NiTi根管锉镀膜改性的研究现状与进展

对NiTi根管锉在临床医疗上的使用情况和存在的问题进行了介绍,引出NiTi根管锉的表面改性需求和方法,并针对现有的各种镀覆改性膜层的制备技术、成分、性能进行了详细讨论,指出不同膜层在性能上的优势和局限,对镀膜NiTi根管锉的性能要求和表面改性膜层的发展进行了展望。     

多元氮化物薄膜及其沉积工艺对NiTi记忆合金性能和组织的影响

采用真空阴极电弧沉积技术,在NiTi记忆合金表面沉积了TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜,研究了薄膜成份及沉积工艺对NiTi合金性能和组织的影响.结果表明,在NiTi合金表面沉积TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜和TiN薄膜均可降低合金在Hank溶液中的Ni溶出速率,其中多元膜的Ni溶出速率最小;提高偏压对沉积了TiAlBN多元膜的NiTi合金的Ni溶出速率无明显影响,但使沉积了TiAlCrFeSiBN膜的NiTi合金的Ni溶出速率降低.在TiAlBN和TiAlCrFeSiBN多元膜表面存在较多细小的钛滴和孔隙,钛滴与薄膜基体之间的融合良好;在TiN薄膜表面存在一些大钛滴和孔隙,钛滴与薄膜基体之间的融合不好.镀膜后,NiTi基体的加热相变点移向低温区,其幅度与薄膜成份及沉积工艺有关,提高偏压使沉积了两种多元膜的NiTi基体的相变点移动幅度增大,但却使沉积了TiN膜的NiTi基体的相变点的移动幅度减小.镀膜过程均使NiTi中的M体尺寸增大.     

多孔NiTi记忆合金化学氧化和热氧化表面改性的对比研究

研究了多孔NiTi记忆合金在H2O2＋HCl溶液中的低温化学氧化过程和500℃的高温热氧化过程。通过对比分析2种表面氧化处理后合金表面氧化膜的形貌、Ni/Ti比及膜层生长动力学曲线,探讨了多孔NiTi合金表面和孔内氧化膜的生长特点。结果表明,利用2种表面氧化技术在合金表面和孔内获得的氧化膜Ni含量均明显低于基体,且合金孔内氧化膜Ni含量低于表面氧化膜;多孔NiTi合金孔内的氧化对于与氧亲和力弱的Ni而言更加困难,孔内氧化膜的生长速率低于表面氧化膜的生长速率。     

等离子体沉积非晶SiOx:H纳米膜层改性医用NiTi合金研究

采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶SiOx:H纳米膜层,并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征.结果表明,通过控制TMS和O2两种单体流速比和沉积时间,可控制材料表面亲疏水性和SiOx:H纳米膜层厚度.反应沉积的SiOx:H具有非晶的结构.其最优化条件为;μ(TMS):μ(O2)=1:4,系统压力3.33Pa,D.C 5W,沉积时间4min.所制备的膜层厚度约为45nm,表面去离子水接触角为30～40°.SiOx:H纳米膜层改性NiTi合金表面可提高材料的抗腐蚀性能.     

医用NiTi形状记忆合金表面氧化改性研究进展

氧化是NiTi形状记忆合金表面改性的重要手段,常用的氧化工艺包括热氧化、微弧氧化、阳极氧化和化学氧化。虽然四种工艺都依靠合金自身的Ti元素在合金表面原位生成以晶态或非晶态TiO2为主的氧化膜,但四种氧化工艺的原理及所制备的膜层形貌、结构等均不相同。本文评述了四种表面改性工艺的优势和缺陷,并对NiTi合金表面改性的发展方向进行了展望。     

电流密度对Sm-Fe电沉积膜显微组织及性能的影响

在室温下的水溶液体系中,采用恒流电沉积技术在Cu基体上制备了Sm-Fe合金薄膜。研究了电流密度对沉积膜层的表面形貌、厚度、元素含量以及物相组成的影响,并测试了制备出的Sm-Fe合金膜的磁性能。结果表明,银灰色的沉积膜由金属Sm、Fe及少量的O组成;随着电流密度的增加,膜层中Sm含量呈现先上升后下降的趋势;而Sm含量越多,膜层的表面越平整光亮;沉积膜主要由Sm Fe12、Sm3Fe5O12等化合物组成,电流密度影响了膜层中物相组成的含量,进而影响了膜层的磁性能。     

