微米光刻技术讨论会在美国夏威夷举行。会议讨论了1997～2000年制造256Mbit和1 Gbit DRAM所需要的光刻技术。256Mbit和1 Gbit DRAM要求光刻特征线宽的尺寸为0.25μm和0.15μm。会议预测了X射线、电子束光刻和光学光刻技术作为实现上述要求的前景,还提出了精密尺寸测量的计量和缺陷检查等问题。     

盛美半导体设备(上海)有限公司

正盛美半导体设备(上海)有限公司是一家专注于集成电路制造产业中先进的湿法清洗及铜互连制程技术装备及工艺研发与生产的半导体装备公司,是中国少数几家具有世界领先技术及工艺的半导体装备制造商之一。公司立足于自主研发、精密制造和全球销售及服务,为芯片制造厂商提供最先进的装     

X射线曝光装置

光曝光技术的极限是0.5μm,人们期待着X射线曝光技术作为可以描画0.5μm以下图形的下一代技术。最近X射线曝光技术进展明显,听到有这样的看法:不一定要等待图形线宽小到0.5μm,只要进入1μm以下的亚微米时代,也就可以开始使用X射线曝光技术了。至今为止,研制和出售X射线曝光装置的厂家只有美国的Micronix公司一家。但是,以生产集成电路的厂家和制造光曝光装置的厂家为中心进行的X射线曝光机研制     

深空探测卫星准直器跨尺度栅格结构的激光精密微焊接技术与装备

深空探测是21世纪人类进行空间技术创新、太空资源探索与利用的重要途径，准直器是深空探测器的关键部件。大深度、高空间分辨率栅格准直器的制造在国际上一直是个难题。本文以我国自主研制的硬X射线调制望远镜卫星(HXMT)中能望远镜高精度准直器为例，介绍了自主研发的大深度、高空间分辨率准直器跨尺度栅格结构的激光精密微焊接制造方法、关键工艺技术及成套装备。对于壁厚为70μm、准直孔尺寸为1.17 mm×4.68 mm、深度为67 mm的钽片跨尺度栅格结构，准直孔尺寸精度控制在?SymbolqB@20μm之内。     

正业科技推出自动导航定位X光精密多层线路检测设备

近日,广东正业科技有限公司推出其自主研发的用于PCB板检测的自动导航定位X光精密多层线路检测设备（简称：X光检查机）。据悉,该项目是正业科技与电子科技大学光电信息学院自开展产学研结合项目后的又一硕果,其产品的成功问世,不仅填补了国内自动X射线检测（AXI）技术在实现对PCB产品高精度在线检测的空白,而且凭借其独特的检测方式和极大的工艺缺陷检测范围,     

微电子制造工程专业课程体系建设

微电子制造工程为综合性边缘学科，它包含了机械、微电子学、精密控制、精密激光加工技术、微电子组装和封装技术、集成电路制造技术、元件检测技术等多学科的专业。学生知识面广，就业面宽，且微电子产品为国内及国外的第一大产业，人才需求大，是一个非常有发展前途的朝阳产业。它的发展得益于以下几个方面：     

日联科技与清华合作以教育科研谋长远发展

我国著名自动化电子制造装备研发、制造、销售与服务的高科技企业日联科技在北京宣布和清华大学基础工业训练中心签订合作协议,并同时举办了X—RAY检测技术报告会。     

以复合折射透镜聚焦硬X射线

X射线显微术有可能用于不透明样品的无损检验 ,但却易于损坏生物样品。然而 ,由于此种辐射穿过许多状块材料影响很少 ,所以制造硬 X射线 (ke V范围的 X射线 )光学件很困难。有些技术可以制造聚焦硬 X射线的光学件 ,包括掠入射反射镜、多根毛细管、衍射透镜和多层膜反射镜 (其各个膜层的厚度仅为几个原子 ) ,但这些光学件存在效率低、成像质量差、高度复杂性等问题。现在莱茵西区高等技术学校物理研究所和欧洲同步辐射装置的研究人员已使成像 X射线光学件进入人们熟知的折射光学领域。他们已建造一种称为复合折射透镜 (CRL)的光学系统。…