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亚阈值电路是低功耗重要发展方向之一.随着电源电压降低,晶圆代工厂提供的标准单元电路性能容易受噪声和工艺偏差的影响,已经成为制约亚阈值芯片的瓶颈.该文提出一种基于施密特触发(ST)与反向窄宽度效应(INWE)的亚阈值标准单元设计方案.该方案首先利用ST的迟滞效应与反馈机制,在电路堆叠结点处添加施密特反馈管以优化逻辑门、减少漏电流、增强鲁棒性;然后,采用INWE最小宽度尺寸与分指版图设计方法,提高电路的开关阈值与MOS管的驱动电流;最后,在TSMC?65?nm工艺下构建标准单元的物理库、逻辑库和时序库,完成测试验证.实验结果表明,所设计的亚阈值标准单元与文献相比,功耗降低7.2%~15.6%,噪声容限提升11.5%~15.3%,ISCAS测试电路的平均功耗降低15.8%. 相似文献
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在进行数字系统设计时,必然会遇到各种各样的噪声。为了揭示噪声的根源,用实验的手法观察、分析数字电路噪声的波形,并根据实际的需要,试验出了用施密特触发电路去过滤数字电路中噪声的新方法。实践中,使用这种措施去抑制数码电子产品的噪声,都达到了事半功倍的效果。 相似文献
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——本文提出了一种基于亚阈值MOSFET的CMOS电压基准电路,它采用了与温度相关的阈值电压、峰值电流镜和亚阈值技术。此基准结构只由MOS晶体管和电阻组成,已经在SMIC 0.13μm CMOS工艺线上通过了流片验证。实验结果表明,基准电压输出在电源电压从0.5V变化到1.2V时具有2mV的变化,温度从-20℃变化到120℃时具有0.8mV的变化。该电路在室温时输出140mV,并且消耗电源电流仅为0.8uA,芯片面积占有0.019mm2。 相似文献
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基于SMIC 130nm工艺,提出了一种新的面向亚阈值的脉冲生成电路.设计中采用三输入与非门作为延时单元,更好地平衡单元的上拉延时和下拉延时,提高了延时路径的稳定性.新结构脉冲生成电路功能不受工艺偏差和温度变化的影响,在0.3V工作电压,不同工艺角以及-40~125℃温度范围内都能生成稳定可靠的脉冲信号. 相似文献
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利用工作于亚阈值的NMOS器件,产生两个负温度系数的电压源,然后将两个电压源作差,产生稳定的基准电压输出.整体电路采用HJTCl80 nrn标准CM()S工艺实现.仿真结果表明,基准源输出电压为220 mV,在一25℃到100℃的温度范围内的温度系数为68×10-6/ C.电路的最小供电电压可低至O.7 V,在供电电压O.7~4V范围内的线性调整率为1.5 mV/V.无滤波电容时,1 kHz的电源抑制比为-56 dB室温下,1.O V电压供电时,电路总体功耗为3.7μW.版图设计后的芯片核心面积为O.02 mm2.本文设计的电压源适用于低电压低功耗的条件. 相似文献
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基于0.18 μm CMOS工艺设计了一种高性能的亚阈值CMOS电压基准。提出了一个电压减法电路,将两个具有不同阈值电压且工作在亚阈值区晶体管的栅源电压差作为电压基准输出。所提出的电压减法电路还可以很好地消除电源电压变化对输出基准的影响。后仿仿真结果表明,所设计的电压基准在0.55~1.8 V电源电压范围内,线性灵敏度为0.053%/V~0.121%/V;在-20 ℃~80 ℃范围内,温度系数为9.5×10-6/℃~3.49×10-5/℃;在tt工艺角、0.55 V电源电压下,电源抑制比为-65 dB@100 Hz,功耗为3.7 nW。芯片面积为0.008 2 mm2。该电路适用于能量采集、无线传感器等低功耗应用。 相似文献
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ASIC设计方法可分为全定制和半定制两种。其中,半定制是一种约束性设计方式。目前广泛采用的半定制设计方法包括门阵列ASIC、标准单元ASIC和可编程逻辑芯片设计。文章主要针对后端工作,通过一个控制芯片的设计实例,介绍标准单元法的设计过程及重点步骤,并简单介绍了标准单元库的建立。 相似文献
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防DPA攻击的标准单元库的设计与实现 总被引:1,自引:0,他引:1
给出了一个功耗恒定标准单元库的设计实现方法,并利用该标准单元库实现了DES密码算法中的S-盒。实验结果表明,这种标准单元库能够很好地起到防DPA攻击的作用。 相似文献
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A 2D analytical model for transconductance, Sub-threshold current and Sub-threshold swing for Triple Material Surrounding Gate MOSFET (TMSG) is presented in this paper. Based on the solution of two dimensional Poisson equation, the physics based model of sub-threshold current of the device is derived. The model also includes the effect of gate oxide thickness and silicon thickness on the sub-threshold swing characteristics. Transconductance to drain current ratio of the triple material surrounding gate is calculated since it is a better criterion to access the performance of the device. The effectiveness of TMSG design was scrutinized by comparing with other triple material and dual material gate structures. Moreover the effect of technology parameter variations is also studied and proposed. This proposed model offers basic guidance for design of TMSG MOSFETs. The results of the analytical model are compared with the MEDICI simulation results thus providing validity of the proposed model. 相似文献
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用标准单元库和阵列方法进行混合电路的设计只有五、六年的历史。它们具有数字半定制芯片集成度高、速度快、功耗低的优点。但由于精度差、分辨率低,混合模拟数字电路的使用受到了限制。最近,由于先进的工艺技术和设计手段的出现,使得高性能混合模拟/数字ASIC成为可能,并将成为今后集成电路的主要方向之一。本文从单元库的建立、阵列结构、性能模拟诸方面综述了混合模拟/数字ASIC的设计进展。 相似文献
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针对传统ROM(Read-Only Memory)存储密度低、功耗高的问题,该文提出一种采用二极管单元并通过接触孔编程来存储数据的掩模ROM。二极管阵列采用双沟槽隔离工艺和无间隙接触孔连接方式实现了极高的存储密度。基于此设计了一款容量为2 Mb的掩模ROM,包含8个256 kb的子阵列。二极管阵列采用40 nm设计规则,外围逻辑电路采用2.5 V CMOS工艺完成设计。二极管单元的有效面积仅为0.017m2,存储密度高达0.0268 mm2/Mb。测试结果显示二极管单元具备良好的单元特性,在2.5 V电压下2 Mb ROM的比特良率达到了99.8%。 相似文献
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