钼酸铅晶体表面红外增透膜的研究

本文讨论了用于钼酸铅晶体表面的宽带红外增透膜的设计以及其在真空环境中的制备。膜系设计中 ,运用反射率图解法以获得满意的光学性能 ;与传统的热蒸发镀膜工艺相比 ,在真空沉积过程中采用了离子辅助沉积技术 ,从而大大提高了膜层的光学特性及膜层品质。试验表明所镀膜层性能优异 ,在光纤通信领域具有广阔的应用前景     

NiTi合金微弧氧化的初步研究

在NiTi合金表面采用微弧氧化得到一层致密的氧化膜.采用X R D分析了薄膜的结构.结果表明在室温条件下在Na2SiO3电解液中通过微弧氧化可以在NiTi合金基体上得到一层氧化物膜层,具有硬度高、耐腐蚀性能强的特点,对于NiTi合金具有良好的保护作用.     

钴合金表面多层碳薄膜的制备及其性能研究

为了改善人工关节的生物摩擦学性能,采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术在Co-Cr-Mo合金基体表面制备了多层C/C膜。采用拉曼光谱对薄膜的结构进行了表征;利用原子力显微镜观察了多层C/C膜的表面形貌;采用CSEM纳米硬度计测试了多层膜的纳米硬度;在销盘式摩擦磨损试验机上考察了多层膜的生物摩擦学性能。结果表明:多层C/C膜为典型的类金刚石结构,其表面光滑致密,硬度高达52 GPa,它与SiC球在磷酸盐缓冲溶液中的稳定摩擦系数仅为0.012,明显提高了人工关节用材料钴合金的生物摩擦学性能。     

ZnO/Cu多层膜的制备及电磁屏蔽性能研究

采用磁控溅射法在涤纶水刺非织造布表面沉积纳米结构Cu单层膜和ZnO/Cu多层膜,利用原子力显微镜(AFM)对薄膜表面形貌进行分析,并利用四探针测试仪和矢量网络分析仪对样品的电学性能进行了测试。结果表明,在ZnO薄膜表面生长的Cu膜比在PET织物表面生长的Cu膜的均匀性、电学性能要好;在Cu镀膜时间相同的情况下,随着ZnO镀膜时间的增加,多层膜ZnO/Cu的电学性能先提高后降低,当ZnO镀膜时间为20min时,多层膜的电学性能达到最好;在ZnO镀膜时间相同的情况下,随着Cu镀膜时间的增加,多层膜ZnO/Cu的电学性能和织物表面颗粒均匀性经历了先提高、最后趋于稳定的过程,屏蔽效能最大平均值达到56dB。     

离子束合成TiO2薄膜对医用NiTi合金表面的改性

采用离子束增强沉积法制备TiO2薄膜,对医用NiTi合金进行表面改性处理。系统研究了薄膜的表面组成、结构、形貌及耐蚀性、亲水性等与血液相容性相关的表面性质。NiTi合金表面沉积TiO2薄膜后,抗模拟体液的腐蚀性提高,凝血时间延长。为进一步提高TiO2薄膜的抗凝血性,对TiO2薄膜的进一步表面改性－表面结合肝素分子进行了初步尝试,结果表明,薄膜表面组成发生变化,表面亲水性进一步提高。     

不同等离子源形成的DLC涂层对NiTi合金腐蚀行为的影响

采用等离子浸没离子注入和沉积(PIIID)法分别以C2H2和石墨为等离子源在NiTi合金表面形成DLC涂层来提高该合金的耐腐蚀性.利用Raman光谱和扫描电镜分析膜层结构.利用电化学测试和原子吸收光谱测试涂层前后基体的耐腐蚀性和Ni离子析出.结果表明:采用等离子浸没离子注入和沉积法以乙炔和石墨为等离子源在NiTi合金表面形成均匀致密、结合力良好的DLC涂层.两种涂层都明显地提高了NiTi合金的耐腐蚀性能和有效地抑制了Ni离子的溶出.     

