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溅射沉积技术的发展及其现状 总被引：12，自引：4，他引：12
论述了溅射沉积薄膜技术的发展历程及其目前的研究应用状况.二极溅射应用于薄膜制备,揭开了溅射沉积技术的序幕,磁控溅射促使溅射沉积技术进入实质的工业化应用,并通过控制磁控靶磁场的分布方式和增加磁控靶数量,进一步发展为非平衡磁控溅射、多靶闭合式非平衡磁控溅射等,拓宽了应用范围.射频、脉冲电源尤其是脉冲电源在溅射技术中的使用极大地延伸了溅射沉积技术的应用范围. 相似文献
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一项技术应用的热度和广度,与其本身的技术优势、成熟度、适用性等密切相关。本文以文献数据可视化为手段对真空镀膜技术在世界范围内的研究及应用情况进行分析,以探究该技术的应用广度和热度特征,为真空镀膜技术装备的行业发展提供有益参考。研究发现离子束溅射、离子束辅助沉积、等离子体辅助物理气相沉积和原子层沉积技术是当前及以后一个时期内应重点关注的方向。 相似文献
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