钼酸铅晶体表面红外增透膜的研究

本讨论了用于钼酸铅晶体表面的宽带红外增透膜的设计以及其在真空环境中的制备，膜系设计中，运用反射率图解法以获得满意的光学性能，与传统的热蒸发镀膜工艺相比，在真空沉积过程中采用了离子辅助沉积技术，从而大大提高了膜层的光学特性及膜层品系，试验表明所镀膜层性能优异，在光纤通信领域具有广阔的应用前景。     

抗电子发射钼栅极的性能分析

利用真空离子沉积技术在钼栅极的表面分别镀上一层Ｃ膜Ａｌ膜ＡｌＴｌＺｒ合金膜,对镀膜后的样品进行寿命试验。用ＳＥＭ和ＸＲＤ分析技术镀膜样品受了阴极活性蒸发物Ｂａ污染前,污染后进行了对比研究,实验结果表明,逸出功较低的Ａｌ在受取Ｂａ污染后,能够生成金属间化合物,从而能够有效地抑制栅极发射,而沉积的Ｃ膜在受到污染后,逐渐被消耗而失去作用;在Ａｌ中加逸出功较高的ＴｉＺｒ合金后,破坏了金属间化合物的生成,并     

医用镍钛合金表面多层薄膜的制备及摩擦磨损和耐腐蚀性能

采用阳极氧化技术和射频磁控溅射技术在NiTi合金表面分别制备了TiO2薄膜以及Ti/TiN/TiO2多层薄膜。借助扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、摩擦磨损试验仪及电化学工作站等仪器对薄膜的形貌、结构、摩擦磨损性能及耐腐蚀性能进行了研究。结果表明,NiTi合金经表面处理后,其摩擦磨损性能和耐腐蚀性能均得以不同程度的改善,其中阳极氧化和磁控溅射复合处理的NiTi合金的耐磨性和耐蚀性具有最佳的配合。     

单晶硅掺杂类型对化学镀Ni -P膜的影响

本文采用化学镀的方法分别在P型、N型Si(100)表面制备了Ni -P膜,通过扫描电镜(SEM)及电子能谱仪(EDS)分析考察了同种制备条件下,在不同基底上镀膜的表面形貌和不同基底对镀层组分的影响;并用原子力显微镜(AFM)对不同基底上镀膜的平整度进行了研究.结果发现两种基底上的镀膜形貌、元素含量及镀膜平整度明显不同,...     

锆钒合金非晶膜的制备及性能研究

采用磁控溅射法制备出V/Zr比为2:1的非晶态锆钒合金膜,系统研究了合金膜的物相、表面成分、生长形貌和动态力学性能。研究结果表明,在533～773K的沉积温度区间内,合金膜呈现非晶态,表面存在约26nm厚的氧化层,其组成与膜基体显著不同;合金膜在钼基片上以球形岛状模式生长;膜的动态硬度DHT115和弹性模量Eit/(1-υ2)随沉积温度的升高在583K处出现极大值,分别达到436.8GPa和1.13E+5N/mm2。     

多弧离子镀(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜的制备及力学性能研究

采用多弧离子镀技术并使用合金靶Ti-Al-Zr制备(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜。利用扫描电镜、X衍射仪对(Ti,Al,Zr)N膜层表面、断面形貌、成分、结构进行观察测定;系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Zr)N膜层质量、膜/基附着力和硬度的影响;并对膜层抗热震性进行了研究。通过与TiN,(Ti,Al)N,(Ti,Zr)N等硬质膜进行比较,发现采用Ti-Al-Zr合金靶制备的(Ti,Al,Zr)N多元梯度膜有更高的硬度和膜/基附着力,硬度可达4000 HV,实现了从硬质膜到超硬膜的转变;膜/基附着力大于200 N,同时对沉积工艺有较强的适应性。     

NiTi合金表面液相阴极等离子体沉积氧化铝陶瓷涂层的研究

在NiTi合金表面通过液相阴极等离子体技术制备了氧化铝(Al2O3)陶瓷涂层。采用X射线衍射和扫描电镜对涂层的相组成以及表面形貌进行了表征和分析,证实在材料表面形成了由α-Al2O3和γ-Al2O3组成的涂层,发现涂层具有粗糙多孔结构。在模拟体液中对NiTi合金的Ni离子释放情况进行了检测,发现液相阴极等离子体改性后显著降低了Ni离子的释放。为NiTi合金植入体的表面改性提供了一条新途径。     

磁控溅射法制备柔性纺织面料基纳米薄膜的研究与进展

磁控溅射工艺技术是一种重要的镀膜技术,广泛应用于薄膜材料制备和材料的表面处理,应用于柔性纺织材料的表面镀膜也越来越广。本文主要介绍磁控溅射法在柔性纺织面料上制备纳米薄膜的研究和发展情况,包括镀制金属、合金、化合物或陶瓷、高分子材料等单层或多层薄膜,用以开发功能性纺织品的研究情况。介绍的镀膜包括银膜、铜膜、铝膜、钛膜及其金属氧化膜、聚四氟乙烯膜等。